[發(fā)明專利]一種陣列基板及其制備方法、顯示裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710401601.7
• 申請日: 2017-05-31
• 公開（公告）號: CN107230661B
• 公開（公告）日: 2020-06-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 黎午升
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1362
• 分類號: G02F1/1362
• 代理公司: 北京中博世達專利商標(biāo)代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種陣列基板的制備方法，其特征在于，包括：在襯底上形成第一導(dǎo)電薄膜，對所述第一導(dǎo)電薄膜構(gòu)圖形成由導(dǎo)電圖案構(gòu)成的第一導(dǎo)電層，所述第一導(dǎo)電層包括第一信號線；

在所述第一導(dǎo)電層上形成第二導(dǎo)電薄膜，對所述第二導(dǎo)電薄膜構(gòu)圖形成由導(dǎo)電圖案構(gòu)成的第二導(dǎo)電層，所述第二導(dǎo)電層包括第二信號線；所述第一信號線和所述第二信號線交叉絕緣設(shè)置；

其中，所述第一信號線的上表面中與所述第二信號線全部交疊的部分，沿所述第二信號線的延伸方向的至少一邊緣的長度大于所述邊緣兩個頂點之間的直線距離；

所述第一信號線的上表面中與所述第二信號線全部交疊的部分，沿所述第二信號線的延伸方向的兩個邊緣均為弧線；所述弧線的圓弧凸起方向相同或相背；

所述第二信號線與所述第一信號線在所述襯底上的正投影重合區(qū)域的寬度，大于所述第二信號線與所述第一信號線在所述襯底上的正投影未重合的區(qū)域的寬度；

所述信號線由依次設(shè)置的第一銅擴散阻擋層、銅/銅合金層、第二銅擴散阻擋層構(gòu)成。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述制備方法還包括：對所述第二導(dǎo)電薄膜進行粗糙化處理。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法，其特征在于，所述對所述第二導(dǎo)電薄膜進行粗糙化處理，包括：

在所述第二導(dǎo)電薄膜表面涂覆光刻膠，對所述光刻膠進行前烘、曝光、顯影、后烘工藝，并將所述光刻膠去除。

4.一種陣列基板，包括襯底，在襯底上依次設(shè)置的第一信號線和第二信號線，所述第一信號線和所述第二信號線交叉絕緣設(shè)置；其特征在于，所述第一信號線的上表面中與所述第二信號線全部交疊的部分，沿所述第二信號線的延伸方向的至少一邊緣的長度大于所述邊緣兩個頂點之間的直線距離；

所述第一信號線的上表面中與所述第二信號線全部交疊的部分，沿所述第二信號線的延伸方向的兩個邊緣均為弧線；所述弧線的圓弧凸起方向相同或相背；

所述第二信號線與所述第一信號線在所述襯底上的正投影重合區(qū)域的寬度，大于所述第二信號線與所述第一信號線在所述襯底上的正投影未重合的區(qū)域的寬度；

所述信號線由依次設(shè)置的第一銅擴散阻擋層、銅/銅合金層、第二銅擴散阻擋層構(gòu)成。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的陣列基板，其特征在于，所述第一信號線為柵線和/或公共線，所述第二信號線為數(shù)據(jù)線；

或者，所述第一信號線為數(shù)據(jù)線，所述第二信號線為柵線和/或公共線。

6.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求4-5任一項所述的陣列基板。