[發明專利]真空控制閥

有效

• 申請號: 201710436765.3
• 申請日: 2017-06-12
• 公開（公告）號: CN107504249B
• 公開（公告）日: 2020-09-15
• 發明（設計）人: M·內策;丹尼爾·塞茨;H·松德雷格
• 申請（專利權）人: VAT控股公司
• 主分類號: F16K31/04
• 分類號: F16K31/04;F16K1/36;F16K1/32
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 呂俊剛;楊薇

1.一種真空控制閥(10、20、30、40)，所述真空控制閥(10、20、30、40)用于控制體積流或質量流并且用于以氣密方式中斷流路，所述真空控制閥(10、20、30、40)具有

·閥座(12、22、32、42)，所述閥座(12、22、32、42)包括限定開口軸線(A)的閥開口(16、26、36、46)、以及圍繞所述閥開口(16、26、36、46)并且限定第一密封平面(E_S)的第一密封表面(13、23、33)，

·閥盤(11、21、31、41)，所述閥盤(11、21、31、41)用于控制所述體積流或質量流并且用于中斷所述流路，具有對應于所述第一密封表面(13、23、33)的第二密封表面(14、24)，其中，所述第二密封表面(14、24)限定第二密封平面(E_T)，所述閥盤(11、21、31、41)的可變化的位置通過所述閥盤(11、21、31、41)的相應的位置和對準來確定，

·第一聯接元件(38、48)，所述第一聯接元件(38、48)連接到所述閥盤(11、21、31、41)并且包括接納裝置，用于提供所述閥盤(11、21、31、41)的受控引導，以及

·驅動單元(39、49)，所述驅動單元(39、49)與所述第一聯接元件(38、48)聯接，并且構造為使得所述閥盤(11、21、31、41)能在縱向關閉方向上至少基本上沿著幾何縱向軸線從打開位置調整到關閉位置并且返回，

ο在所述打開位置中，所述閥盤(11、21、31、41)和所述閥座(12、22、32、42)相對于彼此以無接觸方式存在，

ο在所述關閉位置中，由于位于所述第一密封表面(13、23、33)與所述第二密封表面(14、24)之間的密封件(15、25、35、45)而在所述第一密封表面(13、23、33)與所述第二密封表面(14、24)之間存在軸向密封接觸，并且所述閥開口(16、26、36、46)因此以氣密方式關閉，

其特征在于

所述驅動單元(39、49)和所述閥盤(11、21、31、41)如此構造和相互作用，使得所述閥盤(11、21、31、41)能調整到精細控制位置，其中

·所述閥盤(11、21、31、41)相對于所述閥座(12、22、32、42)以限定方式傾斜，使得所述第一密封平面(E_S)和所述第二密封平面(E_T)圍成限定角度(α)，并且

·所述密封件(15、25、35、45)充分地緊靠所述第一密封表面(13、23、33)或所述第二密封表面(14、24)并且僅部分地緊靠相應的另一個密封表面(13、23、33、14、24)。

2.根據權利要求1所述的真空控制閥(10、20、30、40)，其特征在于，所述驅動單元(39、49)借助于所述接納裝置與所述第一聯接元件(38、48)聯接。

3.根據權利要求1所述的真空控制閥(10、20、30、40)，其特征在于，所述驅動單元(39、49)和所述閥盤(11、21、31、41)構造和聯接為使得當將所述閥盤(11、21、31、41)從所述打開位置調整到所述關閉位置或者從所述關閉位置調整到所述打開位置時，所述閥盤(11、21、31、41)在到達所述關閉位置之前或者說在到達所述打開位置之前呈現所述精細控制位置。

4.根據權利要求1或3所述的真空控制閥(10、20、30、40)，其特征在于，所述閥盤(11、21、31、41)被定位在所述精細控制位置，使得通過所述第二密封表面(14、24)的延伸所限定的所述第二密封平面(E_T)向所述開口軸線(A)或者向所述縱向軸線傾斜。

5.根據權利要求1所述的真空控制閥(10、20、30、40)，其特征在于

·所述第一密封表面(13、23、33)指向與所述開口軸線(A)或縱向軸線平行的方向并且與所述開口軸線(A)或縱向軸線正交地延伸，或者

·所述第一密封表面(13、23、33)指向橫向于所述開口軸線(A)或縱向軸線的方向并且向與所述開口軸線(A)或縱向軸線正交地延伸的平面傾斜。