[發(fā)明專利]輻射檢查系統(tǒng)和輻射檢查方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710515891.8 | 申請(qǐng)日: | 2017-06-29 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107228868A | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-10-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 馮志濤;胡曉偉;曹艷鋒;王少鋒;王彥華;閆雄;王春雷 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京君和信達(dá)科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N23/04 | 分類號(hào): | G01N23/04 |
| 代理公司: | 北京展翼知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙)11452 | 代理人: | 屠長(zhǎng)存 |
| 地址: | 100088 北京市西*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 輻射 檢查 系統(tǒng) 方法 | ||
1.一種輻射檢查系統(tǒng),用于對(duì)沿著檢測(cè)通道限定的行進(jìn)方向行進(jìn)的被檢測(cè)物體進(jìn)行輻射檢查,其中,所述被檢測(cè)物體包括需檢測(cè)部分和檢測(cè)規(guī)避部分,該輻射檢查系統(tǒng)包括:
輻射成像裝置,設(shè)置在所述檢測(cè)通道的輻射檢查位置處,用于發(fā)射輻射束以對(duì)所述被檢測(cè)物體進(jìn)行掃描并生成輻射圖像;
第一檢測(cè)器,設(shè)置在所述輻射檢查位置上游預(yù)定距離處的第一預(yù)設(shè)位置,用于檢測(cè)所述被檢測(cè)物體的檢測(cè)規(guī)避部分前端到達(dá)所述第一預(yù)設(shè)位置的第一時(shí)刻t1,并發(fā)出包括所述第一時(shí)刻t1的第一檢測(cè)器信號(hào);
第二檢測(cè)器,設(shè)置在所述第一預(yù)設(shè)位置下游預(yù)定距離處的第二預(yù)設(shè)位置,用于檢測(cè)所述被檢測(cè)物體的檢測(cè)規(guī)避部分前端到達(dá)所述第二預(yù)設(shè)位置的第二時(shí)刻t2,并發(fā)出包括所述第二時(shí)刻t2的第二檢測(cè)器信號(hào);
控制單元,用于接收所述第一檢測(cè)器信號(hào)和所述第二檢測(cè)器信號(hào),基于所述第一時(shí)刻t1、所述第二時(shí)刻t2以及所述第一預(yù)設(shè)位置和所述第二預(yù)設(shè)位置之間的距離,確定所述被檢測(cè)物體在所述第一預(yù)設(shè)位置和所述第二預(yù)設(shè)位置之間行進(jìn)的平均速度v,并在所述第二時(shí)刻t2之后經(jīng)過(guò)第一時(shí)間間隔T1,發(fā)出用于控制所述輻射成像裝置發(fā)射所述輻射束的指令,其中,T1=K/v-T0,K為基于所述檢測(cè)規(guī)避部分的長(zhǎng)度和所述第二預(yù)設(shè)位置確定的參數(shù),T0為基于輻射檢查系統(tǒng)的系統(tǒng)響應(yīng)延遲預(yù)先設(shè)定的延遲補(bǔ)償。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射檢查系統(tǒng),其中,
所述延遲補(bǔ)償T0在5ms~200ms之間,并且/或者
所述K大于或等于所述檢測(cè)規(guī)避部分的末端到達(dá)所述輻射檢查位置時(shí)所述檢測(cè)規(guī)避部分的前端與所述第二預(yù)設(shè)位置之間的距離。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射檢查系統(tǒng),其中,
響應(yīng)于所述平均速度v小于預(yù)設(shè)速度,在所述第二時(shí)刻t2之后經(jīng)過(guò)第一時(shí)間間隔T1所述控制單元禁止所述輻射成像裝置發(fā)射所述輻射束。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射檢查系統(tǒng),其中,
所述輻射檢查系統(tǒng)還包括第三檢測(cè)器,設(shè)置在所述第二預(yù)設(shè)位置下游預(yù)定距離處的第三預(yù)設(shè)位置,用于檢測(cè)所述被檢測(cè)物體的檢測(cè)規(guī)避部分前端是否到達(dá)所述第三預(yù)設(shè)位置,在檢測(cè)到所述被檢測(cè)物體的檢測(cè)規(guī)避部分前端到達(dá)所述第三預(yù)設(shè)位置時(shí),發(fā)出第三檢測(cè)器信號(hào),
響應(yīng)于在所述第二時(shí)刻t2后經(jīng)過(guò)第二時(shí)間間隔T2未接收到所述第三檢測(cè)器信號(hào),所述控制單元控制所述輻射成像裝置禁止或停止發(fā)射所述輻射束,其中,T2=L2/V0,L2為所述第三預(yù)設(shè)位置與所述第二預(yù)設(shè)位置之間的距離,V0為預(yù)設(shè)速度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射檢查系統(tǒng),還包括:
第四檢測(cè)器,設(shè)置在所述輻射檢查位置下游的預(yù)定位置處,用于以預(yù)定時(shí)間間隔檢測(cè)所述被檢測(cè)物體在所述第二預(yù)設(shè)位置與第四預(yù)設(shè)位置之間的行進(jìn)速度,其中,所述第四預(yù)設(shè)位置位于所述第二預(yù)設(shè)位置的下游,
響應(yīng)于所述第四檢測(cè)器檢測(cè)到的所述行進(jìn)速度低于預(yù)設(shè)速度,所述控制單元控制所述輻射成像裝置禁止或停止發(fā)射所述輻射束。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N23-00 利用未包括在G01N 21/00或G01N 22/00組內(nèi)的波或粒子輻射來(lái)測(cè)試或分析材料,例如X射線、中子
G01N23-02 .通過(guò)使輻射透過(guò)材料
G01N23-20 .利用輻射的衍射,例如,用于測(cè)試晶體結(jié)構(gòu);利用輻射的反射
G01N23-22 .通過(guò)測(cè)量二次發(fā)射
G01N23-221 ..利用活化分析法
G01N23-223 ..通過(guò)用X射線輻照樣品以及測(cè)量X射線熒光
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