[發明專利]氨基糖修飾的抗菌金納米顆粒、其制備方法及應用有效
| 申請號： | 201710482072.8 | 申請日： | 2017-06-22 |
| 公開（公告）號： | CN109108275B | 公開（公告）日： | 2022-05-03 |
| 發明（設計）人： | 蔣興宇;楊興龍 | 申請（專利權）人： | 國家納米科學中心 |
| 主分類號： | B22F1/102 | 分類號： | B22F1/102;B22F9/24;B82Y40/00;A61K33/242;A61K9/48;A61K47/26;A61P31/04;A61P17/02;A61P41/00;A61P17/00 |
| 代理公司： | 北京市英智偉誠知識產權代理事務所(普通合伙) 11521 | 代理人： | 劉丹妮 |
| 地址： | 100190 北*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 氨基 修飾 抗菌 納米 顆粒 制備 方法 應用 | ||
1.一種氨基糖修飾的抗菌金納米顆粒，其特征在于，所述抗菌金納米顆粒包括：
單組分或多組分氨基糖；和
金納米顆粒；
其中，所述氨基糖選自以下一種或多種：D-葡糖胺，D-半乳糖胺，和D-甘露糖胺；并且，
所述抗菌金納米顆粒的制備方法包括以下步驟：
(1)將氨基糖溶于去離子水得到氨基糖溶液，向溶液中加入三乙胺和Tween 80混合均勻；
(2)向(1)所得溶液中加入HAuCl4溶液，冰水浴攪拌；
(3)劇烈攪拌下向(2)所得溶液中滴加NaBH4溶液，冰水浴低速攪拌；
(4)去離子水透析(3)所得溶液，過濾并滅菌，得到所述抗菌金納米顆粒，并儲存在4℃。
2.根據權利要求1所述的抗菌金納米顆粒，其特征在于，所述抗菌金納米顆粒的平均粒徑為1～50nm。
3.根據權利要求2所述的抗菌金納米顆粒，其特征在于，所述抗菌金納米顆粒的平均粒徑為2～10nm。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的抗菌金納米顆粒的制備方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟：
(1)將氨基糖溶于去離子水得到氨基糖溶液，向溶液中加入三乙胺和Tween 80混合均勻；
(2)向(1)所得溶液中加入HAuCl4溶液，冰水浴攪拌；
(3)劇烈攪拌下向(2)所得溶液中滴加NaBH4溶液，冰水浴低速攪拌；
(4)去離子水透析(3)所得溶液，過濾并滅菌，得到所述抗菌金納米顆粒，并儲存在4℃。
5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述步驟(1)中，所述氨基糖溶液的濃度為0.01～0.20mol/L；所述三乙胺與氨基糖溶液的體積比為1:100～1:200；所述Tween 80與所述氨基糖的摩爾比為1:1～1:10。
6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述步驟(1)中，所述氨基糖溶液的濃度為0.05～0.10mol/L；所述三乙胺與氨基糖溶液的體積比為1:100～1:150；所述Tween 80與所述氨基糖的摩爾比為1:1～1:5。
7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述步驟(1)中，所述氨基糖溶液的濃度為0.07mol/L；所述三乙胺與氨基糖溶液的體積比為1:120；所述Tween 80與所述氨基糖的摩爾比為1:1～1:2.8。
8.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述步驟(2)中，所述HAuCl4溶液的濃度為0.05～0.5mol/L；所述攪拌時間為1～20分鐘。
9.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，所述步驟(2)中，所述HAuCl4溶液的濃度為0.05～0.2mol/L；所述攪拌時間為5～15分鐘。
10.根據權利要求9所述的方法，其特征在于，所述步驟(2)中，所述HAuCl4溶液的濃度為0.1mol/L；所述攪拌時間為10分鐘。
11.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述步驟(3)中，所述NaBH4溶液的濃度為0.01～0.20mol/L；所述劇烈攪拌速度為1000～2000rpm；所述冰水浴攪拌時間為0.5～3小時。
12.根據權利要求11所述的方法，其特征在于，所述步驟(3)中，所述NaBH4溶液的濃度為0.02～0.10mol/L；所述劇烈攪拌速度為1000～1500rpm；所述冰水浴攪拌時間為0.5～2小時。
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