[發(fā)明專利]曝光裝置、曝光方法以及物品制造方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710554192.4
• 申請日: 2017-07-10
• 公開（公告）號: CN107621754A
• 公開（公告）日: 2018-01-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 川島春名;大阪昇
• 申請（專利權(quán)）人: 佳能株式會(huì)社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所11038
• 代理人: 程晨

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及曝光裝置、曝光方法以及物品制造方法。

背景技術(shù)

在作為液晶顯示設(shè)備等的制造工序之一的光刻工序中，使用在使原版以及基板同步地移動(dòng)的同時(shí)，經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)將原版的圖案轉(zhuǎn)印到基板上的曝光區(qū)域的掃描型曝光裝置(掃描儀)。進(jìn)而，近年來，為了通過掃描儀應(yīng)對與基板的大形化相伴的曝光區(qū)域的大面積化，開發(fā)了將曝光區(qū)域分割為多個(gè)單位曝光區(qū)域(被攝區(qū)域)并對與各被攝區(qū)域?qū)?yīng)的圖案的像依次進(jìn)行曝光的方法。在該方法中，進(jìn)行使在與掃描方向正交的方向上鄰接的被攝區(qū)域的一部分相接合而曝光的接合曝光。

相接合的部分(接合部)由于鄰接的被攝區(qū)域的一部分相互重疊，所以曝光量比接合部以外的部分大，圖案的線寬在接合部和其以外的部分不均勻。作為使接合部和其以外的部分的曝光量變得均勻的曝光裝置，專利文獻(xiàn)1公開了通過設(shè)置于光源與原版之間的遮光板調(diào)節(jié)接合部的曝光量的曝光裝置。

【現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)】

專利文獻(xiàn)1：日本專利第3711586號公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

在掃描儀中，例如通過能夠調(diào)整狹縫寬度的狹縫狀的照射區(qū)域(照明光)對被攝區(qū)域進(jìn)行曝光。通過調(diào)整狹縫寬度，能夠使通過照明光進(jìn)行被攝區(qū)域的掃描曝光時(shí)的被攝區(qū)域內(nèi)的各位置的累計(jì)曝光量的分布變得均勻。然而，在上述專利文獻(xiàn)1中，在調(diào)整掃描方向上的狹縫寬度而變更了照射區(qū)域的情況下，非掃描方向上的各位置的累計(jì)曝光量的分布與未調(diào)整狹縫寬度的情況下的累計(jì)曝光量的分布不同。因此，可能難以使被攝區(qū)域內(nèi)的累計(jì)曝光量的分布變得均勻。

本發(fā)明的目的在于例如提供一種在曝光量的均勻化方面有利的曝光裝置。

為了解決上述課題，本發(fā)明的一個(gè)方面的曝光裝置是在使基板和原版移動(dòng)的同時(shí)針對每個(gè)被攝區(qū)域?qū)暹M(jìn)行掃描曝光的曝光裝置，該曝光裝置的特征在于，具有：整形部，對曝光被攝區(qū)域的曝光光進(jìn)行整形；照明部，調(diào)整曝光光的光量分布；以及控制部，控制整形部及照明部，控制部控制照明部以使在被攝區(qū)域內(nèi)在非掃描方向上分離的第一區(qū)域以及第二區(qū)域各自的累計(jì)的曝光量分布相等，控制整形部以使被攝區(qū)域中的掃描方向的累計(jì)曝光量均勻。

根據(jù)本發(fā)明，例如能夠提供一種在曝光量的均勻化方面有利的曝光裝置。

附圖說明

圖1是表示第一實(shí)施方式所涉及的曝光裝置的結(jié)構(gòu)的概略圖。

圖2是說明照度分布校正部的特征以及投影區(qū)域的形狀的圖。

圖3是說明調(diào)整可變狹縫機(jī)構(gòu)的開口形狀的機(jī)構(gòu)的圖。

圖4是表示進(jìn)行通常曝光的情況下的投影區(qū)域的圖。

圖5是表示進(jìn)行接合曝光的情況下的第一次掃描曝光時(shí)的遮光的情況的圖。

圖6是表示進(jìn)行接合曝光的情況下的第二次掃描曝光時(shí)的遮光的情況的圖。

圖7是表示投影區(qū)域和投影區(qū)域內(nèi)的接合寬度的關(guān)系以及投影區(qū)域內(nèi)的累計(jì)照度的分布的圖形。

圖8是表示以均勻的照度分布對投影區(qū)域進(jìn)行照明，如圖5以及圖6所示遮光地進(jìn)行接合曝光的情況下的曝光量的圖形。

圖9是表示在以圖7的(B)的照度分布對投影區(qū)域進(jìn)行照明的情況下，調(diào)整掃描方向的照度分布，如圖5以及圖6所示遮光地進(jìn)行接合曝光的情況下的曝光量的圖形。

圖10是表示在以圖7的(C)的照度分布對投影區(qū)域進(jìn)行照明的情況下，如圖5以及圖6所示遮光地進(jìn)行接合曝光的情況下的曝光量的圖形。

圖11是表示在光軸方向上驅(qū)動(dòng)柱透鏡的情況下的曝光量的分布的圖形。

圖12是表示第一實(shí)施方式的接合曝光的工序的流程圖。

圖13是在第二實(shí)施方式所涉及的曝光裝置中包含的照明光學(xué)系統(tǒng)的XY俯視圖。

圖14是表示投影區(qū)域和投影區(qū)域內(nèi)的接合寬度的關(guān)系以及投影區(qū)域內(nèi)的累計(jì)照度的分布的圖形。

圖15是表示進(jìn)行通常曝光的情況下的投影區(qū)域以及進(jìn)行接合曝光的情況下的遮光的情況的圖。

圖16是表示以均勻的照度分布對投影區(qū)域進(jìn)行照明并進(jìn)行了接合曝光的情況下的曝光量的分布的圖形。

圖17是表示第二實(shí)施方式的接合曝光的工序的流程圖。

(符號說明)

100：曝光裝置；114：復(fù)眼透鏡(光學(xué)元件)；117：可變狹縫機(jī)構(gòu)(整形部)；170：控制部；R：掩模原版(reticle)(掩模、原版)；W：基板。

具體實(shí)施方式

以下，參照附圖等，說明具體實(shí)施方式。

(第一實(shí)施方式)