[發明專利]光罩修補裝置、光罩修補方法及光罩修補液有效
| 申請號: | 201710559556.8 | 申請日: | 2017-07-11 |
| 公開(公告)號: | CN107315317B | 公開(公告)日: | 2020-11-27 |
| 發明(設計)人: | 宋江江 | 申請(專利權)人: | 深圳市華星光電技術有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/72 | 分類號: | G03F1/72 |
| 代理公司: | 廣州三環專利商標代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝傳鑫;熊永強 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 修補 裝置 方法 | ||
本發明提供一種光罩修補裝置,光罩修補方法及光罩修補液。所述光罩修補裝置用于修補帶有孔洞的光罩,所述光罩修補裝置包括:修補液存儲器、導管、電磁裝置,所述修補液存儲器用于存儲光罩修補液,其中,所述光罩修補液包括電磁材料,所述電磁材料具有磁性且吸收紫外光,所述導管的一端連接所述修補液存儲器,另一端開口,用于將所述修補液存儲器中存儲的光罩修補液導出,所述電磁裝置用于提供高頻交變電磁場,所述高頻交變電磁場為高頻電磁場且為交變電磁場,所述光罩修補液中的電磁材料在所述高頻交變電磁場的作用下震蕩運動,從而降低所述光罩修補液的粘度,以便所述光罩修補液從所述導管中流出。
技術領域
本發明涉及光罩修補領域,尤其涉及一種光罩修補裝置、光罩修補方法及光罩修補液。
背景技術
隨著半導體技術、液晶顯示技術等技術的飛速發展,作為半導體及液晶顯示器中的重要制作部件,市場對光罩的需求量越來越大,同時對光罩的精度和各項指標要求越來越高。在光罩的使用和制造的過程中,光罩內部的高精度圖像易受到損壞而產生孔洞,從而導致光罩報廢。此時,則需要對光罩進行修補,從而使得光罩可以再次使用。傳統的光罩修補方法通常是采用納米級石英導管注射,將光罩修補液通過石英導管注入到光罩的孔洞中,然后對光罩孔洞上的光罩修補液進行干燥定型固化,以達到修補光罩的效果。傳統的光罩修補液中一般包括金、樹脂及苯類溶劑。石英導管的口徑一般為0.5μm,在修補的過程中,光罩修補液的很難從0.5μm的石英導管中流出或者擠出,容易造成石英導管的折斷。若換大口徑的石英導管,光罩修補液容易流出或擠出,但是修補的厚度和精度都將難以控制,從而影響到修補的質量。
發明內容
本發明提供一種光罩修補裝置,所述光罩修補裝置用于修補帶有孔洞的光罩,所述光罩修補裝置包括:修補液存儲器、導管、電磁裝置,所述修補液存儲器用于存儲光罩修補液,其中,所述光罩修補液包括電磁材料,所述電磁材料具有磁性且吸收紫外光,所述導管的一端連接所述修補液存儲器,另一端開口,用于將所述修補液存儲器中存儲的光罩修補液導出,所述電磁裝置用于提供高頻交變電磁場,所述高頻交變電磁場為高頻電磁場且為交變電磁場,所述光罩修補液中的電磁材料在所述高頻交變電磁場的作用下震蕩運動,從而降低所述光罩修補液的粘度,以便所述光罩修補液從所述導管中流出。
相較于現有技術,本發明的光罩修補裝置中設置電磁裝置,電磁裝置提供高頻交變電磁場,所述高頻交變電磁場使得光罩修補液中的電磁材料震蕩運動,從而降低了光罩修補液的粘度,以使得光罩修補液更容易從導管中流出,使得石英導管不容易被折斷,且使得修補的光罩的厚度和精度都得到控制。
本發明還提供了一種光罩修補方法,應用于光罩修補裝置中,用于修補光罩的孔洞,所述光罩修補方法包括:
將光罩修補液裝入光罩修補裝置中的修補液存儲器中,其中,所述光罩修補液包括電磁材料,所述電磁材料具有磁性且吸收紫外光;
提供高頻交變電磁場給所述光罩修補液,所述高頻交變電磁場為高頻電磁場且為交變電磁場,所述高頻交變電磁場用于使得光罩修補液中的電磁材料震蕩運動,以降低所述光罩修補液的粘度;
將粘度降低后的光罩修補液通過與修補液存儲器相連通的導管滴注到光罩的孔洞上;
加熱滴注到所述孔洞上的光罩修補液預設時間,以使得所述光罩孔洞上的光罩修補液干燥定型固化。
相較于現有技術,本發明的光罩修補方法中使用包括電磁材料的光罩修補液,且提供高頻交變電磁場給光罩修補液,高頻交變電磁場使得光罩修補液中的電磁材料震蕩運動,降低了光罩修補液的粘度,以使得光罩修補液更容易從導管中流出,使得石英導管不容易被折斷,且使得修補的光罩的厚度和精度都得到控制。
本發明還提供了一種光罩修補液,所述光罩修補液包括電磁材料、樹脂及苯溶劑,所述電磁材料具有磁性且吸收紫外光,其中,所述電磁材料的質量分數為10%~15%,所述樹脂的質量分數為50%~60%,所述苯溶劑的質量分數為25%~40%。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





