[發明專利]器件制造系統及圖案形成裝置

有效

• 申請號: 201710545966.7
• 申請日: 2014-06-25
• 公開（公告）號: CN107255908B
• 公開（公告）日: 2019-08-06
• 發明（設計）人: 鈴木智也;小宮山弘樹;加藤正紀;渡邊智行;鬼頭義昭;堀正和;林田洋祐;木內徹
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L51/00
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 陳偉;李文嶼

本發明涉及器件制造系統及圖案形成裝置，目的在于進一步減少對曝光單元帶來的振動，通過曝光單元良好地進行曝光。基板處理裝置(U3)具有：設在設置面(E)上的減振臺(131)；設在減振臺(131)上且對供給的基板(P)進行曝光處理的曝光單元(121)；和設在設置面(E)上且與曝光單元(121)以非接觸的獨立狀態設置、并作為對曝光單元(121)進行處理的處理單元的位置調整單元(120)及驅動單元(122)。

本申請是PCT國際申請號為PCT/JP2014/066885、申請日為2014年6月25日、國家申請號為201480049332.7、發明名稱為“基板處理裝置、器件制造系統、器件制造方法及圖案形成裝置”的發明專利申請的分案申請。

技術領域

本發明涉及用于在基板上形成電子器件用圖案的基板處理裝置、器件制造系統、器件制造方法及圖案形成裝置。

背景技術

以往，如日本特開平9-219353號公報所示，作為基板處理裝置，公知有對設于在平板上移動的移動載臺上的基板進行器件圖案的曝光的曝光裝置。該曝光裝置的平板經由具有減振機構的安裝部件而支承在基臺上。移動載臺在設于平板上的可動引導件上沿X方向移動。可動引導件通過設于基臺上的兩臺線性馬達而在平板上沿Y方向移動。兩臺線性馬達設在基臺的X方向的兩側，以非接觸的方式使可動引導件沿Y方向移動。也就是說，各線性馬達具有動子和定子，定子固定在基臺上，另一方面，動子分別固定在可動引導件的X方向的兩側，動子與定子為非接觸狀態。上述日本特開平9-219353號公報的曝光裝置中，由于線性馬達的動子及定子為非接觸狀態，所以抑制了因外部干擾產生的振動經由可動引導件及移動載臺而傳遞到平板上。

發明內容

在上述特開平9-219353號公報的曝光裝置中，通過兩臺線性馬達使可動引導件在平板上沿Y方向移動，同樣地，移動載臺相對于可動引導件的移動也利用線性馬達來進行。該情況下，線性馬達也以非接觸的方式使移動載臺沿X方向移動。但是，由于在平板上使移動載臺相對于可動引導件移動，所以因移動載臺的移動而產生的振動可能傳遞到平板。

另外，上述日本特開平9-219353號公報的曝光裝置在移動載臺上保持基板來進行曝光，但不限于該結構，也存在以連續狀態供給膜狀的基板并針對供給的基板對器件圖案進行掃描曝光的情況。該情況下，在供給基板時，基板可能會振動。

本發明的方案是鑒于上述課題而研發的，其目的在于提供一種能夠進一步降低對曝光單元帶來的振動、并通過曝光單元良好地進行曝光的基板處理裝置、器件制造系統、器件制造方法及圖案形成裝置。

本發明的第1方案為一種基板處理裝置，具有：減振臺，其設在設置面上；曝光單元，其設在上述減振臺上，且對供給的基板進行曝光處理；和處理單元，其設在上述設置面上且與上述曝光單元以非接觸的獨立狀態設置，并對上述曝光單元進行處理。

本發明的第1方案為上述基板處理裝置，也可以是，上述處理單元包括對向上述曝光單元供給的上述基板的寬度方向上的位置進行調整的位置調整單元，上述位置調整單元具有：基臺，其設在上述設置面上；寬度方向移動機構，其設在上述基臺上，且使上述基板相對于上述基臺沿上述基板的寬度方向移動；和固定輥，其設在上述基臺上，將通過上述寬度方向移動機構進行位置調整后的上述基板朝向上述曝光單元引導，并且，該固定輥相對于上述基臺的位置是固定的。

本發明的第1方案為上述基板處理裝置，也可以是，還具有：第1基板檢測部，其固定地設在上述基臺上，檢測供給到上述固定輥的上述基板的寬度方向上的位置；和控制部，其基于上述第1基板檢測部的檢測結果來控制上述寬度方向移動機構，從而將供給到上述固定輥的上述基板的寬度方向上的位置修正為第1目標位置。