[發明專利]一種有機電致發光器件及制備方法、蒸鍍設備在審
| 申請號: | 201710446359.5 | 申請日: | 2017-06-14 |
| 公開(公告)號: | CN107123754A | 公開(公告)日: | 2017-09-01 |
| 發明(設計)人: | 劉欣;孔超 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/56 | 分類號: | H01L51/56;C23C14/24;C23C14/12 |
| 代理公司: | 北京同達信恒知識產權代理有限公司11291 | 代理人: | 郭潤湘 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 有機 電致發光 器件 制備 方法 設備 | ||
1.一種有機電致發光器件的制備方法,其特征在于,該方法包括:
在襯底基板上形成陽極層;
在形成有所述陽極層的所述襯底基板上真空蒸鍍待蒸鍍的有機功能層材料,并在蒸鍍所述待蒸鍍的有機功能層材料過程中對形成有所述陽極層的所述襯底基板進行熱處理,以形成有機功能層;
在形成有所述有機功能層的所述襯底基板上形成陰極層。
2.根據權利要求1所述的有機電致發光器件的制備方法,其特征在于,所述在形成有所述陽極層的所述襯底基板上真空蒸鍍待蒸鍍的有機功能層材料,并在蒸鍍所述待蒸鍍的有機功能層材料過程中對形成有所述陽極層的所述襯底基板進行熱處理,具體包括:
根據待蒸鍍的有機功能層材料的性質確定熱處理溫度;
利用設置在蒸鍍腔室中的熱源對所述襯底基板進行加熱至所述熱處理溫度;
在形成有所述陽極層的所述襯底基板上真空蒸鍍所述待蒸鍍的有機功能層材料,并采用所述熱處理溫度在蒸鍍所述待蒸鍍的有機功能層材料過程中對形成有所述陽極層的所述襯底基板進行熱處理。
3.根據權利要求2所述的有機電致發光器件的制備方法,其特征在于,所述利用設置在蒸鍍腔室中的熱源對所述襯底基板進行加熱,具體包括:
利用設置在蒸鍍腔室中并且位于所述襯底基板背向蒸發源一側的加熱基板對所述襯底基板進行加熱。
4.根據權利要求2所述的有機電致發光器件的制備方法,其特征在于,所述熱處理溫度為40-150℃。
5.根據權利要求1-4任一項所述的有機電致發光器件的制備方法,其特征在于,在形成有所述陽極層的所述襯底基板上形成有機功能層,具體包括:
在形成有所述陽極層的所述襯底基板上依次層疊真空蒸鍍制備空穴注入層、空穴傳輸層、發光層、電子傳輸層、電子注入層。
6.根據權利要求5所述的有機電致發光器件的制備方法,其特征在于,在制備所述空穴傳輸層之后,且在制備所述發光層之前,該方法還包括:
在所述空穴傳輸層上真空蒸鍍制備電子阻擋層。
7.根據權利要求6所述的有機電致發光器件的制備方法,其特征在于,在制備所述發光層之后,且在制備所述電子傳輸層之前,該方法還包括:
在所述發光層上真空蒸鍍制備空穴阻擋層。
8.一種有機電致發光器件,其特征在于,該有機電致發光器件為采用如權利要求1-7任一項所述的有機電致發光器件的制備方法制備得到的有機電致發光器件。
9.一種蒸鍍設備,包括:蒸鍍腔室,設置在所述蒸鍍腔室中的蒸發源,其特征在于,還包括:設置在所述蒸鍍腔室中的熱源,用于在制備如權利要求8所述的有機電致發光器件的過程中,在蒸鍍待蒸鍍的有機功能層材料過程中對形成有所述陽極層的所述襯底基板進行熱處理。
10.根據權利要求9所述的蒸鍍設備,其特征在于,所述熱源為設置在所述蒸鍍腔室中并且位于襯底基板背向蒸發源一側的加熱基板。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





