[發明專利]柔性導電膜及其制備方法

在審

• 申請號: 201710488997.3
• 申請日: 2017-06-23
• 公開（公告）號: CN107170509A
• 公開（公告）日: 2017-09-15
• 發明（設計）人: 馬志鋒;杜曉峰;孫官恩;張莉
• 申請（專利權）人: 中國南玻集團股份有限公司;深圳南玻應用技術有限公司
• 主分類號: H01B5/14
• 分類號: H01B5/14;H01B13/00;B32B27/06;B32B3/14;B32B33/00
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司44224
• 代理人: 鄧云鵬

1.一種柔性導電膜，其特征在于，包括依次層疊的柔性基材、折射復合層及ITO導電層；

其中，所述折射復合層由依次層疊的IM層、高折射率層及低折射率層組成；

所述IM層的折射率為1.62～1.7；所述IM層的厚度為0.8μm～3μm或35nm～42nm；

所述高折射率層的折射率為1.9～2.6；所述高折射率層的厚度為3.5nm～24nm；

所述低折射率層的折射率為1.46～1.57；所述低折射率層的厚度為7nm～38nm。

2.根據權利要求1所述的柔性導電膜，其特征在于，所述IM層包括有機樹脂及分散在所述有機樹脂中的高折射率粒子。

3.根據權利要求2所述的柔性導電膜，其特征在于，所述有機樹脂選自環氧丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、胺改性丙烯酸酯和純丙烯酸樹脂中的至少一種；所述高折射率粒子選自Nb₂O₅、TiO₂和ZrO₂中的至少一種。

4.根據權利要求1所述的柔性導電膜，其特征在于，所述高折射率層的材料選自Nb₂O₅、TiO₂和Si₃N₄中的至少一種；

及/或，所述低折射率層的材料選自SiO₂和SiO_xN_y中的至少一種，其中，X的取值為1.7～2，Y的取值為0～0.2。

5.根據權利要求1所述的柔性導電膜，其特征在于，所述柔性基材的材料選自PET、COP、COC、PC和TAC中的至少一種。

6.根據權利要求1所述的柔性導電膜，其特征在于，所述柔性基材的厚度為50μm～125μm。

7.根據權利要求1所述的柔性導電膜，其特征在于，所述ITO導電層的厚度為20nm～63nm。

8.根據權利要求1所述的柔性導電膜，其特征在于，還包括硬化防刮層，所述硬化防刮層層疊于所述柔性基材遠離所述折射復合層的一面。

9.根據權利要求8所述的柔性導電膜，其特征在于，所述硬化防刮層的材料選自環氧丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、胺改性丙烯酸酯和純丙烯酸樹脂中的至少一種；所述硬化防刮層的厚度為1μm～3μm。

10.權利要求1～9任一項所述的柔性導電膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

在柔性基材上涂布IM層；及

在所述IM層上依次形成高折射率層、低折射率層及ITO導電層；

其中，所述IM層的折射率為1.62～1.7；所述IM層的厚度為0.8μm～3μm或35nm～42nm；

所述高折射率層的折射率為1.9～2.6；所述高折射率層的厚度為3.5nm～24nm；

所述低折射率層的折射率為1.46～1.57；所述低折射率層的厚度為7nm～38nm。