[發明專利]一種5?溴嘧啶化合物的制備方法在審
| 申請號: | 201710405676.2 | 申請日: | 2017-06-01 |
| 公開(公告)號: | CN107163023A | 公開(公告)日: | 2017-09-15 |
| 發明(設計)人: | 鄧澤平;陳芳軍 | 申請(專利權)人: | 湖南華騰制藥有限公司 |
| 主分類號: | C07D401/04 | 分類號: | C07D401/04 |
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| 地址: | 410205 湖南省長沙市高新開*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 嘧啶 化合物 制備 方法 | ||
1.一種制備(1-(5-溴嘧啶-2-基)哌啶-3-基)甲胺的方法,以N-Boc-3-哌啶甲酸為起始原料,經過酯化、還原、縮合、取代、脫叔丁氧羰基保護、縮合、還原得到目標產物8,合成路線如下,
2.根據權利要求1的方法,其特征為所述的7步反應是,
(1)以N-Boc-3-哌啶甲酸為起始原料,經過酯化反應得到2;
(2)把2進行還原反應,得到3;
(3)把3進行縮合反應得到4;
(4)把4進行取代反應得到5,
(5)把5進行脫叔丁氧羰基保護反應得到6,
(6)把6進行縮合反應得到7,
(7)把7進行還原反應得到8,
3.根據權利要求1的方法,其特征在于,所述的酯化反應制備化合物2所用的甲基化試劑選自原甲酸三甲酯、硫酸二甲酯、碘甲烷中的一種或幾種的混合物;所述的還原反應制備化合物3所用的還原劑選自硼氫化鈉、硼氫化鉀、硼氫化鋰、氰基硼氫化鈉、氫化鋰鋁、硼烷中的一種或幾種的混合物;所述的縮合反應制備化合物4所用的堿選自氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰、碳酸鈉、碳酸鉀、三乙胺、碳酸氫鈉、吡啶、三異丙基胺、碳酸氫鉀中的一種或幾種的混合物;所述的取代反應制備化合物5所用的試劑選自疊氮化鈉;所述的脫叔丁氧羰基保護反應制備化合物6所用的脫保護劑選自氯化氫、硫酸、對甲苯磺酸、三氟乙酸中的一種或幾種的混合物;所述的縮合反應制備化合物7所用的堿選自氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰、碳酸鈉、碳酸鉀、三乙胺、碳酸氫鈉、吡啶、三異丙基胺、碳酸氫鉀中的一種或幾種的混合物;所述的還原反應制備化合物8所用的還原劑選自硼氫化鈉、硼氫化鉀、硼氫化鋰、氰基硼氫化鈉、氫化鋰鋁、硼烷中的一種或幾種的混合物。
4.根據權利要求1的方法,其特征在于,所述的酯化反應制備化合物2所用的溶劑選自甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、四氫呋喃、二氯甲烷、甲苯、鄰二甲苯、對二甲苯、間二甲苯、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺中的一種或幾種的混合物;所述的還原反應制備化合物3所用的溶劑選自甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、四氫呋喃、二氯甲烷、甲苯、鄰二甲苯、對二甲苯、間二甲苯、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、水中的一種或幾種的混合物;所述的縮合反應制備化合物4所用的溶劑選自四氫呋喃、二氯甲烷、甲苯、鄰二甲苯、對二甲苯、間二甲苯、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、中的一種或幾種的混合物;所述的取代反應制備化合物5所用的溶劑選自四氫呋喃、二氯甲烷、三氯甲烷、乙酸乙酯、甲苯、鄰二甲苯、對二甲苯、間二甲苯、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺中的一種或幾種的混合物;所述的脫叔丁氧羰基保護反應制備化合物6所用的溶劑選自四氫呋喃、二氯甲烷、三氯甲烷、乙酸乙酯、甲苯、鄰二甲苯、對二甲苯、間二甲苯、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺中的一種或幾種的混合物;所述的縮合保護反應制備化合物7所用的溶劑選自四氫呋喃、二氯甲烷、三氯甲烷、乙酸乙酯、甲苯、鄰二甲苯、對二甲苯、間二甲苯、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺中的一種或幾種的混合物;所述的還原反應制備化合物8所用的溶劑選自甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、四氫呋喃、二氯甲烷、甲苯、鄰二甲苯、對二甲苯、間二甲苯、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺中的一種或幾種的混合物。
5.根據權利要求1的方法,其特征在于,所述的酯化反應制備化合物2所用的反應溫度是0℃~溶劑的回流溫度;所述的還原反應制備化合物3所用的溫度是0℃~室溫;所述的縮合反應制備化合物4所用的溫度是0℃~溶劑的回流溫度;所述的取代反應制備化合物5所用的溫度是0℃~溶劑的回流溫度;所述的脫叔丁氧羰基保護反應制備化合物6所用的溫度是0℃~室溫;所述的縮合保護反應制備化合物7所用的溫度是0℃~溶劑的回流溫度;所述的還原反應制備化合物8所用的溫度是0℃~溶劑的回流溫度。
6.根據權利要求1的方法,其特征在于,所述的酯化反應制備化合物2所用的反應溫度是室溫;所述的還原反應制備化合物3所用的溫度是室溫;所述的縮合反應制備化合物4所用的溫度是溶劑的回流溫度;所述的取代反應制備化合物5所用的溫度是溶劑的回流溫度;所述的脫叔丁氧羰基保護反應制備化合物6所用的溫度是室溫;所述的縮合保護反應制備化合物7所用的溫度是溶劑的回流溫度;所述的還原反應制備化合物8所用的溫度是室溫。
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