[發(fā)明專利]一種玻璃基板內(nèi)缺陷檢測方法及裝置

有效

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• 申請日: 2017-06-15
• 公開（公告）號: CN106996937B
• 公開（公告）日: 2019-09-06
• 發(fā)明（設計）人: 周波;李青;王麗紅;胡恒廣
• 申請（專利權）人: 福州東旭光電科技有限公司;東旭集團有限公司
• 主分類號: G01N21/958
• 分類號: G01N21/958
• 代理公司: 北京英創(chuàng)嘉友知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 11447
• 代理人: 耿超;王浩然

本發(fā)明公開了一種玻璃基板內(nèi)缺陷檢測方法及裝置，玻璃基板內(nèi)缺陷檢測方法包括：將光源(1)和第一攝像裝置(2)分別設置在待檢測玻璃基板(3)板面的相對兩側(cè)；在與待檢測玻璃基板(3)發(fā)生相對移動過程中，所述光源(1)發(fā)射的光線穿過待檢測玻璃基板(3)后射入所述第一攝像裝置(2)；根據(jù)所述第一攝像裝置(2)內(nèi)的視場識別待檢測玻璃基板(3)內(nèi)是否存在缺陷。通過本發(fā)明的玻璃基板內(nèi)缺陷檢測方法及裝置能夠判斷玻璃基板內(nèi)是否存在缺陷，并且能夠準確地識別距離缺陷位置較近的待檢測玻璃基板(3)的板面。

技術領域

本發(fā)明涉及玻璃基板檢測技術領域，具體地，涉及一種玻璃基板內(nèi)缺陷檢測方法及裝置。

背景技術

平板顯示基板玻璃是一種對內(nèi)部缺陷容忍要求極高的超薄平板玻璃，對于內(nèi)部的氣泡、結(jié)石、析晶等缺陷要求不能超過一定的尺寸。現(xiàn)有技術中，玻璃基板內(nèi)是否存在缺陷的檢測方法非常復雜，而且，現(xiàn)有技術中對缺陷的位置，即接近于玻璃基板上板面還是下板面，是無能為力的。而實際上，下游客戶對于玻璃基板內(nèi)部的缺陷位置，是區(qū)別對待的。對于接近于制作薄膜晶體管那面的缺陷要求比接近于另一面缺陷的要求要嚴苛。因此，如何確定玻璃基板內(nèi)部缺陷位置是亟待解決的問題，需要發(fā)明一種能夠區(qū)分缺陷所處位置的檢測方法。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是提供一種玻璃基板內(nèi)缺陷檢測方法及裝置，通過本發(fā)明的裝置和方法既能檢測出玻璃基板內(nèi)是否存在缺陷，并且能夠識別出玻璃基板中距離缺陷更近的基板板面。

為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種玻璃基板內(nèi)缺陷檢測方法，該玻璃基板內(nèi)缺陷檢測方法包括：將光源和第一攝像裝置分別設置在待檢測玻璃基板板面的相對兩側(cè)；在與待檢測玻璃基板發(fā)生相對移動過程中，所述光源發(fā)射的光線穿過待檢測玻璃基板后射入所述第一攝像裝置；根據(jù)所述第一攝像裝置內(nèi)的視場識別待檢測玻璃基板內(nèi)是否存在缺陷。

可選地，當所述第一攝像裝置內(nèi)為不變的明亮視場時，判斷待檢測玻璃基板內(nèi)無缺陷；當所述第一攝像裝置內(nèi)為變化的明亮視場時，判斷待檢測玻璃基板內(nèi)存在缺陷。

可選地，該玻璃基板內(nèi)缺陷檢測方法還包括：在所述光源和待檢測玻璃基板發(fā)生相對移動過程中，設置第二攝像裝置，使第二攝像裝置的焦點位于待檢測玻璃基板內(nèi)部所述光源發(fā)射的光線上并且與待檢測玻璃基板其中一個板面間的距離不大于待檢測玻璃基板厚度的三分之一；當所述第一攝像裝置內(nèi)為變化的明亮視場時，根據(jù)所述第二攝像裝置內(nèi)的視場識別距離缺陷位置較近的待檢測玻璃基板的板面；優(yōu)選地，所述第二攝像裝置的焦點與待檢測玻璃基板其中一個板面間的距離不大于待檢測玻璃基板厚度的五分之一。

可選地，所述第一攝像裝置內(nèi)為變化的明亮視場，當所述第二攝像裝置內(nèi)為暗視場并閃現(xiàn)光線時，判斷缺陷位置接近于與所述第二攝像裝置焦點距離較近的待檢測玻璃基板的板面，當所述第二攝像裝置內(nèi)為暗視場且無光線時，判斷缺陷位置接近于與所述第二攝像裝置焦點距離較遠的待檢測玻璃基板的板面。

可選地，所述玻璃基板內(nèi)缺陷檢測方法在暗場環(huán)境中進行。

可選地，所述第一攝像裝置的光軸與所述光源發(fā)射的光線平行。

可選地，在所述光源和待檢測玻璃基板發(fā)生相對移動過程中，保持所述光源、所述第一攝像裝置和所述第二攝像裝置靜止移動待檢測玻璃基板。

可選地，所述第二攝像裝置的光軸與待檢測玻璃基板的板面相垂直。

本發(fā)明還提供一種玻璃基板內(nèi)缺陷檢測裝置，該玻璃基板內(nèi)缺陷檢測裝置包括：位于待檢測玻璃基板板面相對兩側(cè)的光源和第一攝像裝置，焦點位于待檢測玻璃基板內(nèi)部所述光源發(fā)射的光線上的第二攝像裝置；在與待檢測玻璃基板發(fā)生相對移動過程中，所述光源發(fā)射的光線穿過待檢測玻璃基板后射入所述第一攝像裝置，所述第二攝像裝置的焦點與待檢測玻璃基板其中一個板面間的距離不大于待檢測玻璃基板厚度的三分之一；優(yōu)選地，所述第二攝像裝置的焦點與待檢測玻璃基板其中一個板面間的距離不大于待檢測玻璃基板厚度的五分之一。