[發(fā)明專利]陶瓷小鍵的拋光方法、陶瓷小鍵及陶瓷小鍵制品

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710405913.5
• 申請(qǐng)日: 2017-06-01
• 公開（公告）號(hào): CN108972310A
• 公開（公告）日: 2018-12-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 饒橋兵;聶小威
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 藍(lán)思科技（長沙）有限公司
• 主分類號(hào): B24B31/02
• 分類號(hào): B24B31/02;B24B31/12;B24B31/14;H04M1/23
• 代理公司: 北京超凡志成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11371
• 代理人: 李進(jìn)

1.一種陶瓷小鍵的拋光方法，其特征在于，該方法采用行星式滾拋機(jī)對(duì)陶瓷小鍵進(jìn)行滾拋。

2.按照權(quán)利要求1所述的陶瓷小鍵的拋光方法，其特征在于，包括以下步驟：

向行星式滾拋機(jī)的滾筒中加入陶瓷小鍵和拋光料，運(yùn)行行星式滾拋機(jī)對(duì)陶瓷小鍵進(jìn)行滾拋；拋光料包括磨料和水；

優(yōu)選地，磨料加入量為滾筒容積的40～80％(v/v)；

優(yōu)選地，水加入量為滾筒容積的0.025～0.125％(v/v)。

3.按照權(quán)利要求2所述的陶瓷小鍵的拋光方法，其特征在于，所述磨料包括大尺寸高頻瓷拋光石和小尺寸高頻瓷拋光石；

大尺寸高頻瓷拋光石和小尺寸高頻瓷拋光石均獨(dú)立地為圓柱體，大尺寸高頻瓷拋光石長度為10～20mm，底面直徑為3～5mm；小尺寸高頻瓷拋光石長度為3～8mm，底面直徑為0.5～2mm；

優(yōu)選地，小尺寸高頻瓷拋光石和大尺寸高頻瓷拋光石的數(shù)量比為1：(1～5)。

4.按照權(quán)利要求3所述的陶瓷小鍵的拋光方法，其特征在于，滾筒中陶瓷小鍵和大尺寸高頻瓷拋光石的數(shù)量比為1：(10～15)。

5.按照權(quán)利要求2-4任一項(xiàng)所述的陶瓷小鍵的拋光方法，其特征在于，拋光料還包括研磨粉和陶瓷光亮劑；

研磨粉加入量為滾筒容積的0.01～0.02％(m/v)；

陶瓷光亮劑加入量為滾筒容積的0.02～0.03％(v/v)。

6.按照權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的陶瓷小鍵的拋光方法，其特征在于，行星式滾拋機(jī)轉(zhuǎn)速為30～40r/min；運(yùn)行時(shí)間為20～24h。

7.按照權(quán)利要求2-4任一項(xiàng)所述的陶瓷小鍵的拋光方法，其特征在于，所述拋光方法還包括滾拋完成后將陶瓷小鍵和拋光料倒入膠箱內(nèi)，在膠箱內(nèi)將陶瓷小鍵挑出并清洗的步驟。

8.按照權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的陶瓷小鍵的拋光方法，其特征在于，包括以下步驟：

(a)向行星式滾拋機(jī)的滾筒中加入陶瓷小鍵和拋光料，拋光料包括磨料、研磨粉、陶瓷光亮劑和水；

磨料加入量為滾筒容積的40～80％(v/v)；研磨粉加入量為滾筒容積的0.01～0.02％(m/v)；陶瓷光亮劑加入量為滾筒容積的0.02～0.03％(v/v)；水加入量為滾筒容積的0.025～0.125％(v/v)；

其中，磨料包括大尺寸高頻瓷拋光石和小尺寸高頻瓷拋光石，大尺寸高頻瓷拋光石和小尺寸高頻瓷拋光石均為圓柱體，大尺寸高頻瓷拋光石長度為10～20mm，底面直徑為3～5mm；小尺寸高頻瓷拋光石長度為3～8mm，底面直徑為0.5～2mm；小尺寸高頻瓷拋光石和大尺寸高頻瓷拋光石的數(shù)量比為1：(1～5)；

滾筒中的陶瓷小鍵和大尺寸高頻瓷拋光石的數(shù)量比為1：(10～15)；

(b)任選地，重復(fù)步驟(a)，使行星式滾拋機(jī)的所有滾筒均加好陶瓷小鍵和拋光料；

(c)運(yùn)行行星式滾拋機(jī)對(duì)陶瓷小鍵進(jìn)行滾拋，行星式滾拋機(jī)的轉(zhuǎn)速為30～40r/min，運(yùn)行時(shí)間為20～24h；

(d)滾拋完成后將陶瓷小鍵和拋光料倒入膠箱內(nèi)，在膠箱內(nèi)將陶瓷小鍵挑出并清洗，得到拋光后陶瓷小鍵。

9.一種陶瓷小鍵，其特征在于，采用權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的陶瓷小鍵的拋光方法拋光得到。

10.一種陶瓷小鍵制品，其特征在于，包括權(quán)利要求9所述的陶瓷小鍵的拋光方法拋光得到的陶瓷小鍵。