[發明專利]一種制絨清洗機及水循環方法有效
| 申請號: | 201710512452.1 | 申請日: | 2017-06-29 |
| 公開(公告)號: | CN107195730B | 公開(公告)日: | 2023-10-20 |
| 發明(設計)人: | 申澍昕;李澤天;劉躍進;陳莉 | 申請(專利權)人: | 太倉市哲泰天產品設計有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L21/67;B08B3/02;B08B13/00 |
| 代理公司: | 北京連和連知識產權代理有限公司 11278 | 代理人: | 楊帆 |
| 地址: | 215400 江蘇省蘇州市*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 清洗 水循環 方法 | ||
技術領域
本發明涉及太陽能電池片生產領域,特別涉及一種制絨清洗機及水循環方法。
背景技術
太陽能電池片的生產流程為一次清洗、擴散、刻蝕、二次清洗、PECVD、燒結、測試分選、檢驗入庫,其中,一次清洗的目的是要消除吸附在硅片表面的各類污染物,并對硅片表面進行織構化處理,降低硅片表面對光的反射率,使入射光光反射到另一角度的斜面,形成二次或者多次吸收,從而增加吸收率。但清洗需要大量的水,并且需要對清洗后的水進行處理,達到標準后才能排放,企業一般采用將所有廢水集中到一起后再對廢水進行處理,這樣處理起來耗時大,步驟繁瑣,處理成本大,所以亟需一種節約用水的制絨清洗劑。
發明內容
針對以上現有技術存在的缺陷,本發明的主要目的在于克服現有技術的不足之處,公開了一種制絨清洗機,包括上料裝置、下料裝置、制絨槽、堿槽、酸槽、水槽和吹干槽,其中,所述制絨槽和所述堿槽之間設置所述水槽,所述堿槽和所述酸槽之間設置所述水槽,所述酸槽和所述吹干槽之間設置所述水槽,所述制絨槽的前端設置所述上料裝置,所述吹干槽的后端設置所述下料裝置;
所述水槽包括槽體、水刀、傳送管組和接水盤,傳送管組設置在槽體內,并在所述傳送管組上方和下方設置所述水刀,所述水刀至少設置三組,在前端所述水刀下方設置有所述接水盤;
所述水刀包括水刀管和噴射噴嘴,所述噴射噴嘴設置在所述水刀管上。
進一步地,所述槽體的側壁上設置溢水口。
進一步地,所述槽體上還開設有進水口,所述酸槽后端的所述水槽的所述溢水口通過水管與所述堿槽后端的所述水槽的所述進水口連接,所述堿槽后端的所述水槽的所述溢水口與所述制絨槽后端的所述水槽的所述進水口連接,所述制絨槽的所述溢水口與外部連接。
進一步地,在所述傳送管組的進料端和出料端的上方分別設置所述上壓輪。
進一步地,所述噴射噴嘴為圓錐形噴嘴、扇形噴嘴、棒形噴嘴中的任意一種。
進一步地,所述噴射噴嘴的口徑為0.5-1.5mm。
進一步地,還包括過濾裝置。
進一步地,所述噴射噴嘴處的水壓為3-4Mpa。
根據以上所述的制絨清洗機的一種水循環方法:
1)清洗機的所述水槽的前端和中端所述水刀通過泵將所述槽體內的水供給,后端所述水刀通過外部供應干凈水。
2)前端所述水刀對硅片進行清洗后的水直接通過所述接水盤排出單獨收集,中端和后端所述水刀清洗后的水回到所述槽體內,后端所述水刀清洗后的水流到所述槽體內,所述槽體內多余的水通過所述溢水口排出。
進一步地,步驟2中,所述酸槽后端的所述水槽的所述溢水口通過水管將多余的液體傳送到所述堿槽后端的所述水槽內,所述堿槽后端的所述水槽的所述溢水口通過水管將多余的液體傳送到所述制絨槽后端的所述水槽內,所述制絨槽的所述溢水口再將其所述水槽內多余的水排出收集。
本發明取得的有益效果:
1,接水盤的設置將高濃度的清洗水直接排放收集,減少了對槽體內清洗水的污染,另外有干凈清洗水的補充,配合溢水口的工作,使槽體內的水進行循環。
2.通過水槽內的水溢流至另一個水槽內,使其酸堿中和,減少槽體內清洗水的濃度。
3.本發明通過不同濃度單獨收集和使用酸堿中和的方法減少清洗水的濃度,有效的節約了水資源,減少了生產成本。
附圖說明
圖1為本發明的一種制絨清洗機的主視圖;
圖2為本發明的水槽的正視圖;
圖3為本發明的水刀的正視圖;
附圖標記如下:
1、上料裝置,2、下料裝置,3、制絨槽,4、堿槽,5、酸槽,6、水槽,7、吹干槽,61、槽體,62、水刀,63、傳送管組,64、接水盤,65、溢水口,66、進水口,67、上壓輪,621、水刀管,622,、噴射噴嘴。
具體實施方式
為了使本發明的目的、技術方案及優點更加清楚明白,下面結合附圖及實施例對本發明作進一步詳細說明。應當理解,此處所描述的具體實施例僅用以解釋本發明,并不用于限定本發明。
本發明的一種制絨清洗機,包括上料裝置1、下料裝置2、制絨槽3、堿槽4、酸槽5、水槽6和吹干槽7,其中,制絨槽3和堿槽4之間設置水槽6,堿槽4和酸槽5之間設置水槽6,酸槽5和吹干槽7之間設置水槽6,在制絨槽3的前端設置上料裝置1,吹干槽7的后端設置下料裝置2;
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于太倉市哲泰天產品設計有限公司,未經太倉市哲泰天產品設計有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710512452.1/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種一體化污水處理設備
- 下一篇:吡唑酮生產廢水處理裝置及其處理工藝
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





