[發明專利]一種大深槽雙面鋁基板的制作方法在審
| 申請號: | 201710484961.8 | 申請日: | 2017-06-23 |
| 公開(公告)號: | CN107205319A | 公開(公告)日: | 2017-09-26 |
| 發明(設計)人: | 黃明安;劉天明 | 申請(專利權)人: | 四會富士電子科技有限公司 |
| 主分類號: | H05K3/00 | 分類號: | H05K3/00;H05K3/02;H05K3/44 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 526236 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 大深槽 雙面 鋁基板 制作方法 | ||
技術領域
本發明屬于鋁基線路板制作技術領域,具體涉及的是一種大深槽雙面鋁基板的制作方法。
背景技術
跟隨著世界的發展和技術的進步,電子產品向個性化、多功能、化高可靠性、輕、薄、小己成為必然趨勢,鋁基覆銅板的需求順應此趨勢而誕生,鋁基覆銅板具備優異的導熱性能,易機械加工性,尺寸穩定性及電氣電子性能,在混合集成電路、汽車、辦公自動化、大功率電氣設備、電源設備、LED照明等領域得到了廣泛應用。
雙面鋁基板的使用也越來越廣泛,特別是大深槽的雙面鋁基板,在導熱和小型化方面有不可替代的作用。
目前雙面鋁基板制作一般采用以下工藝流程:開鋁料→鉆大孔→鋁板塞孔→磨除樹脂→鋁板氧化→壓合→鉆靶位孔銑邊→鉆孔和正常的沉銅電鍍等雙面板流程。
這個制作流程制作的大深槽雙面鋁基板存在兩個問題:出現最多且最嚴重的問題是大深槽孔的樹脂塞孔空洞,還有一個就是PP與鋁基結合力不足,在水煮后浸錫測試會發生爆板分層。
另外這種工藝流程要進行樹脂塞孔和研磨,一般的線路板廠沒有這些特殊的加工設備。
開發出一種簡單易行成本低、可以填充大深槽、可以耐受住水煮之后浸錫不產生爆板分層的雙面鋁基板制作方法,是線路板行業所需要的工藝技術。
發明內容
為實現大深槽雙面鋁基板的制作,本發明采用以下步驟實現:
A、 開鋁料,鋁料表面拉絲;
B、 鋁料烘烤;
C、鋁料鉆大孔和深槽;
D、使用PP壓合填充大深槽,剝離PP;
E、鋁面進行特殊氧化處理,壓合PP和銅箔;
F、鉆靶位孔銑邊;
G、鉆孔和正常的沉銅電鍍等雙面板流程;
步驟A說明:鋁料有原材料加工商進行拉絲處理,或者開料后采用砂帶研磨機研磨。
步驟B說明:鋁料進行烘烤的目的是對鋁表面在空氣中進行氧化,產生一層疏松的氧化層,便于剝離填膠的PP片。
步驟C說明:鉆大孔和大深槽,為避免大孔和大深槽之間產生毛刺,鉆完一面之后需要反面鉆交界處的孔;板邊的定位孔打上銅鉚釘。
步驟D說明:使用足夠的數量和高含膠量的PP真空層壓填充大深槽,采用普通層壓參數,因為鋁料表面有一層疏松的氧化層,可以手動剝離PP,大深槽中留下了樹脂。
步驟E說明:剝離掉PP后,鋁料表面被清潔干凈,再進行鋁面的特殊氧化,一般是進行陽極氧化或者化學氧化,再進行正常層壓,PP與鋁料結合力會比較好。
步驟F說明:用X-RAY打靶機識別步驟C中的靶位孔,用來做鉆孔的定位孔。
附圖說明:
圖1為本發明的大孔和深槽示意圖。
具體實施方式:
為闡述本發明的具體實施方法,下面結合附圖對本發明做進一步的詳細說明:
A、開鋁料,鋁料厚度為1.0mm,鋁料尺寸為508mm*403mm,鋁料表面經過400#砂帶進行研磨。
B、鋁料烘烤溫度為150℃,時間2小時,采用普通烤箱,讓鋁表面在空氣中氧化。
C、鉆大孔的孔徑為2mm,槽寬2mm,槽長度50mm,跟槽連接的大孔需從背面再鉆一次,板邊的靶位孔用打上銅鉚釘,以便后面用X-RAY識別。
D、每面使用三張2116PP片,每塊板須使用6張PP片,每張的厚度0.12mm,含膠量為54%,PP片的外側放離型膜,采用正常的層壓程序進行層壓,層壓后浸入270攝氏度的錫槽中讓PP與鋁料分離,然后手動剝離PP片。
E、對鋁面采用特殊化學氧化,藥水為100%美格AR-1210常溫浸泡3分鐘,然后采用10%硝酸浸泡30秒中后水洗干凈,吹干后層壓,每面使用2張2116PP片,PP片外側放18um的銅箔進行層壓。
F、使用X-RAY打靶機識別出步驟C設置的銅鉚釘,打出靶位孔并銑掉余邊。
G、采用正常的鉆孔、沉銅和電鍍流程,完成后面的制作。
采用本方法制作的大深槽鋁基板,可以經受住以下測試:
沸水蒸煮一小時→流水沖洗半小時→浸錫260℃20秒
不產生填充樹脂的氣泡,也不發生分層起泡。
本發明采用兩次壓合的方法,第一次壓合的目的是對大深槽進行填膠,第二次壓合的目的是形成所需要的結構。
本方法沒有絲網印刷填充樹脂產生的氣泡,也不會有研磨樹脂的高難度高強度作業的制作過程。
本方法制作流程簡單,成本低。
以上所述僅以實施例來進一步說明本發明的技術內容,以便于讀者更容易理解,但不代表本發明的實施方式僅限于此,任何依本發明所做的技術延伸或者再創造,均受本發明的保護。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于四會富士電子科技有限公司,未經四會富士電子科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710484961.8/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:電源控制用半導體裝置
- 下一篇:具有穩定性補償的功率轉換器控制器





