[發(fā)明專利]蒸鍍用的蒸發(fā)源裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710505480.0 | 申請日: | 2017-06-28 |
| 公開(公告)號: | CN107267919B | 公開(公告)日: | 2019-08-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 余威 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24 |
| 代理公司: | 深圳市銘粵知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44304 | 代理人: | 孫偉峰 |
| 地址: | 430070 湖北省武漢市東湖新技術(shù)*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 蒸鍍用 蒸發(fā) 裝置 | ||
本發(fā)明公開了一種蒸鍍用的蒸發(fā)源裝置,包括頂面開口的加熱容器以及蓋設(shè)于所述加熱容器開口的第一擋板和第二擋板,所述第一擋板和所述第二擋板上分別開設(shè)有貫穿孔;所述第一擋板和所述第二擋板可相對滑動(dòng),使二者上的貫穿孔在至少兩個(gè)不同的配合位置配合形成連通所述加熱容器的蒸鍍通道。本發(fā)明通過在裝有有機(jī)發(fā)光電致材料的加熱容器的開口處蓋設(shè)有第一擋板和第二擋板,可以通過第一擋板和第二擋板的移動(dòng)而使二者配合形成不同的蒸鍍通道,可在不打開真空腔體的情況下更換蒸鍍通道,很好地解決了蒸鍍過程中有機(jī)發(fā)光電致材料堵孔的問題,提高了產(chǎn)能和產(chǎn)品質(zhì)量。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種有機(jī)電致發(fā)光器件技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種蒸鍍用的蒸發(fā)源裝置。
背景技術(shù)
OLED(即有機(jī)電致發(fā)光器件)顯示器是新一代的顯示器,通過在OLED基板上制作有機(jī)薄膜,并且其中的有機(jī)薄膜被包夾設(shè)在陰極和陽極金屬或?qū)щ妼又g,給兩電極施加電壓后,有機(jī)薄膜則會發(fā)光。相對于液晶顯示器而言,OLED顯示器有自發(fā)光、響應(yīng)快、視角廣、色彩飽和等許多優(yōu)點(diǎn),近幾年OLED產(chǎn)業(yè)化速度突飛猛進(jìn)。
目前制備OLED顯示器件主流的方式是真空熱蒸鍍,即在真空腔體內(nèi)使用坩堝加熱OLED有機(jī)材料。現(xiàn)有的用于加熱OLED材料的坩堝包括坩堝本體及蓋在坩堝本體開口端的坩堝蓋子,坩堝蓋子上設(shè)置有蒸鍍孔。坩堝本體用于容納OLED有機(jī)材料,以對OLED材料加熱,使之在一定溫度下升華或蒸發(fā),然后透過蒸鍍孔沉積在上方的基板上,形成有機(jī)薄膜。
在OLED材料蒸鍍過程中,由于蒸鍍出的有機(jī)物為蓬松結(jié)構(gòu),很容易在坩堝蓋子的蒸鍍孔部位集結(jié),直至蒸鍍孔被完全堵住。但由于OLED器件制作工藝的特殊性,OLED器件的制作需要在持續(xù)的真空環(huán)境下進(jìn)行,直至連續(xù)完成有機(jī)材料的蒸鍍。蒸鍍孔一旦被堵住就無法繼續(xù)蒸鍍,使蒸鍍工藝無法繼續(xù)進(jìn)行,會嚴(yán)重影響生產(chǎn)進(jìn)度。
這種情況下,目前的做法只能先把OLED材料降溫至室溫,然后打開蒸鍍腔體,待處理完塞孔的蒸鍍源后再關(guān)閉腔體、重新抽真空,并加熱到一定溫度,才能繼續(xù)進(jìn)行蒸鍍工藝,通常這個(gè)過程需要耗費(fèi)數(shù)十小時(shí),且打開腔體極易導(dǎo)致空氣中灰塵進(jìn)入腔體,嚴(yán)重影響產(chǎn)能及產(chǎn)品質(zhì)量。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于現(xiàn)有技術(shù)存在的不足,本發(fā)明提供了一種蒸鍍用的蒸發(fā)源裝置,可以在不打開真空腔體的情況下解決蒸鍍坩堝的蒸鍍孔堵塞的問題。
為了實(shí)現(xiàn)上述的目的,本發(fā)明采用了如下的技術(shù)方案:
一種蒸鍍用的蒸發(fā)源裝置,包括頂面開口的加熱容器以及蓋設(shè)于所述加熱容器開口的第一擋板和第二擋板,所述第一擋板和所述第二擋板上分別開設(shè)有貫穿孔;所述第一擋板和所述第二擋板可相對滑動(dòng),使二者上的貫穿孔在至少兩個(gè)不同的配合位置配合形成連通所述加熱容器的蒸鍍通道。
作為其中一種實(shí)施方式,所述第一擋板和所述第二擋板在所述加熱容器的高度方向上層疊設(shè)置,且延伸方向交叉設(shè)置;所述第一擋板和所述第二擋板的至少一個(gè)上的貫穿孔為沿相應(yīng)的擋板的長度方向延伸的條形孔,所述第一擋板和所述第二擋板沿各自的長度方向可移動(dòng),以使得上下設(shè)置的貫穿孔在所述加熱容器的高度方向上連通形成不同的蒸鍍通道。
作為其中一種實(shí)施方式,所述第一擋板上的貫穿孔為沿其長度方向延伸的條形孔,所述第二擋板上的貫穿孔為在其長度方向間隔設(shè)置的點(diǎn)狀通孔。
或者,所述第一擋板和所述第二擋板上的貫穿孔均為在相應(yīng)的擋板的長度方向間隔設(shè)置的點(diǎn)狀通孔。
或者,所述第一擋板和所述第二擋板上的貫穿孔均為沿相應(yīng)的擋板的長度方向延伸的條形孔。
作為其中一種實(shí)施方式,所述第一擋板和所述第二擋板相互垂直。
作為其中一種實(shí)施方式,所述加熱容器為坩堝。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司,未經(jīng)武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710505480.0/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





