[發明專利]真空成膜裝置

有效

• 申請號: 201710549204.4
• 申請日: 2017-07-07
• 公開（公告）號: CN107587104B
• 公開（公告）日: 2020-05-05
• 發明（設計）人: 河野貴志;石井博;佐藤智之
• 申請（專利權）人: 佳能特機株式會社
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/54;C23C14/24
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 朱龍

本發明提供一種真空成膜裝置，其能夠以簡易的結構抑制以真空槽的槽壁的變形為起因的基板與掩模之間的位置偏離。該真空成膜裝置具備真空槽(1)、設置在該真空槽(1)內的基板支承體(3)及掩模支承體(5)、設置在真空槽(1)外且用于調整由基板支承體(3)支承的基板(2)與由掩模支承體(5)支承的掩模(4)的相對位置的對準機構(6)，其中具有第一固定構件(7)和第二固定構件(8)，該第一固定構件設置連接有基板支承體(3)的對準機構(6)且抵接固定于真空槽(1)的槽壁外表面，該第二固定構件設置掩模支承體(5)且抵接固定于真空槽(1)的槽壁內表面，第一固定構件(7)的與槽壁外表面抵接的抵接端部(9)和第二固定構件(8)的與槽壁內表面抵接的抵接端部(10)隔著槽壁設置在相對位置。

技術領域

本發明涉及真空成膜裝置。

背景技術

在真空成膜裝置中，近年來，由于與基板的大型化相伴的真空槽的大型化，從而真空時的真空槽的槽壁的變形增大。

因此，即使在真空槽內為大氣壓的狀態下調整(對準)基板與掩模的位置關系，在真空槽內為真空時由于槽壁的變形，基板與掩模的位置關系也會產生偏離，有時會給基板與掩模的對準精度造成影響。

圖1示出大氣時的真空成膜裝置，圖2示出真空時的真空成膜裝置。A是對基板進行支承的基板支承體，B是對掩模C進行支承的掩模支承體，D是真空槽，E是蒸發源，F是將基板支承體A固定于真空槽D的固定構件，G是將掩模支承體B固定于真空槽D的固定構件，H是進行基板與掩模的位置調整的對準機構。

如圖1及圖2所圖示那樣，基板支承體A及掩模支承體B都經由固定構件F、G而固定在真空槽D的槽壁的分別不同的位置。然而，槽壁的變形的程度因位置而不同，因此基板支承體A的點a處的位移量與掩模支承體B的點b處的位移量分別不同，相應于該位移量的差量δ而掩模與基板支承面的間隔I和I’產生差別。

即，以所述位移量的差量δ為起因而存在基板支承體A及掩模支承體B的位置關系偏離且支承于它們的基板及掩模產生位置偏離的情況。

因此，例如在專利文獻1中，將設有基板支承體及掩模支承體的對準機構載置于在真空槽的上方設置的支承板，在支承板與真空槽的頂板之間設置使該支承板與真空槽的頂板分離的腿部，由此抑制基板與掩模之間的位置偏離。

【在先技術文獻】

【專利文獻】

【專利文獻1】日本特開2012-33468號公報

發明內容

【發明要解決的課題】

然而，專利文獻1公開的結構是在對準機構設置基板支承體及掩模支承體這雙方的結構，需要將它們一并設置在真空槽的上方，因此對準機構大型化、復雜化，成本升高不可避免，并且不現實。

本發明鑒于上述的現狀而作出，提供一種真空成膜裝置，其能夠以簡易的結構抑制以真空槽的槽壁的變形為起因的基板與掩模之間的位置偏離。

【用于解決課題的方案】

一種真空成膜裝置，其具備：真空槽、設置在該真空槽內的對基板進行支承的基板支承體及對掩模進行支承的掩模支承體、和對準機構，該對準機構設置在所述真空槽外，用于調整由所述基板支承體支承的基板與由所述掩模支承體支承的掩模的相對位置，其特征在于，所述真空成膜裝置具有第一固定構件和第二固定構件，所述第一固定構件設置所述對準機構且抵接固定于所述真空槽的槽壁外表面，所述對準機構連接所述基板支承體，所述第二固定構件設置所述掩模支承體且抵接固定于所述真空槽的槽壁內表面，所述第一固定構件的與所述槽壁外表面抵接的抵接端部和所述第二固定構件的與所述槽壁內表面抵接的抵接端部隔著所述槽壁設置在相對位置。

【發明效果】