[發(fā)明專利]基板缺陷檢査裝置和缺陷檢査用靈敏度參數(shù)值調(diào)整方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710526715.4
• 申請(qǐng)日: 2017-06-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107561872B
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-03-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 北田泰裕;葉瀨川泉;富田浩;中山浩介;西山直
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 北京尚誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

本發(fā)明能夠自動(dòng)對(duì)檢査基板的缺陷時(shí)所使用的參數(shù)值進(jìn)行調(diào)整，在檢査基板的缺陷時(shí)實(shí)現(xiàn)減少疑似缺陷的檢測(cè)。對(duì)于所選擇的虛擬檢査用的基板的各像素值，使用供調(diào)整后使用的基準(zhǔn)像素?cái)?shù)據(jù)，在各像素值偏離與其位置對(duì)應(yīng)的允許范圍時(shí)，將偏離量和調(diào)整前的靈敏度參數(shù)值進(jìn)行比較。然后，在偏離量超過(guò)該靈敏度參數(shù)值并且上述偏離量與該靈敏度參數(shù)值的差在閾值以下時(shí)，將上述偏離量更新為新的靈敏度參數(shù)值。進(jìn)而，對(duì)上述過(guò)去已檢査過(guò)的多個(gè)基板的圖像數(shù)據(jù)依次進(jìn)行該操作，并且在作為偏離量的比較對(duì)象的靈敏度參數(shù)值發(fā)生了更新時(shí)使用更新后的靈敏度參數(shù)值，將最后更新了的靈敏度參數(shù)值作為調(diào)整后的靈敏度參數(shù)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及使用對(duì)基板進(jìn)行拍攝而獲得的圖像數(shù)據(jù)判斷基板的缺陷的缺陷檢査裝置、基板缺陷檢査用的靈敏度參數(shù)值的調(diào)整方法和存儲(chǔ)有缺陷檢査裝置所使用的計(jì)算機(jī)程序的存儲(chǔ)介質(zhì)。

背景技術(shù)

在作為半導(dǎo)體裝置的制造步驟之一的光刻步驟中，對(duì)作為基板的半導(dǎo)體晶片(以下，記為晶片)的表面依次進(jìn)行利用抗蝕劑的涂敷的抗蝕劑膜的形成、該抗蝕劑膜的曝光、顯影，形成抗蝕劑圖案。在形成有該抗蝕劑圖案的晶片表面內(nèi)的各部分，有時(shí)進(jìn)行對(duì)有無(wú)缺陷進(jìn)行判斷的缺陷檢査。該缺陷檢査基于對(duì)檢査對(duì)象的晶片進(jìn)行拍攝而取得的圖像數(shù)據(jù)、預(yù)先準(zhǔn)備的基準(zhǔn)圖像數(shù)據(jù)和多個(gè)參數(shù)而進(jìn)行。

將實(shí)際上不是缺陷但在上述檢査中判斷為缺陷作為疑似缺陷。要求以能夠抑制該疑似缺陷的發(fā)生的方式設(shè)定上述參數(shù)。并且，在形成上述抗蝕劑膜時(shí)，出于制造新型的半導(dǎo)體裝置或者提高成品率的目的，例如在進(jìn)行所使用的抗蝕劑材料的變更等的各種處理?xiàng)l件的變更的情況下，或者在檢査時(shí)所使用的照明光源的明亮度發(fā)生變化的情況下，有時(shí)需要重新設(shè)定該參數(shù)。

然而，關(guān)于上述參數(shù)，由于存在多個(gè)，裝置的操作人員多次重復(fù)參數(shù)的變更和確認(rèn)該變更對(duì)檢査的影響的作業(yè)，這樣試錯(cuò)的結(jié)果是，需要多的勞力和時(shí)間。另外，作為合適的參數(shù)值的組合不是1個(gè)，因此，存在所設(shè)定的各參數(shù)值因操作人員的熟練度而不同的情況。即，根據(jù)設(shè)定參數(shù)值的操作人員的熟練度，檢査的精度受到影響，有無(wú)法充分地防止疑似缺陷的危險(xiǎn)。專利文獻(xiàn)1對(duì)基準(zhǔn)圖像數(shù)據(jù)的生成方法進(jìn)行了公開(kāi)，但對(duì)上述參數(shù)值的設(shè)定方法沒(méi)有公開(kāi)，對(duì)于解決該問(wèn)題是不充分的。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開(kāi)2014－115140號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明想要解決的技術(shù)問(wèn)題

本發(fā)明是為了解決上述問(wèn)題而完成的發(fā)明，其目的在于：提供一種能夠自動(dòng)對(duì)檢査基板的缺陷時(shí)所使用的參數(shù)值進(jìn)行調(diào)整，并能夠在檢査基板的缺陷時(shí)實(shí)現(xiàn)減少疑似缺陷的檢測(cè)的技術(shù)。

用于解決技術(shù)問(wèn)題的技術(shù)方案

本發(fā)明的基板的檢査裝置是一種基板的缺陷檢査裝置，其對(duì)于拍攝作為檢査對(duì)象的基板的整個(gè)表面而獲得的圖像數(shù)據(jù)的各像素值，使用將各位置與像素值的允許范圍相關(guān)聯(lián)的基準(zhǔn)像素?cái)?shù)據(jù)，在各像素值偏離與其位置對(duì)應(yīng)的上述允許范圍時(shí)，將偏離量與作為偏離允許量的靈敏度參數(shù)值進(jìn)行比較，在偏離量超過(guò)靈敏度參數(shù)值時(shí)，判斷該基板為缺陷基板，上述基板的缺陷檢査裝置的特征在于，包括：

基準(zhǔn)像素?cái)?shù)據(jù)生成部，其在進(jìn)行上述靈敏度參數(shù)值的調(diào)整時(shí)，生成供調(diào)整后使用的基準(zhǔn)像素?cái)?shù)據(jù)；

用于調(diào)整上述靈敏度參數(shù)值的靈敏度參數(shù)值調(diào)整部；和

虛擬檢査用基板選擇部，其從在進(jìn)行上述靈敏度參數(shù)值的調(diào)整時(shí)以前已檢査過(guò)的多個(gè)基板中選擇用于調(diào)整上述靈敏度參數(shù)值的、用于與上述基準(zhǔn)像素?cái)?shù)據(jù)進(jìn)行比較而進(jìn)行虛擬檢査的虛擬檢査用的多個(gè)基板，

上述靈敏度參數(shù)值調(diào)整部實(shí)施：