[發明專利]用于生產光學元件的方法

有效

• 申請號: 201710408133.6
• 申請日: 2017-06-02
• 公開（公告）號: CN107462941B
• 公開（公告）日: 2020-12-11
• 發明（設計）人: C.貝德;C.扎切克;E.加貝爾;D.托諾瓦;M.孫德曼
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司醫療技術股份公司
• 主分類號: G02B1/10
• 分類號: G02B1/10;G02B1/11
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 盧江;杜荔南

1.用于生產光學元件的方法，該光學元件包括主體，該主體帶有第一側表面和至少一個第二側表面，該第一側表面具有第一光學涂層，該至少一個第二側表面并非平面平行于該第一側表面并且具有第二光學涂層，該方法包括以下步驟：

- 確定該第一側表面的該第一光學涂層在該光學元件中引起的應力；

- 確定對抗應力，從而使得在該光學元件中引起的合成總應力盡可能小；

- 在考慮所確定的對抗應力和這個第二光學涂層的光學參數的同時確定該第二光學涂層；

- 將該第一光學涂層涂覆在該第一側表面上；

- 將該第二光學涂層涂覆在該至少一個第二側表面上。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，該第二涂層是在以下條件下確定的：帶有相應涂層的該第一側表面的和/或該第二側表面的方均根值被限制為最大值為主波長的10%，和/或其斯特列爾比或它們的斯特列比為至少0.8。

3.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于，使用有限元法的計算方法來確定該第一側表面的該光學涂層在該光學元件中引起的抵抗應力和/或應力和/或確定該第二涂層。

4.根據權利要求1至3之一所述的方法，其特征在于，在將該第一光學涂層涂覆在該第一側表面上并且將該第二光學涂層涂覆在該至少一個第二側表面上之后，實驗性地確定了在該光學元件中實際引起的總應力、將之與所期望的總應力相比較、并且在偏差過大的情況下對該第一光學涂層和/或第二光學涂層和/或該光學元件的進一步的側表面加以局部加工。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，通過磁流變拋光或離子束拋光來實施該局部加工。

6.根據權利要求1至5之一所述的方法，其特征在于，修改該光學元件的主體。

7.根據權利要求1至6之一所述的方法，其特征在于，這些光學涂層是通過離子輔助或等離子體輔助物理氣相沉積法或通過濺射法涂覆的。

8.通過根據權利要求1至7之一所述的方法生產的光學元件。

9.根據權利要求8所述的光學元件，其特征在于，該至少一個第二側表面鄰接該第一側表面。

10.根據權利要求8或9所述的光學元件，其特征在于，該光學元件的主體或該主體的子單元被形成為棱鏡（105，205）或楔形板。

11.根據權利要求8至10之一所述的光學元件，其特征在于，該光學元件具有第一或第二光學涂層，該第一或第二光學涂層形成為減反射涂層、形成為反射涂層或形成為濾光層。

12.根據權利要求8至11之一所述的光學元件，其特征在于，該光學元件被設計成用于在紅外和/或可見光波長范圍內使用。