[發明專利]一種攝像模組、電子設備、污點修復方法及系統在審
| 申請號： | 201710403088.5 | 申請日： | 2017-06-01 |
| 公開（公告）號： | CN106973291A | 公開（公告）日： | 2017-07-21 |
| 發明（設計）人： | 何純萍 | 申請（專利權）人： | 信利光電股份有限公司 |
| 主分類號： | H04N17/00 | 分類號： | H04N17/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司11227 | 代理人： | 王寶筠 |
| 地址： | 516600 廣東省汕尾*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 攝像 模組 電子設備 污點 修復 方法 系統 | ||
1.一種污點修復方法，其特征在于，應用于攝像模組，所述攝像模組包括鏡頭模組和感光芯片，所述鏡頭模組包括濾光片；所述污點修復方法包括：
在所述攝像模組拍攝照片時，檢測所述濾光片和感光芯片表面的污點；
根據檢測到的污點位置對所述攝像模組拍攝的照片進行污點修復處理。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據檢測到的污點位置對所述攝像模組拍攝的照片進行污點修復處理包括：
根據檢測到的污點位置確定所述照片中與所述污點位置對應的待處理位置；
利用待處理位置預設范圍內圖像的像素點對所述待處理位置進行污點修復處理。
3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述利用待處理位置預設范圍內圖像的像素點對所述待處理位置進行污點修復處理包括：
將所述待處理位置預設范圍內圖像的像素點作為樣本點；
根據所述樣本點的特征參數對所述待處理位置進行污點修復處理。
4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述特征參數包括：紋理、光照、透明度和陰影參數。
5.一種污點修復系統，其特征在于，應用于攝像模組，所述攝像模組包括鏡頭模組和感光芯片，所述鏡頭模組包括濾光片；所述污點修復系統包括：
污點檢測模塊，用于在所述攝像模組拍攝照片時，檢測所述濾光片和感光芯片表面的污點；；
修復模塊，用于根據檢測到的污點位置對所述攝像模組拍攝的照片進行污點修復處理。
6.根據權利要求5所述的系統，其特征在于，所述修復模塊包括：
位置確定單元，用于根據檢測到的污點位置確定所述照片中與所述污點位置對應的待處理位置；
處理單元，用于利用待處理位置預設范圍內圖像的像素點對所述待處理位置進行污點修復處理。
7.根據權利要求6所述的系統，其特征在于，所述處理單元包括：
樣本點確定單元，用于將所述待處理位置預設范圍內圖像的像素點作為樣本點；
污點修復單元，用于根據所述樣本點的特征參數對所述待處理位置進行污點修復處理。
8.根據權利要求7所述的系統，其特征在于，所述特征參數包括：紋理、光照、透明度和陰影參數。
9.一種攝像模組，包括鏡頭模組和感光芯片，所述鏡頭模組包括濾光片，其特征在于，還包括：如權利要求5-8任一項所述的污點修復系統。
10.一種電子設備，其特征在于，包括如權利要求9所述的攝像模組。
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