[發(fā)明專利]五段式加熱控制方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710423223.2 | 申請(qǐng)日: | 2017-06-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107007146B | 公開(公告)日: | 2019-05-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉柏良;劉橋 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 四川長(zhǎng)虹電器股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | A47J29/02 | 分類號(hào): | A47J29/02 |
| 代理公司: | 四川省成都市天策商標(biāo)專利事務(wù)所 51213 | 代理人: | 劉興亮;王荔 |
| 地址: | 621000 四*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 段式 加熱 控制 方法 | ||
1.五段式加熱控制方法,其特征在于包括:
第一段:基準(zhǔn)統(tǒng)一階段;
第二段:水量推算階段;
第三段:升溫階段;
第四段:校溫階段;
第五段:恒溫階段;
所述基準(zhǔn)統(tǒng)一階段是為了把水溫加熱到統(tǒng)一的初始基準(zhǔn)溫度T1,加熱時(shí)長(zhǎng)t1,在t1時(shí)長(zhǎng)范圍內(nèi)T1溫度波動(dòng)則采用PID算法間歇性調(diào)節(jié),保持在T1;
所述水量推算階段是在統(tǒng)一初始基準(zhǔn)溫度后,加熱時(shí)長(zhǎng)t2,測(cè)量當(dāng)前溫度T2,并根據(jù)預(yù)設(shè)的推算階段基準(zhǔn)溫度T20,利用公式W=(T20-T2)/t2計(jì)算水量因子,并根據(jù)水量因子的值判斷水量多少;
所述升溫階段持續(xù)升溫至T3,因?yàn)榧訜徇^程中水量存在差異,加熱時(shí)長(zhǎng)t3不同;T3溫度大于基準(zhǔn)溫度T20;
所述校溫階段是由于加熱過程中水的上表面和底部存在溫差,校溫階段進(jìn)行水溫勻熱至T4;
所述恒溫階段圍繞T4溫度采用PID算法間歇性調(diào)節(jié),控制溫度在T4,直至設(shè)定的加熱時(shí)長(zhǎng)t5結(jié)束。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述五段式加熱控制方法,其特征在于:
所述當(dāng)前溫度T2小于推算階段基準(zhǔn)溫度T20,水量因子在計(jì)算時(shí),溫度單位為℃,時(shí)間單位為min,水量因子在應(yīng)用時(shí),忽略單位。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述五段式加熱控制方法,其特征在于:
所述校溫階段加熱標(biāo)準(zhǔn)時(shí)長(zhǎng)為t4,水量因子W>1時(shí),需要補(bǔ)償加熱時(shí)間(W-1)*t4,即加熱時(shí)間為t4+(W-1)*t4,水量因子W<1時(shí)加熱時(shí)長(zhǎng)為(1-W)*t4,加熱完成后,等待勻熱溫度至T4。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于四川長(zhǎng)虹電器股份有限公司,未經(jīng)四川長(zhǎng)虹電器股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710423223.2/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種合金圓鋸片割管機(jī)
- 下一篇:一種分隔式的型材成品鋸
- 一種數(shù)據(jù)庫讀寫分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





