[發(fā)明專利]一種制絨清洗機及水循環(huán)方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710512452.1 | 申請日: | 2017-06-29 |
| 公開(公告)號: | CN107195730B | 公開(公告)日: | 2023-10-20 |
| 發(fā)明(設計)人: | 申澍昕;李澤天;劉躍進;陳莉 | 申請(專利權(quán))人: | 太倉市哲泰天產(chǎn)品設計有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L21/67;B08B3/02;B08B13/00 |
| 代理公司: | 北京連和連知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11278 | 代理人: | 楊帆 |
| 地址: | 215400 江蘇省蘇州市*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 清洗 水循環(huán) 方法 | ||
1.一種制絨清洗機,包括上料裝置、下料裝置、制絨槽、堿槽、酸槽、水槽和吹干槽,其特征在于,所述制絨槽和所述堿槽之間設置所述水槽,所述堿槽和所述酸槽之間設置所述水槽,所述酸槽和所述吹干槽之間設置所述水槽,所述制絨槽的前端設置所述上料裝置,所述吹干槽的后端設置所述下料裝置;
所述水槽包括槽體、水刀、傳送管組和接水盤,其中,所述傳送管組設置在所述槽體內(nèi),并在所述傳送管組上方和下方設置所述水刀,所述水刀至少設置三組,在前端所述水刀下方設置有所述接水盤;
所述水刀包括水刀管和噴射噴嘴,所述噴射噴嘴設置在所述水刀管上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制絨清洗機,其特征在于,所述槽體的側(cè)壁上設置溢水口。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種制絨清洗機,其特征在于,所述槽體上還開設有進水口,所述酸槽后端的所述水槽的所述溢水口通過水管與所述堿槽后端的所述水槽的所述進水口連接,所述堿槽后端的所述水槽的所述溢水口與所述制絨槽后端的所述水槽的所述進水口連接,所述制絨槽的所述溢水口與外部連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種制絨清洗機,其特征在于,在所述傳送管組的進料端和出料端的上方分別設置所述上壓輪。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種制絨清洗機,其特征在于,所述噴射噴嘴為圓錐形噴嘴、扇形噴嘴、棒形噴嘴中的任意一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種制絨清洗機,其特征在于,所述噴射噴嘴的口徑為0.5-1.5mm。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種制絨清洗機,其特征在于,還包括過濾裝置。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種制絨清洗機,其特征在于,所述噴射噴嘴處的水壓為3-4Mpa。
9.根據(jù)權(quán)利要求2-8所述的一種制絨清洗機的一種水循環(huán)方法,其特征在于,包括以下步驟:
1)清洗機的所述水槽的前端和中端所述水刀通過泵將所述槽體內(nèi)的水供給,后端所述水刀通過外部供應干凈水。
2)前端所述水刀對硅片進行清洗后的水直接通過所述接水盤排出單獨收集,中端和后端所述水刀清洗后的水回到所述槽體內(nèi),后端所述水刀清洗后的水流到所述槽體內(nèi),所述槽體內(nèi)多余的水通過所述溢水口排出。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種制絨清洗機,其特征在于,步驟2中,所述酸槽后端的所述水槽的所述溢水口通過水管將多余的液體傳送到所述堿槽后端的所述水槽內(nèi),所述堿槽后端的所述水槽的所述溢水口通過水管將多余的液體傳送到所述制絨槽后端的所述水槽內(nèi),所述制絨槽的所述溢水口再將其所述水槽內(nèi)多余的水排出收集。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





