[發明專利]基板輸送裝置和基板輸送方法

有效

• 申請號: 201710443410.7
• 申請日: 2017-06-13
• 公開（公告）號: CN107492516B
• 公開（公告）日: 2023-06-02
• 發明（設計）人: 森川勝洋;松島祐大
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01L21/677
• 分類號: H01L21/677
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

本發明提供一種基板輸送裝置和基板輸送方法。抑制從基板的周緣部產生灰塵，并且防止對處理后的基板帶來處理前的基板的不良影響。實施方式所涉及的基板輸送裝置具備第一支承部和第二支承部以及升降機構。第一支承部和第二支承部從基板的下方支承基板。升降機構使第二支承部在第一位置與第二位置之間升降，其中，該第一位置是比固定式的第一支承部的高度高的位置，該第二位置是比第一支承部的高度低的位置。

技術領域

公開的實施方式涉及一種基板輸送裝置和基板輸送方法。

背景技術

以往，已知一種具備針對半導體晶圓、玻璃基板之類的基板進行規定的基板處理的多個處理部的基板處理裝置。

關于該基板處理裝置中的基板輸送，提出了一種技術，該技術的目的在于以不對處理后的基板帶來處理前的基板的不良影響的方式向處理部搬入基板以及從處理部搬出基板(例如參照專利文獻1)。

關于該基板處理裝置中的基板輸送，提出了一種技術，將用于支承基板的墊以能夠通過隔膜泵進行升降的方式設置并將多個該墊設為一組，設置多個該組并按組改變升降狀態，由此使處理前的基板的支承位置與處理后的基板的支承位置不同(例如參照專利文獻2)。

專利文獻1：日本特開2002-299405號公報

專利文獻2：日本特開平08-107136號公報

發明內容

發明要解決的問題

然而，在上述的專利文獻1的技術中，將基板傾斜地支承于具有多層的支承面的多個保持部之間，因此導致基板的周緣部與保持部接觸，例如在周緣部存在膜等的情況下，有可能發生膜脫落等而從周緣部產生灰塵。

另外，在上述的專利文獻2的技術中，即使利用隔膜泵進行流體的供排，也無法掌握墊實際上是否隨之進行升降而處于所期望的升降狀態。

實施方式的一個方式的目的在于，提供一種能夠抑制從基板的周緣部產生灰塵并且能夠防止對處理后的基板帶來處理前的基板的不良影響的基板輸送裝置和基板輸送方法。

實施方式的一個方式的目的在于，提供一種能夠掌握為了支承基板而進行升降的構件的實際的升降狀態的基板搬送裝置和基板搬送方法。

用于解決問題的方案

第1實施方式的基板輸送裝置具備：用于保持基板的保持部的基部；支承部，其設置于所述基部，從所述基板的下方支承該基板；升降機構，其使所述支承部相對于所述基部升降；以及檢測機構，其檢測所述支承部的升降狀態。

關于第2實施方式的基板輸送裝置，在第1實施方式的基板輸送裝置中，所述檢測機構具有光學傳感器，該光學傳感器以能夠形成沿水平方向的光軸的方式設置，以光學方式檢測被檢測物，所述保持部具備移動機構，該移動機構使所述支承部沿所述光軸進退。

關于第3實施方式的基板輸送裝置，在第2實施方式的基板輸送裝置中，還具備用于進行所述光學傳感器的位置控制的控制部，所述控制部在使所述檢測機構檢測所述支承部的升降狀態的情況下，進行所述光學傳感器的位置控制，以使得所述光軸與所述支承部重疊。

關于第4實施方式的基板輸送裝置，在第3實施方式的基板輸送裝置中，所述控制部通過將所述光學傳感器的位置控制與包括對所述移動機構的控制在內的所述保持部的動作控制進行組合，來使所述光軸與所述支承部重疊。

關于第5實施方式的基板輸送裝置，在第4實施方式的基板輸送裝置中，所述支承部設置有多個，所述控制部進行所述光學傳感器的位置控制以及所述保持部的動作控制，以使得各個所述支承部分別與所述光軸重疊。