[發(fā)明專利]一種射頻組件集成方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710529729.1 | 申請(qǐng)日: | 2017-07-02 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107275226A | 公開(公告)日: | 2017-10-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 宋志東;宋云乾;李曦 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國航空工業(yè)集團(tuán)公司雷華電子技術(shù)研究所 |
| 主分類號(hào): | H01L21/50 | 分類號(hào): | H01L21/50 |
| 代理公司: | 北京航信高科知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11526 | 代理人: | 高原 |
| 地址: | 214063 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 射頻 組件 集成 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于電磁場與微波技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種射頻組件集成方法。
背景技術(shù)
當(dāng)前射頻微系統(tǒng)的快速發(fā)展,對(duì)射頻組件的尺寸提出了越來越嚴(yán)苛的要求。基于傳統(tǒng)制造工藝的射頻電路集成方法已經(jīng)無法滿足射頻組件小型化、超薄化的要求。新方法通過進(jìn)一步開發(fā)硅基三維異質(zhì)集成工藝,利用硅基基板完成多層疊層布局,從而大大縮小射頻組件體積。
目前典型的射頻組件集成方法主要有以下幾種:
1)基于多層微波印制板工藝的電路集成方法。
基于多層印制板(PCB)工藝的射頻電路集成方法通過表面貼裝元器件、內(nèi)部完成信號(hào)走線的形式完成射頻電路的集成。經(jīng)過多年的發(fā)展,目前已經(jīng)極為成熟可靠,被廣泛的應(yīng)用于射頻組件集成中。但是存在加工精度低、通孔設(shè)計(jì)不靈活、埋置元器件難度高等缺點(diǎn),目前已無法滿足射頻組件超薄化的要求。
2)基于低溫共燒陶瓷(LTCC)工藝的電路集成方法。
LTCC工藝是上世紀(jì)90年代開始興起的一種電路基板制造工藝,相較于PCB工藝,LTCC的加工精度更高,通孔設(shè)計(jì)更靈活。但是其缺點(diǎn)也很明顯,由于陶瓷本身的質(zhì)地較脆,LTCC基板在使用中容易碎裂,基板尺寸無法做大。且也存在無法埋置大量元器件等缺點(diǎn),不利于射頻組件的小型化設(shè)計(jì)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種射頻組件集成方法,克服或減輕現(xiàn)有技術(shù)的至少一個(gè)上述缺陷。
本發(fā)明的目的通過如下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):一種射頻組件集成方法,包括如下步驟,
步驟一:根據(jù)電路設(shè)計(jì)加工各層硅基板,完成各層基板的硅腔與TSV加工;
步驟二:完成各層硅基板的金屬化,根據(jù)電路設(shè)計(jì)完成各層基板上的金屬圖案繪制,并完成阻容元件、濾波電路等無源器件的內(nèi)嵌加工;
步驟三:通過晶圓鍵合工藝組合相應(yīng)的硅基基板,形成埋置元器件所需要的腔體;
步驟四:進(jìn)行芯片微組裝,將射頻電路中的元器件安裝在相應(yīng)的腔體內(nèi);
步驟五:通過晶圓鍵合工藝完成所有硅基基板層的互聯(lián);
步驟六:進(jìn)入封裝間進(jìn)行進(jìn)一步的三維堆疊,根據(jù)需要選擇在上下表面安裝其他元器件。
優(yōu)選地是,所述步驟一中的各層所述硅基板的厚度為150μm~500μm之間。
優(yōu)選地是,所述步驟一中的所述硅腔尺寸為:1×1~6×6mm2、腔體深度20~200μm。
優(yōu)選地是,所述步驟一中的所述TSV通孔開孔尺寸為3μm~100μm之間、深寬比≤10:1。
優(yōu)選地是,所述步驟二中的所述金屬圖案繪制的精度≤1μm。
優(yōu)選地是,所述步驟二中的所述金屬材料為金、銀、鋁或者銅。
優(yōu)選地是,所述步驟三中的所述晶圓鍵合工藝為金屬鍵合與絕緣體鍵合。
優(yōu)選地是,所述金屬鍵合為Al-Ge鍵合工藝、Au-Sn鍵合工藝、Cu-Sn鍵合工藝、Au-Au鍵合工藝或者Cu-Cu鍵合工藝。
優(yōu)選地是,所述絕緣體鍵合為Si-Si鍵合工藝、Si-SiO2鍵合工藝或者SiO2-SiO2鍵合工藝。
本發(fā)明所提供的一種射頻組件集成方法的有益效果在于,1)加工精度高:相比于PCB/LTCC工藝最小布線尺寸100um,誤差10um這樣的精度,硅基集成工藝可以達(dá)到最小布線尺寸10um,誤差1um的精度。更高的精度非常有利于集成電路的小型化。2)元器件可以全部內(nèi)埋,表面可以做到光潔無外露元器件。基于該方法完成的射頻組件可以極為方便的嵌入到射頻微系統(tǒng)中,有利于系統(tǒng)級(jí)集成。3)集成尺寸小,有利于組件小型化、超薄化:本方法集成的組件其體積相比與現(xiàn)有產(chǎn)品縮小10倍以上。4)批量生產(chǎn)成品率高,并可以大大減少射頻鏈路調(diào)試量:該方法采用先進(jìn)硅基三維異質(zhì)集成工藝,從基板制造到組件集成完全由高精度芯片集成生產(chǎn)線完成。批量一致性高,可以省去絕大部分調(diào)試工作。該方法可以用于小型化組件的設(shè)計(jì)上,也可以用于其他有小型化需求的數(shù)字與邏輯控制組件的設(shè)計(jì)中。
附圖說明
圖1為本發(fā)明射頻組件架構(gòu)示意圖;
圖2為本發(fā)明射頻組件集成流程圖。
具體實(shí)施方式
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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