[發(fā)明專利]一種無機(jī)電致變色電荷存儲電極及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710550005.5 | 申請日: | 2017-07-07 |
| 公開(公告)號: | CN107315299A | 公開(公告)日: | 2017-11-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉偉明;顏悅;韋友秀;陳牧;張曉鋒 | 申請(專利權(quán))人: | 中國航發(fā)北京航空材料研究院 |
| 主分類號: | G02F1/155 | 分類號: | G02F1/155;C23C14/08;C23C14/58 |
| 代理公司: | 中國航空專利中心11008 | 代理人: | 李建英 |
| 地址: | 100095*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 機(jī)電 變色 電荷 存儲 電極 及其 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于電致變色技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種無機(jī)電致變色電荷存儲電極及其制備方法。
背景技術(shù)
電致變色是在電流或電場的作用下,材料發(fā)生可逆的變色現(xiàn)象。早在二十世紀(jì)30年代就有關(guān)于電致變色的初步報(bào)道。60年代,Pkat在研究有機(jī)染料時(shí),發(fā)現(xiàn)了電致變色現(xiàn)象并進(jìn)行了研究。1969年,Deb發(fā)現(xiàn)在施加電壓的情況下,MoO3和WO3具有電致變色效應(yīng),Deb在此基礎(chǔ)上進(jìn)行了深入的研究并研制出了第一個(gè)薄膜電致變色器件。電致變色材料因?yàn)樵谥悄艽?smart window)、汽車防炫后視鏡、電致變色顯示器等方向具有巨大的潛在應(yīng)用價(jià)值,電致變色也正在走向產(chǎn)業(yè)化,具有廣闊的市場前景。
電致變色器件由透明導(dǎo)電層、電致變色層、電解質(zhì)層、離子存儲層構(gòu)成,其中電致變色層和離子存儲層的材料是互補(bǔ)型材料,可分為有機(jī)、無機(jī)兩大類,其中無機(jī)材料因具有穩(wěn)定的環(huán)境耐候性和較低的材料成本而廣受關(guān)注。一般作為離子存儲層的材料為氧化鎳(NiOx),五氧化二釩(V2O5),氧化銥(IrOx),氧化鈷(CoOx),氧化鎳鎢(WNiOx),氧化鈰(CeOx),普魯士藍(lán)(PB)等,這些材料的電荷量相對較低,影響器件的著色狀態(tài)的效果。也有一些電荷存儲量較高的材料應(yīng)用在電致變色器件中,例如:磷酸亞鐵鋰(LiFePO4),鈷酸鋰(LiCoO2),釩酸鋰(LiV2O5)等,針對這些材料的制備方法,常見的有溶液沉積法、溶膠凝膠法和涂覆法等,但這些材料及制備方法普遍透過率較低,制備工藝復(fù)雜、厚度制備不均勻、變色性能不一致、薄膜附著力較低等常見問題,會影響器件褪色狀態(tài)的透過率。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提出一種電致變色電荷存儲電極LiyFe2(MoO4)3(0≤y≤2)。該具有驅(qū)動(dòng)電壓低,透過率高,電荷容量較高,茶色著色態(tài),自身具有鋰源作為傳輸電荷的電荷存儲電極,該制備方法為真空物理氣相共沉積技術(shù),工藝簡單、成本較低的特點(diǎn),由此方法制備的電極薄膜具有鍍膜附著力強(qiáng),變色均勻一致等優(yōu)勢。
本發(fā)明通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)
電極的組成包括:透明基底層、透明導(dǎo)電層和電致變色電荷存儲層三部分,自上而下依次為電致變色電荷存儲層、透明導(dǎo)電層、透明基底層,電致變色電荷存儲層由LiyFe2(MoO4)3組成,其中:0≤y≤2;透明導(dǎo)電層為氧化銦錫、氟摻雜的二氧化錫、二氧化錫、氧化鋅、鋁摻雜的氧化鋅、鎵摻雜的氧化鋅中的一種或幾種薄膜復(fù)合;透明基底層為無機(jī)玻璃,聚酰亞胺,聚對苯二甲酸乙二醇酯或聚碳酸酯。
制備無機(jī)電致變色電極的方法是,
(1)透明基底預(yù)處理
分別利用丙酮、乙醇和純凈水依次對透明基底層進(jìn)行超聲清洗,氮?dú)獯祾吆笾糜诤嫦鋬?nèi)干燥處理,去除其表面的油污和雜質(zhì);
(2)真空物理氣相沉積制備透明導(dǎo)電層
利用磁控濺射方式、電子束蒸發(fā)方式或離子鍍方式制備透明導(dǎo)電層,透明導(dǎo)電層的方電阻為5-30Ω/□;
(3)真空物理氣相沉積復(fù)合預(yù)制層以及后續(xù)反應(yīng)熱處理結(jié)晶
利用FeO、MoO3和Li2O靶材,磁控濺射方式、電子束蒸發(fā)方式或離子鍍方式,共沉積制備復(fù)合預(yù)制層,所采用的沉積氣氛為氬氧混合氣,設(shè)定腔室沉積氣壓,制備復(fù)合層,之后置于氬氧氣氛退火爐內(nèi)進(jìn)行反應(yīng)熱處理,熱處理溫度范圍200~400℃,熱處理時(shí)間為10~120分鐘,熱處理氣氛為氬氧混合氣,氣壓范圍2.5×10-1~5×101Pa,氬氧比為2/1~1/2,得到電荷存儲層化學(xué)計(jì)量比為LiyFe2(MoO4)3,其中:0≤y≤2;的電致變色薄膜。
所述沉積氣氛為氬氧混合氣,沉積氣壓范圍1×10-2~3Pa,氬氧比為5/1~1/4。
所述電荷存儲層LiyFe2(MoO4)3薄膜厚度范圍100~400nm。
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G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
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