[發(fā)明專利]表膜構(gòu)件有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710379521.6 | 申請(qǐng)日: | 2017-05-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107436534B | 公開(公告)日: | 2023-04-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 西村晃范 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 信越化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G03F1/64 | 分類號(hào): | G03F1/64 |
| 代理公司: | 北京市隆安律師事務(wù)所 11323 | 代理人: | 權(quán)鮮枝;侯劍英 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 構(gòu)件 | ||
1.一種表膜構(gòu)件,包括框狀的表膜構(gòu)件框架和張?jiān)O(shè)于表膜構(gòu)件框架的上端面的表膜,該表膜構(gòu)件的特征在于,
在該表膜構(gòu)件框架的與上端面相對(duì)的下端面,在其整周上設(shè)有包括凝膠狀物質(zhì)的密封材料層,并且在上述表膜構(gòu)件框架的下端面的一部分的多個(gè)部位設(shè)有粘合劑層,
上述粘合劑層設(shè)置于上述密封材料層的外周側(cè)、內(nèi)周側(cè)或者設(shè)置于在上述表膜構(gòu)件框架上設(shè)置的多個(gè)伸出部的下端面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表膜構(gòu)件,其特征在于,
上述粘合劑層設(shè)置于在上述表膜構(gòu)件框架上設(shè)置的多個(gè)伸出部的下端面。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的表膜構(gòu)件,其特征在于,
上述粘合劑層的面積相對(duì)于除了上述伸出部以外的表膜構(gòu)件框架的下端面的面積為1~80%。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至權(quán)利要求3中的任意一項(xiàng)所述的表膜構(gòu)件,其特征在于,
上述凝膠狀物質(zhì)為有機(jī)硅凝膠。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至權(quán)利要求3中的任意一項(xiàng)所述的表膜構(gòu)件,其特征在于,
上述粘合劑層包括有機(jī)硅粘合劑或者丙烯酸粘合劑。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至權(quán)利要求3中的任意一項(xiàng)所述的表膜構(gòu)件,其特征在于,
上述凝膠狀物質(zhì)的針入度為40~150。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計(jì)工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測(cè)試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備





