[發明專利]烹飪設備及其控制方法有效
| 申請號: | 201710400562.9 | 申請日: | 2017-05-31 |
| 公開(公告)號: | CN107440476B | 公開(公告)日: | 2020-11-13 |
| 發明(設計)人: | 河周伶;尹富根;樸鏞從;樸鐘成;李知映;韓政秀 | 申請(專利權)人: | 三星電子株式會社 |
| 主分類號: | A47J27/00 | 分類號: | A47J27/00;A47J36/00;A47J36/24;F24C7/00;F24C7/08;H05B6/12 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 弋桂芬 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 烹飪 設備 及其 控制 方法 | ||
1.一種烹飪設備,包括:
烹飪室;
至少一個加熱器,配置為在所述烹飪室內發射電磁波;以及
反射裝置,設置在所述烹飪室中并且包括涂覆玻璃,該涂覆玻璃具有
第一區域,其具有第一反射率以將所發射的電磁波中的一些朝向所述烹飪室中的第一烹飪材料引導,以及
第二區域,其具有不同于所述第一反射率的第二反射率,以將遠離所述第一烹飪材料指向的其他所發射的電磁波朝向所述烹飪室中的第二烹飪材料引導,
使得通過所述至少一個加熱器,所述第一烹飪材料根據所述第一反射率在第一溫度下被加熱,而所述第二烹飪材料根據所述第二反射率在第二溫度下被加熱,
其中所述第一區域和所述第二區域布置在面對所述至少一個加熱器的一平面中。
2.根據權利要求1所述的烹飪設備,其中,
所述反射裝置還包括反射器,所述反射器被提供在所述反射裝置的所述第一區域和所述第二區域之間的邊界以反射入射的電磁波,從而減少由所述加熱器產生并分別穿過所述第一區域和所述第二區域的電磁波之間的干涉。
3.根據權利要求1所述的烹飪設備,其中,
所述反射裝置還包括反射器,所述反射器在與面對所述至少一個加熱器的表面相反的表面中在所述第一區域和所述第二區域之間的邊界突出預定長度設置。
4.根據權利要求1所述的烹飪設備,其中,
所述反射裝置包括:
相互分隔而設置的所述第一區域和所述第二區域;以及
反射器,所述反射器在隔開的空間朝與面對所述至少一個加熱器的表面相反的表面突出預定長度設置,以減少所述第一區域和所述第二區域之間的熱傳導。
5.根據權利要求1所述的烹飪設備,其中,
所述反射裝置包括分別提供在所述第一區域和所述第二區域中的反射率互不相同的涂覆層。
6.根據權利要求5所述的烹飪設備,其中,
所述涂覆層被提供在所述反射裝置的面對所述至少一個加熱器的表面和與所述面對的表面相反的表面中的至少一個表面上。
7.根據權利要求1所述的烹飪設備,其中,
所述反射裝置的所述第一區域和所述第二區域分別包括具有不同反射率的玻璃。
8.根據權利要求1所述的烹飪設備,其中,
所述反射裝置的所述第一區域和所述第二區域包括透鏡,所述透鏡的與面對所述至少一個加熱器的表面相反的表面具有凸形狀。
9.根據權利要求1所述的烹飪設備,其中,
還包括用于檢測烹飪材料的烹飪狀態的傳感器。
10.根據權利要求9所述的烹飪設備,其中,
所述傳感器包括檢測所述烹飪材料的溫度的紅外傳感器、檢測從所述烹飪材料產生的氣體的氣體傳感器、及獲取所述烹飪材料的圖像的相機中的至少一個。
11.根據權利要求1所述的烹飪設備,其中,
還包括控制器,根據由通過所述反射裝置施加的熱烹飪的多種烹飪材料的烹飪狀態的變化而控制所述至少一個加熱器的操作。
12.根據權利要求1所述的烹飪設備,其中,
所述烹飪設備的底表面包括用于放置烹飪材料的第三區域和第四區域,所述底表面的所述第三區域和所述第四區域被設置成具有互不相同的熱吸收率。
13.根據權利要求12所述的烹飪設備,其中,
所述底表面的所述第三區域和所述第四區域對應于所述反射裝置的所述第一區域和所述第二區域。
14.根據權利要求12所述的烹飪設備,其中,
所述底表面的所述第三區域和所述第四區域彼此分隔地設置,以防止相互間的熱傳導。
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