[發(fā)明專利]PCB電鍍裝置及電鍍厚度控制方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710423738.2 | 申請日: | 2017-06-07 |
| 公開(公告)號: | CN107090589B | 公開(公告)日: | 2022-03-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 唐小平;何劍俠;王曉軍 | 申請(專利權(quán))人: | 陜西克萊銘節(jié)能科技有限公司 |
| 主分類號: | C25D7/00 | 分類號: | C25D7/00;C25D17/02;C25D21/12 |
| 代理公司: | 西安萬知知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 61264 | 代理人: | 賈凌志 |
| 地址: | 710000 陜西省西安市高*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | pcb 電鍍 裝置 厚度 控制 方法 | ||
1.一種電鍍厚度控制方法,其特征在于,使用PCB電鍍裝置,所述電鍍裝置包括用于盛放電鍍液的電鍍缸體、安裝在所述電鍍缸體的內(nèi)側(cè)的第一陽極鈦籃、第二陽極鈦籃、以及浮動在所述電鍍缸體內(nèi)的電鍍浮槽,所述電鍍浮槽包括浮槽體及安裝在浮槽體內(nèi)的支撐架,所述浮槽體的內(nèi)壁與所述支撐架圍成一容置腔以容置所述PCB板件,所述第一陽極鈦籃與所述第二陽極鈦籃相對設(shè)置;所述浮槽體的側(cè)壁上設(shè)有若干通孔,各所述通孔均勻間隔排列并與容置腔連通,所述通孔配合所述第一陽極鈦籃、第二陽極鈦籃用于對所述PCB板件進(jìn)行電鍍;所述電鍍浮槽還包括安裝在所述浮槽體相對兩側(cè)的若干滑槽構(gòu)件、及卡接在所述滑槽構(gòu)件上的擋板,各所述擋板的兩端部設(shè)有滑動槽以滑接所述滑槽構(gòu)件;
該電鍍厚度控制方法包括如下步驟:
向所述電鍍缸體注入電鍍液,向所述第一陽極鈦籃、第二陽極鈦籃內(nèi)分別放入電鍍原料,將所述電鍍浮槽放進(jìn)所述電鍍缸體內(nèi);
通過夾持裝置將所述PCB板件放在所述支撐架上,所述電鍍液從所述通孔及浮槽體的底部流入所述電鍍浮槽內(nèi),以使所述第一陽極鈦籃與第二陽極鈦藍(lán)在所述電鍍液內(nèi)形成電力線用于對所述PCB板件進(jìn)行電鍍;
當(dāng)所述電鍍浮槽浮動在所述電鍍缸體內(nèi)時,所述擋板位于加熱管道的上方并對所述電鍍浮槽的下端部的通孔進(jìn)行遮擋;當(dāng)所述PCB板件的厚度逐漸增厚時,所述電鍍浮槽往所述電鍍缸體底部的下沉,所述擋板與所述加熱管道抵接并相對于所述側(cè)壁向上移動,以對所述浮槽體的上端部的通孔進(jìn)行遮擋,從而控制所述第一陽極鈦籃及第二陽極鈦籃與對應(yīng)的所述PCB板件的電力走向,以實(shí)現(xiàn)對所述PCB板件的厚度均勻控制。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電鍍厚度控制方法,其特征在于,所述PCB板件的鍍層厚度d=ρ×h×η×κ;其中,d為鍍層厚度,單位為μm;ρ為電流密度,單位為ASF;h為電鍍時間,單位為min;η為電鍍效率,單位為%;κ為電鍍系數(shù)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電鍍厚度控制方法,其特征在于,所述鍍層厚度為銅鍍層厚度,所述電鍍系數(shù)為0.0202。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電鍍厚度控制方法,其特征在于,所述鍍層厚度為錫鍍層厚度,所述電鍍系數(shù)為0.0456。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電鍍厚度控制方法,其特征在于,所述電流密度ρ=;其中,ρ為電流密度,單位為ASF;L為PCB板件的板長,單位為mm;W為PCB板件的板寬,單位為mm;A為電流,單位為μA;S1為PCB板件的c面的有效電鍍面積,單位為mm2;S2為PCB板件的S面的有效電鍍面積,單位為mm2。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電鍍厚度控制方法,其特征在于,所述擋板的外形尺寸與所述浮槽體的側(cè)壁的外形尺寸適配。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電鍍厚度控制方法,其特征在于,所述滑動槽 的高度小于所述浮槽體的側(cè)壁的高度。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電鍍厚度控制方法,其特征在于,所述電鍍缸體的底部設(shè)有若干加熱管道,各所述加熱管道均勻排列并與所述電鍍浮槽相對設(shè)置。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于陜西克萊銘節(jié)能科技有限公司,未經(jīng)陜西克萊銘節(jié)能科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710423738.2/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





