[發明專利]一種Sn?113/In?113m發生器及制備方法

在審

• 申請號: 201710425876.4
• 申請日: 2017-06-08
• 公開（公告）號: CN107293346A
• 公開（公告）日: 2017-10-24
• 發明（設計）人: 閻尓坤;白紅升
• 申請（專利權）人: 天津匯康藥業有限公司
• 主分類號: G21G4/04
• 分類號: G21G4/04;G21G4/06
• 代理公司: 天津市北洋有限責任專利代理事務所12201
• 代理人: 陸藝

1.一種Sn-113/In-113m發生器的制備方法，其特征是包括如下步驟：

1)在容器中，放入pH＝0.5-2、0.1-3mL放射性濃度為1.85-3.7GBq/mL的氯化錫[¹¹³Sn]水溶液，加入1-6mL、1-6M的酸水溶液，加入0.5-2.5mL質量濃度99％的液溴水溶液或質量濃度10％次氯酸鈉水溶液，再用1-6M的酸水溶液調節至放射性濃度為185-370MBq/mL；

2)在鉛防護罐(7)內設置支撐架(9)，將支撐架與加熱片(4)連接；加熱片(4)與電源插頭(5)連接；

3)取玻璃分離柱(3)，在玻璃分離柱底部設置篩板(1)，在篩板1上放上玻璃毛，再放入5-6g納米氧化鋯微粒(8)，將進液管(2)的一端設置在所述玻璃分離柱的上部，出液管(6)的一端設置在玻璃分離柱的下部，將步驟1)獲得的液體，以0.5-1mL/min的流速從進液管(2)加入，再用pH＝0.5-2的質量濃度為0.9％的氯化鈉水溶液淋洗，淋洗后，得到裝有吸附錫[¹¹³Sn]的納米氧化鋯微粒的玻璃分離柱，將所述裝有吸附錫[¹¹³Sn]的納米氧化鋯微粒的玻璃分離柱裝入步驟2)獲得的裝置內，將加熱片(4)與玻璃分離柱中部的外表面接觸，得到Sn-113/In-113m發生器。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征是所述酸為鹽酸，硫酸或硝酸。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于所述納米氧化鋯微粒的粒徑為10-20nm。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于所述玻璃分離柱的直徑為5mm-15mm，所述玻璃分離柱的長度為80-150mm。

5.權利要求1-5之的方法制備的Sn-113/In-113m發生器。