[發明專利]雙氧水穩定劑及包含其的蝕刻組合物有效
| 申請號: | 201710425495.6 | 申請日: | 2017-06-08 |
| 公開(公告)號: | CN107475715B | 公開(公告)日: | 2022-04-08 |
| 發明(設計)人: | 李明翰;李寶研;安鎬源;樸鐘模;金世訓 | 申請(專利權)人: | 易案愛富科技有限公司 |
| 主分類號: | C23F1/18 | 分類號: | C23F1/18;C23F1/26;C23F1/30 |
| 代理公司: | 上海弼興律師事務所 31283 | 代理人: | 薛琦 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 雙氧水 穩定劑 包含 蝕刻 組合 | ||
1.一種銅膜、銅/鉬膜、銅/鈦膜、銅/鉬合金膜或銅/銦合金膜用蝕刻組合物,其特征在于,包含:10重量百分比至30重量百分比的過氧化氫;0.01重量百分比至5重量百分比的蝕刻抑制劑;0.1重量百分比至5重量百分比的螯合劑;0.1重量百分比至5重量百分比的己胺以及作為余量的水;
所述蝕刻抑制劑為惡唑、咪唑、吡唑、三唑、四唑、氨基四唑、甲基四唑、苯并咪唑、苯并吡唑、甲基苯并三唑、氫甲基苯并三唑、羥基甲基苯并三唑、吲哚、嘌呤、吡啶、嘧啶、吡咯或吡咯啉。
2.根據權利要求1所述的銅膜、銅/鉬膜、銅/鈦膜、銅/鉬合金膜或銅/銦合金膜用蝕刻組合物,其特征在于,所述螯合劑在分子內包含氨基、羧酸基或膦酸基。
3.根據權利要求2所述的銅膜、銅/鉬膜、銅/鈦膜、銅/鉬合金膜或銅/銦合金膜用蝕刻組合物,其特征在于,所述螯合劑為選自亞氨基二乙酸、次氮基三乙酸、乙二胺四乙酸、二乙烯三腈五乙酸、氨基三(亞甲基膦酸)、(1-羥基乙烷-1,1-二基)雙(膦酸)、乙二胺四(亞甲基膦酸)、二亞乙基三胺五(亞甲基膦酸)、丙氨酸、谷氨酸、氨基丁酸及甘氨酸中的一種或兩種以上。
4.根據權利要求1所述的銅膜、銅/鉬膜、銅/鈦膜、銅/鉬合金膜或銅/銦合金膜用蝕刻組合物,其特征在于,所述蝕刻組合物還包含選自蝕刻添加劑、氟化合物及側蝕抑制劑中的一種或兩種以上。
5.根據權利要求4所述的銅膜、銅/鉬膜、銅/鈦膜、銅/鉬合金膜或銅/銦合金膜用蝕刻組合物,其特征在于,所述蝕刻添加劑為無機酸、有機酸、無機酸鹽、有機酸鹽或它們的混合物。
6.根據權利要求5所述的銅膜、銅/鉬膜、銅/鈦膜、銅/鉬合金膜或銅/銦合金膜用蝕刻組合物,其特征在于,所述無機酸為硫酸、硝酸或磷酸,所述有機酸為乙酸、甲酸、丁酸、檸檬酸、乙醇酸、草酸、丙二酸、戊酸、丙酸、酒石酸、葡糖酸、羥基乙酸或琥珀酸,所述無機酸鹽或有機酸鹽為磷酸氫二鉀、磷酸二氫鈉、磷酸氫二銨、磷酸鉀、過磷酸鉀、磷酸銨或過磷酸銨。
7.根據權利要求4所述的銅膜、銅/鉬膜、銅/鈦膜、銅/鉬合金膜或銅/銦合金膜用蝕刻組合物,其特征在于,所述氟化合物為選自HF、NaF、KF、AlF3、HBF4、NH4F、NH4HF2、NaHF2、KHF2及NH4BF4中的一種或兩種以上。
8.根據權利要求4所述的銅膜、銅/鉬膜、銅/鈦膜、銅/鉬合金膜或銅/銦合金膜用蝕刻組合物,其特征在于,所述側蝕抑制劑為選自腺嘌呤、鳥嘌呤、次黃嘌呤、黃嘌呤、可可堿、咖啡因、異鳥嘌呤及尿酸中的一種或兩種以上。
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