[發明專利]冷板及其制備方法、干燥設備、OLED面板的制備方法在審
| 申請號: | 201710523644.2 | 申請日: | 2017-06-30 |
| 公開(公告)號: | CN109216573A | 公開(公告)日: | 2019-01-15 |
| 發明(設計)人: | 施槐庭;廖金龍;王輝鋒 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/52 | 分類號: | H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人: | 羅瑞芝;陳源 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 溶劑 冷板 膜層 制備 側面 干燥設備 基底 干燥過程 面對基板 膜層表面 溶劑氛圍 顯示器件 顯示效果 冷凝 槽狀 基板 流淌 匯聚 移動 | ||
1.一種冷板,用于對噴墨打印于基板上的膜層干燥過程中的溶劑進行冷卻,包括基底,所述基底的第一側面用于面對所述基板上的所述膜層,其特征在于,所述第一側面上設置有槽狀溶劑吸納結構,所述溶劑吸納結構能吸納所述膜層中蒸發出的溶劑。
2.根據權利要求1所述的冷板,其特征在于,所述溶劑吸納結構為形成在所述第一側面上的網格狀凹槽。
3.根據權利要求2所述的冷板,其特征在于,所述凹槽均勻分布于所述第一側面上。
4.根據權利要求3所述的冷板,其特征在于,所述凹槽在所述基底上的正投影形狀為圓形、矩形、橢圓形、正多邊形或三角形。
5.根據權利要求4所述的冷板,其特征在于,所述凹槽的底面為凹陷的弧面或平面,所述弧面向所述凹槽的槽底凹陷。
6.根據權利要求3所述的冷板,其特征在于,所述凹槽的開口尺寸范圍為1~1000μm。
7.根據權利要求3所述的冷板,其特征在于,所述凹槽的深度范圍為1~1000μm。
8.根據權利要求2-5任意一項所述的冷板,其特征在于,所述凹槽能通過調節結構進行深度調節。
9.根據權利要求2-5任意一項所述的冷板,其特征在于,所述凹槽的表面經過粗糙化處理。
10.根據權利要求2所述的冷板,其特征在于,所述凹槽采用與所述基底相同的金屬材料;或者,所述凹槽采用聚氨酯、聚氯乙烯、酚醛樹脂或脲醛樹脂材料。
11.一種干燥設備,其特征在于,包括權利要求1-10任意一項所述的冷板。
12.一種如權利要求1-10任意一項所述的冷板的制備方法,其特征在于,包括在基底的第一側面上形成溶劑吸納結構。
13.根據權利要求12所述的冷板的制備方法,其特征在于,所述溶劑吸納結構采用與所述基底相同的材料;所述溶劑吸納結構通過對所述基底的所述第一側面進行摩擦處理形成。
14.根據權利要求12所述的冷板的制備方法,其特征在于,所述溶劑吸納結構采用耐溶劑腐蝕的有機高分子材料;所述溶劑吸納結構采用構圖工藝形成于所述基底的所述第一側面上。
15.一種OLED面板的制備方法,包括:在基板上噴墨打印有機電致發光膜層;將所述基板置于熱板上方,以使所述有機電致發光膜層中的溶劑蒸發,其特征在于,還包括:將權利要求1-10任意一項所述的冷板對應置于所述基板的打印有所述有機電致發光膜層的一側上方,并使所述冷板上的槽狀溶劑吸納結構面向所述有機電致發光膜層,以吸納所述有機電致發光膜層中蒸發出的所述溶劑。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





