[發明專利]一種光刻膠用剝離液及其制備方法和應用

有效

• 申請號: 201710549836.0
• 申請日: 2017-07-07
• 公開（公告）號: CN107168021B
• 公開（公告）日: 2020-06-02
• 發明（設計）人: 羅堂富
• 申請（專利權）人: 綿陽艾薩斯電子材料有限公司
• 主分類號: G03F7/42
• 分類號: G03F7/42
• 代理公司: 成都行之專利代理事務所(普通合伙) 51220
• 代理人: 陳蔣玲

本發明公開了一種光刻膠用剝離液，包括酯基季銨氫氧化物、水溶性有機溶劑、非離子表面活性劑、去離子水，以重量計，酯基季銨氫氧化物為5?28％，水溶性有機溶劑為50?65％，非離子表面活性劑為0.5?2％，其余為去離子水。本發明能夠控制堿度變化，使得堿度變化在一個很小的穩定范圍內，有利于剝離工作的連續有效的進行；并且本發明還能夠減緩銅的腐蝕進程，保證面板不受損傷。

技術領域

本發明涉及液晶顯示器薄膜晶體管和觸摸屏行業電子化學品技術，具體涉及一種光刻膠用剝離液及其制備方法和應用。

背景技術

液晶面板的生產過程大致是這樣的：制造的前段Array制程主要是“薄膜、黃光、蝕刻、剝膜”四大部分。首先，需要在TFT玻璃上沉積ITO薄膜層，這樣整塊TFT玻璃上就有了一層平滑均勻的ITO薄膜。然后用離子水，將ITO玻璃洗凈，準備進入下一步驟。然后要在沉積了ITO薄膜的玻璃上涂上光刻膠，在ITO玻璃上形成一層均勻的光阻層。然后烘烤一段時間，將光刻膠的溶劑部分揮發，增加光阻材料與ITO玻璃的粘合度。用紫外光(UV)通過預先制作好的電極圖形掩模版照射光刻膠表面，使被照光刻膠層發生反應，在涂有光刻膠的玻璃上覆蓋光刻掩模版在紫外燈下對光刻膠進行選擇性曝光。

在涂覆光阻層的過程中，容易發生涂覆不良現象，而不良數達到一定數量后，基板就必須重工。現有技術中的剝離液在連續使用過程中，反應溫度較高，水分和有機組分不斷蒸發，反應環境變化越來越大，導致剝離液的堿度變化很大，剝離環境變化劇烈，不能做為COA制程基板的再生，因COA基板的再生是需要保留基板上的Cu/Al線路及PV層，而之前廣泛使用的需在較高反應溫度下的剝離液會對需保留的Cu/Al線路及PV層造成腐蝕，從而造成基板不能再次使用。

如CN102944986A中公開了一種由吡咯烷酮、亞砜、醇醚、季銨、堿和水按一定比例混合而成的芯片用聚酰亞胺剝離液。

如CN 102216855 B中公開了一種用于制造LCD的光致抗蝕劑剝離組合物，涉及作為弱堿性復合物的水性結合的光致抗蝕劑剝離組合物，所述組合物包含叔烷醇胺、水和有機溶劑。

上述剝離組合物在使用過程中，均需要不斷添加水分，否則隨著時間的推移，剝離液的堿度就會發生很大變化，造成光阻的剝離時間縮短，溶解不及時，從而發生設備堵塞等情況產生，不利于連續生產。

發明內容

本發明目的在于提供一種光刻膠用剝離液，該光刻膠用剝離液無需添加水分，就能夠控制剝離液環境的堿度變化，使得剝離液在長時間生產過程中的剝離能力保持不變，在保持應有的剝離效率和質量的同時，不會對基板需要保留的Cu/Al及PV層造成腐蝕。還公開了一種制備方法和應用。

本發明通過下述技術方案實現：

一種光刻膠用剝離液，包括酯基季銨氫氧化物、水溶性有機溶劑、非離子表面活性劑、去離子水，以重量計，酯基季銨氫氧化物為5-28％，水溶性有機溶劑為50-65％，非離子表面活性劑為0.5-2％，其余為去離子水。

酯基季銨氫氧化物為單酯基季銨氫氧化物、雙酯基季銨氫氧化物中的一種或兩種，

如式Ι所示，R₁、和R₃均選自C1-C5的烷基，R₂選自C1-C5的烷基或C1-C5的酯基，n為1-5中的任意整數，R₄為烷基。

以重量計，酯基季銨氫氧化物為15-25％。

以重量計，水溶性有機溶劑為55-60％。

以重量計，非離子表面活性劑為0.8-1.2％。

由酯基季銨氫氧化物、水溶性有機溶劑、非離子表面活性劑、去離子水組成。