[發明專利]同軸腔介質振蕩器及其制備方法和應用

在審

• 申請號: 201710474155.2
• 申請日: 2017-06-21
• 公開（公告）號: CN107394333A
• 公開（公告）日: 2017-11-24
• 發明（設計）人: 曲燕霞;朱良凡;吳文書;葉貝貝
• 申請（專利權）人: 安徽華東光電技術研究所
• 主分類號: H01P7/04
• 分類號: H01P7/04;H01P7/06;H01P7/10;H01P11/00
• 代理公司: 北京潤平知識產權代理有限公司11283
• 代理人: 鄒飛艷,張苗

技術領域

本發明涉及介質振蕩器的制備領域，具體地，涉及同軸腔介質振蕩器及其制備方法和應用。

背景技術

同軸腔介質振蕩器以其工作頻率高、相噪低、性能穩定的特點，在微波系統中常用于接收機本機振蕩器，因此，其性能好壞直接影響接收機的靈敏度。

同軸腔介質振蕩器的工作模式往往是TEM模，而諧振頻率與它的外形尺寸和介電常數有關。因此，在相同工作頻率和波長模式下，介電常數越大，尺寸越小。因此，在工作頻率和介電常數一定的情況下，有時所需的振蕩器尺寸太長，甚至超出了生產廠家的生產標準，而太長的振蕩器必然導致振蕩器與電路板接觸面積大，不利于電路的小型化，同時振蕩器的安裝也比較困難。

因此，提供一種在不影響電路性能的前提下，能夠提高工作頻率，減小振蕩器長度的同軸腔介質振蕩器及其制備方法是本發明亟需解決的問題。

發明內容

針對上述現有技術，本發明的目的在于克服現有技術中同軸腔介質振蕩器往往在工作頻率和介電常數一定的情況下，其尺寸較大，不利于生產和使用的問題，從而提供一種在不影響電路性能的前提下，能夠提高工作頻率，減小振蕩器長度的同軸腔介質振蕩器及其制備方法。

為了實現上述目的，本發明提供了一種同軸腔介質振蕩器，其中，所述同軸腔介質振蕩器包括內部形成有腔體結構的第一柱體，和套合所述第一柱體的第二柱體，且所述第一柱體和所述第二柱體的兩個端面在各自同一平面上，且所述第一柱體和所述第二柱體的端面的表面為非金屬層表面，所述第一柱體和所述第二柱體的內側面和外側面覆蓋有金屬層。

優選地，端面所在的平面與側面形成的角度為90°。

本發明還提供了一種根據上述所述的同軸腔介質振蕩器的制備方法，其中，所述制備方法包括：將同軸腔介質振蕩器雛形的具有金屬層的端面表面的金屬層去除，制得同軸腔介質振蕩器；其中，

所述同軸腔介質振蕩器雛形包括第一柱體雛形和第二柱體雛形，且所述第一柱體雛形和所述第二柱體雛形的一個端面的表面為金屬層表面，另一個端面的表面為非金屬層表面，所述第一柱體雛形和所述第二柱體雛形的內側面和外側面覆蓋有金屬層。

優選地，所述同軸腔介質振蕩器雛形的頻率為f，所述同軸腔介質振蕩器的頻率為2f。

優選地，金屬層去除為采用金剛銼銼去。

優選地，所述制備方法還包括將去除了金屬層的端面進行打磨。

本發明還提供了一種根據上述所述的同軸腔介質振蕩器在TEM模式下的應用。

根據上述技術方案，本發明將同軸腔介質振蕩器雛形的金屬層表面的金屬層去除，且其另一個非金屬層表面不改變，其第一柱體雛形和第二柱體雛形的內側面和外側面的金屬層均不變，從而使得通過上述簡單的改進，能夠將其輸出頻率提高為原來的兩倍，從而達到在實現相同的技術效果的前提下，同軸腔介質振蕩器的尺寸能相較于同軸腔介質振蕩器雛形小一倍。

本發明的其他特征和優點將在隨后的具體實施方式部分予以詳細說明。

附圖說明

附圖是用來提供對本發明的進一步理解，并且構成說明書的一部分，與下面的具體實施方式一起用于解釋本發明，但并不構成對本發明的限制。在附圖中：

圖1是本發明提供的一種同軸腔介質振蕩器的側視圖；

圖2是本發明提供的一種同軸腔介質振蕩器的主視圖。

附圖標記說明

1-第一柱體 2-第二柱體。

具體實施方式

以下結合附圖對本發明的具體實施方式進行詳細說明。應當理解的是，此處所描述的具體實施方式僅用于說明和解釋本發明，并不用于限制本發明。

在本發明中，在未作相反說明的情況下，“內部、端面”等包含在術語中的方位詞僅代表該術語在常規使用狀態下的方位，或為本領域技術人員理解的俗稱，而不應視為對該術語的限制。

本發明提供了一種同軸腔介質振蕩器，其中，如圖1和圖2所示，所述同軸腔介質振蕩器包括內部形成有腔體結構的第一柱體1，和套合所述第一柱體1的第二柱體2，且所述第一柱體1和所述第二柱體2的兩個端面在各自同一平面上，且所述第一柱體1和所述第二柱體2的端面的表面為非金屬層表面，所述第一柱體1和所述第二柱體2的內側面和外側面覆蓋有金屬層。