[發明專利]處理方法、處理裝置以及處理程序

有效

• 申請號: 201710491214.7
• 申請日: 2017-06-23
• 公開（公告）號: CN107543836B
• 公開（公告）日: 2021-10-26
• 發明（設計）人: 小中尚;姫田章宏;光永徹;長尾圭吾
• 申請（專利權）人: 株式會社理學
• 主分類號: G01N23/20
• 分類號: G01N23/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 高穎

1.一種處理方法，決定基于X射線衍射的極圖測定的條件，所述處理方法的特征在于，包括如下步驟：

接受衍射角2θ的輸入的步驟；和

在所輸入的所述2θ下的極圖測定中，基于樣本和二維的檢測面的距離以及所述二維的檢測面的尺寸，算出在所述二維的檢測面中一次所能夠檢測到的散射矢量與樣本面所成的角α的范圍，針對樣本面內的旋轉角φ決定各φ掃描中的入射X射線與x軸所成的角ω以及樣本的搖擺傾斜角χ，以使得在所述二維的檢測面中一次所能夠檢測到的散射矢量與樣本面所成的角α的范圍從α＝90°向α＝0°無重復地連續的步驟，

在所述處理方法中，反復進行所述ω以及所述χ的決定，

所謂無重復地連續的意思是，表征在所述檢測面中一次所能夠檢測到的α的范圍的弧的一端與極像圖的中央相接，或者在進行φ旋轉時表征在所述檢測面中一次所能夠檢測到的α的范圍的弧的一端彼此相接。

2.根據權利要求1所述的處理方法，其特征在于，

決定最初的φ掃描的所述ω以及所述χ，以使得在將樣本面內的旋轉角φ設為恒定時，表征在所述檢測面中一次所能夠檢測到的α的范圍的弧的一端與所述α為90°的位置相接。

3.根據權利要求1或2所述的處理方法，其特征在于，

決定第二φ掃描以后的所述ω以及所述χ，以使得在將所述φ設為恒定時，表征在所述檢測面中一次所能夠檢測到的α的范圍的弧的一端與剛剛之前的測定階段的弧的一端相接。

4.根據權利要求1或2所述的處理方法，其特征在于，

基于所決定的所述ω以及所述χ，事先顯示在各φ掃描中在所述檢測面中一次所能夠檢測到的α的范圍。

5.一種處理裝置，決定基于X射線衍射的極圖測定的條件，所述處理裝置的特征在于，具備：

輸入部，其接受衍射角2θ的輸入；

條件決定部，其在所輸入的所述2θ下的極圖測定中，基于樣本和二維的檢測面的距離以及所述二維的檢測面的尺寸，算出在所述二維的檢測面中一次所能夠檢測到的散射矢量與樣本面所成的角α的范圍，針對樣本面內的旋轉角φ決定各φ掃描中的入射X射線與x軸所成的角ω以及樣本的搖擺傾斜角χ，以使得在所述二維的檢測面中一次所能夠檢測到的散射矢量與樣本面所成的角α的范圍從α＝90°向α＝0°無重復地連續；和

處理控制部，其反復進行所述ω以及所述χ的決定，

所謂無重復地連續的意思是，表征在所述檢測面中一次所能夠檢測到的α的范圍的弧的一端與極像圖的中央相接，或者在進行φ旋轉時表征在所述檢測面中一次所能夠檢測到的α的范圍的弧的一端彼此相接。