[發明專利]一種鈣鈦礦薄膜涂布設備及使用方法和應用

有效

• 申請號: 201710406229.9
• 申請日: 2017-06-02
• 公開（公告）號: CN108970913B
• 公開（公告）日: 2023-09-01
• 發明（設計）人: 請求不公布姓名
• 申請（專利權）人: 杭州纖納光電科技有限公司
• 主分類號: B05C9/06
• 分類號: B05C9/06;B05C5/02;B05C13/02;B05D3/04;B05D3/06;H10K71/15
• 代理公司: 杭州奧創知識產權代理有限公司 33272
• 代理人: 楊文華

本發明涉及一種鈣鈦礦薄膜涂布設備，包括輸送基片的傳送裝置、鈣鈦礦溶液涂布裝置、反溶劑噴涂裝置以及風干裝置或加熱干燥裝置，鈣鈦礦溶液涂布裝置設置有鈣鈦礦涂布頭，反溶劑噴涂裝置設置有反溶劑噴涂嘴?；涍^傳送裝置帶動依次經過鈣鈦礦溶液涂布裝置、反溶劑噴涂裝置和風干裝置或加熱干燥裝置，出風口的風將基片表面上的鈣鈦礦溶液和反溶劑同時揮發干燥并形成鈣鈦礦薄膜。本發明還涉及該涂布設備的使用方法和應用。本發明對現有的一步溶液法和兩步溶液法設備及使用方法和應用進行改進，對噴涂或涂布有鈣鈦礦溶液的基片進行風吹或紅外線加熱干燥，在保證低生產成本的同時，提高成膜質量，適合進行基片的鈣鈦礦薄膜大面積規模化生產。

技術領域

本發明屬于太陽能電池技術領域，特別涉及一種鈣鈦礦薄膜涂布設備及使用方法和應用。

背景技術

近年來，鈣鈦礦太陽能電池受到廣泛關注，現有制備鈣鈦礦薄膜的方法和設備多種多樣。目前，制備鈣鈦礦薄膜的常用方法有一步溶液法、兩步溶液法、氣相輔助溶液法和共蒸沉積。其中共蒸沉積和氣相輔助溶液法由于涉及真空設備，成本高昂，不利于大規模生產降低成本。

常規的一步溶液法工藝是將先將鈣鈦礦溶液配置好，再取一定量溶液進行旋涂，最后，將旋涂好的鈣鈦礦濕膜進行高溫退火而形成鈣鈦礦薄膜。盡管此方法方便、快捷且成本低廉，但是這種方法做出的薄膜不夠致密且很難規?；a。

在兩步溶液法中，第一步就是利用溶液沉積一層鈣鈦礦薄膜預置層。預制層薄膜的品質直接決定了后續工藝得到的鈣鈦礦薄膜的品質。常規的鈣鈦礦薄膜預置層涂布工藝得到的薄膜不均勻、不致密、缺陷多，具體表現為薄膜各個地方厚度不均勻，薄膜表面針孔多，粗糙度大，批次間可重復性差等。而且現有的兩步溶液法中還存在無法快速均勻干燥預制層的問題和干燥過程中容易受環境對流影響的問題，這種方法做出的薄膜也很難規模化生產。

發明內容

本發明所要解決的技術問題在于，提供一種鈣鈦礦薄膜涂布設備及使用方法和應用，對鈣鈦礦薄膜涂布設備和工藝進行改進，采用新型鈣鈦礦薄膜涂布設備和工藝，彌補其不足。這樣，在保證低的生產成本的前提下，提高了成膜質量，改善了規?；a工藝，極大地提高了鈣鈦礦成膜效率。

本發明是這樣實現的，提供一種鈣鈦礦薄膜涂布設備，包括輸送基片的傳送裝置、鈣鈦礦溶液涂布裝置、反溶劑噴涂裝置以及風干裝置或加熱干燥裝置，所述基片預先制備了底電極層，所述傳送裝置設置有傳送帶或傳送軸，所述鈣鈦礦溶液涂布裝置設置有涂布頭，所述涂布頭為鈣鈦礦涂布頭，所述反溶劑噴涂裝置設置有噴涂嘴，所述噴涂嘴為反溶劑噴涂嘴，所述風干裝置設置有出風口，所述加熱干燥裝置設置有紅外線加熱器，基片放置在所述傳送帶或傳送軸上由其帶動依次經過鈣鈦礦溶液涂布裝置、反溶劑噴涂裝置和風干裝置或加熱干燥裝置，所述鈣鈦礦涂布頭將鈣鈦礦溶液涂布在基片表面上，所述反溶劑噴涂嘴將反溶劑噴涂在基片表面上，所述出風口的風將基片表面上的鈣鈦礦溶液和反溶劑同時揮發干燥并形成鈣鈦礦薄膜，所述加熱干燥裝置的紅外線加熱器分別從基片上下兩側同時對其加熱將其表面上的鈣鈦礦溶液和反溶劑一起蒸發干燥并形成鈣鈦礦薄膜。

本發明是這樣實現的，提供一種鈣鈦礦薄膜涂布設備，包括輸送基片的傳送裝置、鈣鈦礦溶液噴涂裝置、反溶劑涂布裝置以及風干裝置或加熱干燥裝置，所述基片預先制備了底電極層，所述傳送裝置設置有傳送帶或傳送軸，所述鈣鈦礦溶液噴涂裝置設置有噴涂嘴，所述噴涂嘴為鈣鈦礦噴涂嘴，所述反溶劑涂布裝置設置有涂布頭，所述涂布頭為反溶劑涂布頭，所述風干裝置設置有出風口，所述加熱干燥裝置設置有紅外線加熱器，基片放置在所述傳送帶或傳送軸上由其帶動依次經過鈣鈦礦溶液噴涂裝置、反溶劑涂布裝置和風干裝置或加熱干燥裝置，所述鈣鈦礦噴涂嘴將鈣鈦礦溶液噴涂在基片表面上，所述反溶劑涂布頭將反溶劑涂布在基片表面上，所述出風口的風將基片表面上的鈣鈦礦溶液和反溶劑同時揮發干燥并形成鈣鈦礦薄膜，所述加熱干燥裝置的紅外線加熱器分別從基片上下兩側同時對其加熱將其表面上的鈣鈦礦溶液和反溶劑一起蒸發干燥并形成鈣鈦礦薄膜。