[發(fā)明專(zhuān)利]真空成膜裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710549204.4 | 申請(qǐng)日: | 2017-07-07 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107587104B | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-05-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 河野貴志;石井博;佐藤智之 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 佳能特機(jī)株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C14/04 | 分類(lèi)號(hào): | C23C14/04;C23C14/54;C23C14/24 |
| 代理公司: | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所 11038 | 代理人: | 朱龍 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 真空 裝置 | ||
1.一種真空成膜裝置,所述真空成膜裝置具備:真空槽、設(shè)置在該真空槽內(nèi)的對(duì)基板進(jìn)行支承的基板支承體及對(duì)掩模進(jìn)行支承的掩模支承體、和對(duì)準(zhǔn)機(jī)構(gòu),該對(duì)準(zhǔn)機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述真空槽外,用于調(diào)整由所述基板支承體支承的基板與由所述掩模支承體支承的掩模的相對(duì)位置,其特征在于,
所述真空成膜裝置具有第一固定構(gòu)件和第二固定構(gòu)件,所述第一固定構(gòu)件設(shè)置所述對(duì)準(zhǔn)機(jī)構(gòu)且抵接固定于所述真空槽的槽壁外表面,所述對(duì)準(zhǔn)機(jī)構(gòu)連接所述基板支承體,所述第二固定構(gòu)件設(shè)置所述掩模支承體且抵接固定于所述真空槽的槽壁內(nèi)表面,所述第一固定構(gòu)件的與所述槽壁外表面抵接的抵接端部和所述第二固定構(gòu)件的與所述槽壁內(nèi)表面抵接的抵接端部隔著所述槽壁設(shè)置在相對(duì)位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空成膜裝置,其特征在于,
所述第一固定構(gòu)件及所述第二固定構(gòu)件的隔著所述槽壁設(shè)置在相對(duì)位置的抵接端部被設(shè)置多組。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的真空成膜裝置,其特征在于,
所述第一固定構(gòu)件及所述第二固定構(gòu)件的隔著所述槽壁設(shè)置在相對(duì)位置的抵接端部分別被設(shè)定成如下的形狀:在將一方的所述抵接端部的抵接端面向另一方的所述抵接端部所抵接的槽壁面進(jìn)行投影的投影面內(nèi),收納所述另一方的抵接端部的抵接端面。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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