[發明專利]曝光裝置、曝光方法以及物品制造方法

在審

• 申請號: 201710554192.4
• 申請日: 2017-07-10
• 公開（公告）號: CN107621754A
• 公開（公告）日: 2018-01-23
• 發明（設計）人: 川島春名;大阪昇
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所11038
• 代理人: 程晨

1.一種曝光裝置，在使基板和原版移動的同時針對每個被攝區域對所述基板進行掃描曝光，所述曝光裝置的特征在于，具有：

整形部，對曝光所述被攝區域的曝光光進行整形；

照明部，調整所述曝光光的光量分布；以及

控制部，控制所述整形部及所述照明部，

所述控制部控制所述照明部，以使在所述被攝區域內在非掃描方向上分離的第一區域以及第二區域各自的累計的曝光量分布相等，

所述控制部控制所述整形部，以使所述被攝區域中的掃描方向的累計曝光量均勻。

2.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

所述照明部具有：

第一光源，在所述非掃描方向上以第一曝光量分布射出對所述被攝區域進行曝光的光束；以及

第二光源，在所述非掃描方向上以第二曝光量分布射出對所述被攝區域進行曝光的光束，

所述控制部單獨地控制所述第一光源以及所述第二光源的輸出，使所述被攝區域中的所述非掃描方向的曝光量分布按照一次曲線狀變化。

3.根據權利要求2所述的曝光裝置，其特征在于，

所述照明部具有光學元件，該光學元件使所述被攝區域中的所述非掃描方向的曝光量分布按照二次曲線狀變化。

4.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

所述整形部配置于與所述原版以及所述基板在光學上共軛的位置，使所述掃描方向的所述曝光光的寬度變化。

5.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

所述曝光裝置具有：第一遮光部，能夠在所述被攝區域內進退以對所述第一區域的所述曝光光的一部分進行遮光；以及第二遮光部，能夠在所述被攝區域內進退以對所述第二區域的所述曝光光的一部分進行遮光，

對于第一被攝區域和在所述非掃描方向上與所述第一被攝區域鄰接的第二被攝區域，進行將所述第一被攝區域的所述第一區域和所述第二被攝區域的所述第二區域重疊的接合曝光。

6.根據權利要求5所述的曝光裝置，其特征在于，

所述第一遮光部以及所述第二遮光部配置于與所述原版以及所述基板在光學上共軛的位置的附近。

7.一種曝光方法，在使基板和原版移動的同時針對每個被攝區域對所述基板進行掃描曝光，所述曝光方法的特征在于，

調整對所述被攝區域進行曝光的曝光光的光量分布，以使在所述被攝區域內在非掃描方向上分離的第一區域以及第二區域各自的累計的曝光量分布相等，

對所述曝光光進行整形，以使所述被攝區域中的掃描方向的累計曝光量均勻。

8.一種物品的制造方法，其特征在于，具有：

使用權利要求1至6中的任意一項所述的曝光裝置在基板上形成圖案的工序；以及

對通過所述工序形成了所述圖案的所述基板進行處理的工序，

從被處理的基板得到物品。