[發明專利]柔性導電膜及其制備方法

在審

• 申請號: 201710488997.3
• 申請日: 2017-06-23
• 公開（公告）號: CN107170509A
• 公開（公告）日: 2017-09-15
• 發明（設計）人: 馬志鋒;杜曉峰;孫官恩;張莉
• 申請（專利權）人: 中國南玻集團股份有限公司;深圳南玻應用技術有限公司
• 主分類號: H01B5/14
• 分類號: H01B5/14;H01B13/00;B32B27/06;B32B3/14;B32B33/00
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司44224
• 代理人: 鄧云鵬

技術領域

本發明涉及柔性導電材料制備技術領域，特別是涉及柔性導電膜及其制備方法。

背景技術

氧化銦錫(ITO)薄膜作為最常用的透明導電薄膜，在透明顯示領域有著廣泛的應用。市場上常規柔性導電膜中ITO導電層的方塊電阻為150±20歐，為消除蝕刻后的ITO電極影子，往往先在柔性基材上涂布高折射率的有機IM層，然后通過沉積SiO₂等低折射率光學匹配層，最后沉積ITO導電層，從而縮小ITO區與ITO蝕刻區的色差，并最終實現消影。然而隨著觸摸屏行業的發展，產品的尺寸越來越大，人們對觸控靈敏度有了更高的要求，這就要求ITO導電層具有更低的方塊電阻，而目前柔性ITO導電膜僅適用于常規的150±20歐方阻的ITO導電層，對于更低方塊電阻的ITO導電層，則難以達到較好的消影效果。

發明內容

基于此，有必要針對柔性導電膜中ITO導電膜方塊電阻較低時消影效果不佳的問題，提供一種柔性導電膜及其制備方法。

一種柔性導電膜，包括依次層疊的柔性基材、折射復合層及ITO導電層；

其中，所述折射復合層由依次層疊的IM層、高折射率層及低折射率層組成；

所述IM層的折射率為1.62～1.7；所述IM層的厚度為0.8μm～3μm或35nm～42nm；

所述高折射率層的折射率為1.9～2.6；所述高折射率層的厚度為3.5nm～24nm；

所述低折射率層的折射率為1.46～1.57；所述低折射率層的厚度為7nm～38nm。

在其中一個實施方式中，所述IM層包括有機樹脂及分散在所述有機樹脂中的高折射率粒子。

在其中一個實施方式中，所述有機樹脂選自環氧丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、胺改性丙烯酸酯和純丙烯酸樹脂中的至少一種；所述高折射率粒子選自Nb₂O₅、TiO₂和ZrO₂中的至少一種。

在其中一個實施方式中，所述高折射率層的材料選自Nb₂O₅、TiO₂和Si₃N₄中的至少一種；

及/或，所述低折射率層的材料選自SiO₂和SiO_xN_y中的至少一種，其中，X的取值為1.7～2，Y的取值為0～0.2。

在其中一個實施方式中，所述柔性基材的材料選自PET、COP、COC、PC和TAC中的至少一種。

在其中一個實施方式中，所述柔性基材的厚度為50μm～125μm。

在其中一個實施方式中，所述ITO導電層的厚度為20nm～63nm。

在其中一個實施方式中，還包括硬化防刮層，所述硬化防刮層層疊于所述柔性基材遠離所述折射復合層的一面。

在其中一個實施方式中，所述硬化防刮層的材料選自環氧丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、胺改性丙烯酸酯和純丙烯酸樹脂中的至少一種；所述硬化防刮層的厚度為1μm～3μm。

上述的柔性導電膜的制備方法，包括以下步驟：

在柔性基材上涂布IM層；及

在所述IM層上依次形成高折射率層、低折射率層及ITO導電層；

其中，所述IM層的折射率為1.62～1.7；所述IM層的厚度為0.8μm～3μm或35nm～42nm；

所述高折射率層的折射率為1.9～2.6；所述高折射率層的厚度為3.5nm～24nm；

所述低折射率層的折射率為1.46～1.57；所述低折射率層的厚度為7nm～38nm。

上述柔性導電膜通過在柔性基材上依次層疊折射復合層和ITO層，其中折射復合層由依次層疊的IM層、高折射率層及低折射率層組成。且對IM層、高折射率層及低折射率層的材料及厚度進行限定，使得上述柔性導電膜的適用性更廣，對于方塊電阻為45Ω～150Ω的ITO導電層仍具有較好的消影效果。

附圖說明

圖1為一實施方式的柔性導電膜的結構示意圖；

圖2為一實施方式的柔性導電膜的制備方法的工藝流程圖。

具體實施方式

下面將結合具體實施方式及附圖對柔性導電膜及其制備方法作進一步的詳細說明。

請參閱圖1，一實施方式的柔性導電膜100包括柔性基材110、折射復合層120、ITO導電層130及硬化防刮層140。