[發明專利]一種聚四氟乙烯與氧化鋁原子層復合減反膜的制備方法有效
| 申請號： | 201710508231.7 | 申請日： | 2017-06-28 |
| 公開（公告）號： | CN107337356B | 公開（公告）日： | 2020-05-22 |
| 發明（設計）人： | 張政軍;樂雅;淮曉晨 | 申請（專利權）人： | 清華大學 |
| 主分類號： | C03C17/42 | 分類號： | C03C17/42 |
| 代理公司： | 北京鴻元知識產權代理有限公司 11327 | 代理人： | 邸更巖 |
| 地址： | 100084 北京市海淀區1*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 聚四氟乙烯 氧化鋁 原子 復合 減反膜 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種聚四氟乙烯與氧化鋁原子層復合減反膜的制備方法，其特征在于該方法包括如下步驟：
1)利用電子束蒸鍍方法，先將沉積角度設定為0°，在透明或半透明的基底上沉積一層反射率為1.30～1.50的致密聚四氟乙烯層；
2)將沉積角度設定為80°，再在獲得的致密聚四氟乙烯層上沉積一層反射率為1.15～1.25的多孔聚四氟乙烯納米棒層，得到雙層聚四氟乙烯膜；
3)將獲得的雙層聚四氟乙烯膜放入原子層沉積設備中，循環次數設置為5～15，原子層沉積流量10～20SCCM；氧化鋁包覆層的厚度6～7nm。
2.按照權利要求1所述的一種聚四氟乙烯與氧化鋁原子層復合減反膜的制備方法，其特征在于：步驟1)中所述電子束蒸鍍的沉積速率為
3.根據權利要求1或2所述的一種聚四氟乙烯與氧化鋁原子層復合減反膜的制備方法，其特征在于：所述透明或半透明的基底包括石英片、BK7、SF5、LAK14、FTO和派萊克斯玻璃中的任一種，它們的折射率在1.45～1.95之間。
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