[發(fā)明專利]基于結(jié)構(gòu)光與介質(zhì)微球聯(lián)合調(diào)制的微納結(jié)構(gòu)超分辨三維形貌檢測方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710559050.7 | 申請日: | 2017-07-11 |
| 公開(公告)號: | CN107388984A | 公開(公告)日: | 2017-11-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 周毅;唐燕;陳楚怡;鄧欽元;謝仲業(yè);田鵬;李凡星;胡松;趙立新 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學院光電技術(shù)研究所 |
| 主分類號: | G01B11/24 | 分類號: | G01B11/24 |
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| 地址: | 610209 *** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 結(jié)構(gòu) 介質(zhì) 聯(lián)合 調(diào)制 分辨 三維 形貌 檢測 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于光學檢測領(lǐng)域,具體涉及一種基于結(jié)構(gòu)光與介質(zhì)微球聯(lián)合調(diào)制的微納結(jié)構(gòu)超分辨三維形貌檢測方法。
背景技術(shù)
目前,微納結(jié)構(gòu)測量手段主要分為非光學、光學兩類。在非光學檢測中,主要有臺階儀,原子力顯微鏡(AFM),掃描電子顯微鏡(SEM)等手段,大多采用接觸式測量形式,精度高,但測量速度慢,范圍較小,易損傷器件表面,設(shè)備昂貴,在微納器件檢測過程中應(yīng)用受到限制。在光學檢測中,主要有共聚焦掃描顯微鏡,橢偏儀和白光干涉等手段,大多采用非接觸式測量,具有測量速度快、精度高等優(yōu)點,是微納結(jié)構(gòu)檢測的重要手段。
然而,現(xiàn)有光學測量方法,受限于光波衍射效應(yīng),橫向分辨力最高僅為200nm左右,而該成像分辨力已經(jīng)遠遠不能滿足人們對微納世界進行探索的需求。限制了其在高分辨力微納結(jié)構(gòu)檢測中的應(yīng)用,難以滿足微納結(jié)構(gòu)分辨力不斷提高的需要。如在半導(dǎo)體領(lǐng)域中,由于光刻技術(shù)的不斷突破,微納器件特征尺寸不斷接近技術(shù)極限,檢測分辨率成為了最大掣肘。
近年來,國內(nèi)外科研人員紛紛投入到光學超分辨檢測研究領(lǐng)域中,取得了許多重要突破。比如,2014年諾貝爾獎獲得者德國科學家Stephan W.和美國科學家William E.提出的受激發(fā)射損耗顯微技術(shù)(STED)和Eric Betz提出的光激活定位顯微術(shù)(PALM)。然而這些技術(shù)需要對生物樣品進行染色標記,無法適用于微納結(jié)構(gòu)器件形貌檢測。此外,針對微納結(jié)構(gòu)的超分辨測量技術(shù)研究還包括L.Gustafsson團隊提出的結(jié)構(gòu)光照明顯微技術(shù),去卷積技術(shù)以及光學共聚焦等,都在一定程度上能有效提升成像分辨率,但難以突破200nm橫向分辨率
在國內(nèi)也有不少科研院與高校對光學顯微超分辨的研究,但目前的光學超分辨顯微技術(shù)大多集中在二維平面成像上,在微納結(jié)構(gòu)三維形貌超分辨檢測中應(yīng)用極少。實現(xiàn)檢測精度高,橫向分辨率高的微納結(jié)構(gòu)三維形貌檢測方法仍然是目前國內(nèi)外需要繼續(xù)突破的難題。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述難題,本發(fā)明設(shè)計了所述的結(jié)構(gòu)光與介質(zhì)微球聯(lián)合調(diào)制的微納結(jié)構(gòu)超分辨三維形貌檢測方法,可以實現(xiàn)縱向高精度測量的同時提高橫向檢測精度。解決現(xiàn)有光學檢測方法橫向分辨力受限于衍射效應(yīng),無法突破200nm的瓶頸問題,滿足微納結(jié)構(gòu)特征尺寸不斷縮小,對高分辨力三維形貌檢測的迫切需求。
本發(fā)明采用的技術(shù)方案為:一種基于結(jié)構(gòu)光與介質(zhì)微球聯(lián)合調(diào)制的微納結(jié)構(gòu)超分辨三維形貌檢測方法,采用白光寬光譜光源,通過空間光調(diào)制器DMD對測量光場振幅進行編碼操控,同時將介質(zhì)微球放置于待測物體表面,縱向上,通過壓電陶瓷完成縱向高精度掃描,對CCD(Charge-Coupled Device)采集獲取的一系列結(jié)構(gòu)光調(diào)制圖進行算法解析,尋找獨立單個像素點調(diào)制度極值,實現(xiàn)對微納結(jié)構(gòu)的高度信息恢復(fù);橫向上,利用介質(zhì)微球產(chǎn)生超分辨三維光場的特性,通過顯微系統(tǒng)獲取得到突破衍射極限的超分辨成像;根據(jù)所得的縱向,橫向結(jié)構(gòu)信息,最后整合成空間三維數(shù)據(jù)信息,實現(xiàn)微納結(jié)構(gòu)的超分辨三維形貌檢測。
其中,采用白光寬光譜光源,通過空間光調(diào)制器DMD對測量光場振幅進行編碼操控,同時將介質(zhì)微球放置于待測物體表面。
其中,縱向上,通過壓電陶瓷完成縱向高精度掃描,對CCD(Charge-Coupled Device)采集獲取的一系列結(jié)構(gòu)光調(diào)制圖進行算法解析,尋找獨立單個像素點調(diào)制度極值,實現(xiàn)對微納結(jié)構(gòu)的高度信息恢復(fù)。
其中,橫向上,利用介質(zhì)微球產(chǎn)生超分辨三維光場的特性,通過顯微系統(tǒng)獲取得到突破衍射極限的超分辨成像。
其中,根據(jù)所得的縱向,橫向結(jié)構(gòu)信息,最后整合成空間三維數(shù)據(jù)信息,實現(xiàn)微納結(jié)構(gòu)的超分辨三維形貌檢測。
其中,利用5步相移法獲取每個像素點的調(diào)制度數(shù)值,由于其相移法解析的高精度特性,通過尋找調(diào)制度極值點及其對應(yīng)掃描位置,可高精度恢復(fù)高度信息。同時利用介質(zhì)微球的超分辨成像特性,提高橫向檢測分辨率,具有測量精度,實用性強的特點。
本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比的優(yōu)點在于:
(1)、結(jié)合可控結(jié)構(gòu)光和介質(zhì)微球調(diào)制,同時提高檢測的縱向,橫向精度,橫向分辨率更是突破衍射極限,實現(xiàn)微納結(jié)構(gòu)的三維超分辨檢測。滿足微納結(jié)構(gòu)特征尺寸不斷縮小,對高分辨力三維形貌檢測的迫切需求;
(2)、本發(fā)明中,相比傳統(tǒng)三維形貌檢測系統(tǒng)結(jié)構(gòu),無需增加系統(tǒng)復(fù)雜性即可實現(xiàn)更高精度的檢測,具有很強的使用性。
附圖說明
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國科學院光電技術(shù)研究所,未經(jīng)中國科學院光電技術(shù)研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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