[發明專利]用于生產光學元件的方法有效
| 申請號: | 201710408133.6 | 申請日: | 2017-06-02 |
| 公開(公告)號: | CN107462941B | 公開(公告)日: | 2020-12-11 |
| 發明(設計)人: | C.貝德;C.扎切克;E.加貝爾;D.托諾瓦;M.孫德曼 | 申請(專利權)人: | 卡爾蔡司醫療技術股份公司 |
| 主分類號: | G02B1/10 | 分類號: | G02B1/10;G02B1/11 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 盧江;杜荔南 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 生產 光學 元件 方法 | ||
本發明提出了用于生產光學元件的方法,該光學元件包括主體,該主體帶有第一側表面和至少一個第二側表面,該第一側表面具有第一光學涂層,該至少一個第二側表面并非平面平行于該第一側表面并且具有第二光學涂層,該方法包括以下步驟:?確定該第一側表面的該第一光學涂層在該光學元件中引起的應力;?確定對抗應力,從而使得在該光學元件中引起的合成總應力盡可能小;?在考慮所確定的對抗應力和這個第二光學涂層的光學參數的同時確定該第二光學涂層;?將該第一光學涂層涂覆在該第一側表面上;?將該第二光學涂層涂覆在該至少一個第二側表面上。
本發明涉及一種用于生產光學元件的方法,該光學元件包括主體,該主體帶有第一側表面和至少一個第二側表面,該第一側表面具有第一光學涂層,該至少一個第二側表面不平面平行于該第一側表面并且具有第二光學涂層。本發明還涉及通過這種方法生產的光學元件。
已知的是在光學元件在其主體上具有光學涂層的情況下,該光學涂層可能引起壓應力或張應力。光學涂層越厚,并且特別是光學涂層的層數越大,引起的應力就越大。這些應力導致主體變形,這可以例如顯現為波前變形。
在立方形結構的光學元件(例如,像法布里-珀羅干涉儀)情況下,例如從應用光學(Applied Optics)第53卷,12號,第2616頁及以下的頁中Marie-Maude de Denus-Baillargeon等人的文章已知將光學涂層本身優化到其所施加的應力盡可能小的程度或在最簡單的情況下將完全相同的涂層涂覆到與涂布側相反的那側,從而使得應力彼此相抵消。在作者以其來尋求找到合適的涂層的這些方式當中有借助于有限元法的計算方法。
在用于UV或EUV光刻的光學元件在基材的第一側具有功能涂層的情況下,從DE 102011 079 933 A1中已知在具有與第一側共用的邊緣的第二側上提供具有一定厚度和應力的涂層,該厚度和應力被選擇成使得該功能性涂層的厚度和應力的乘積除以第二側的涂層的厚度和應力的所得到的商處于0.8與5.0之間的值范圍內。具體地,與第一邊緣共享共用邊緣的所有側都被涂覆以便補償應力。
本發明的目的是提出一種用于生產光學元件的方法,其中,減小光學涂層引起的主體變形。
此目的是通過用于生產光學元件的方法來實現的,該光學元件包括主體,該主體帶有第一側表面和至少一個第二側表面,該第一側表面具有第一光學涂層,該至少一個第二側表面并非平面平行于該第一側表面并且具有第二光學涂層,該方法包括以下步驟:
- 確定該第一側表面的該第一光學涂層在該光學元件中引起的應力;
- 確定對抗應力,從而使得在該光學元件中引起的合成總應力盡可能小;
- 在考慮所確定的對抗應力和這個第二光學涂層的光學參數的同時確定該第二光學涂層;
- 將該第一光學涂層涂覆在該第一側表面上;
- 將該第二光學涂層涂覆在該至少一個第二側表面上。
在光學元件具有至少兩個并非平面平行于彼此的側表面的情況下,光學元件的情況可以是例如其主體被形成為棱鏡或基本上楔形板、或是至少一條邊緣角度不等于90°的任何多面體,存在的問題是不能容易地使用從現有技術已知的、例如在相反側表面上涂覆完全相同的涂層的方法或為鄰接的側表面提供任何涂層的方法(只要由此達到充分的應力補償即可)。如果光學元件的這些側表面中的一個或多個側表面彎曲,則問題加重。
應指出的是,第一側表面的第一光學涂層引起的應力和對抗應力是機械應力,具體是壓應力和/或拉伸應力。
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