[發(fā)明專利]表膜構(gòu)件

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710379521.6
• 申請日: 2017-05-25
• 公開（公告）號(hào): CN107436534B
• 公開（公告）日: 2023-04-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 西村晃范
• 申請（專利權(quán)）人: 信越化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F1/64
• 分類號(hào): G03F1/64
• 代理公司: 北京市隆安律師事務(wù)所 11323
• 代理人: 權(quán)鮮枝;侯劍英

本發(fā)明的目的在于提供一種表膜構(gòu)件，在使表膜構(gòu)件框架與光掩模貼合時(shí)，能減少從表膜構(gòu)件框架向光掩模傳遞的應(yīng)力，抑制光掩模的變形。本發(fā)明的表膜構(gòu)件包括框狀的表膜構(gòu)件框架和張?jiān)O(shè)于表膜構(gòu)件框架的上端面的表膜，其特征在于，在表膜構(gòu)件框架的與上端面相對的下端面，在其整周上設(shè)有包括凝膠狀物質(zhì)的密封材料層，并且在表膜構(gòu)件框架的下端面的一部分的多個(gè)部位設(shè)有粘合劑層。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及在制造半導(dǎo)體器件、印刷基板、液晶顯示器等時(shí)用于防污的表膜構(gòu)件(pellicle)。

背景技術(shù)

在LSI、超LSI等半導(dǎo)體的制造、液晶顯示器等的制造中，對半導(dǎo)體晶圓、液晶用原板照射光來形成圖案，但是如果此時(shí)所使用的光掩模或者中間掩模(以下僅記為光掩模)附著有污物，則會(huì)有如下問題：邊緣變粗糙，基底污黑等，導(dǎo)致尺寸、質(zhì)量、外觀受損。

因此，通常在無塵室中進(jìn)行這些作業(yè)，但是即使如此也難以保證光掩模總是清潔，因此對光掩模表面貼附用于防污的表膜構(gòu)件之后進(jìn)行曝光。在這種情況下，異物不會(huì)直接附著于光掩模的表面，而是附著在表膜構(gòu)件上，因此在光刻時(shí)只要使焦點(diǎn)對準(zhǔn)到光掩模的圖案上即可，表膜構(gòu)件上的異物與轉(zhuǎn)印無關(guān)。

一般，表膜構(gòu)件是將透光性良好的包括硝化纖維、醋酸纖維或者氟樹脂等的透明表膜在對包括鋁、不銹鋼、聚乙烯等的表膜構(gòu)件框架的上端面涂敷表膜的良溶劑后進(jìn)行風(fēng)干而將其粘接(參照專利文獻(xiàn)1)，或者用丙烯酸樹脂、環(huán)氧樹脂等粘接劑將透明表膜粘接(參照專利文獻(xiàn)2和專利文獻(xiàn)3)。而且，表膜構(gòu)件框架的下端包括：粘合層，其用于粘接到光掩模，包括聚丁烯樹脂、聚醋酸乙烯樹脂、丙烯酸樹脂、有機(jī)硅樹脂等；以及用于保護(hù)粘合層的脫模層(分離層)。

然后，將這種表膜構(gòu)件裝配到光掩模的表面，通過光掩模對形成于半導(dǎo)體晶圓、液晶用原板的光致抗蝕劑膜進(jìn)行曝光時(shí)，污物等異物附著于表膜構(gòu)件的表面而不直接附著于光掩模的表面，因此只要使焦點(diǎn)位于形成于光掩模的圖案上來照射曝光用的光，就能避免污物等異物的影響。

然而，近年來，半導(dǎo)體器件和液晶顯示器越來越高集成化、微細(xì)化。當(dāng)前，將32nm程度的微細(xì)圖案形成于光致抗蝕劑膜的技術(shù)也已投入實(shí)用。如果是32nm程度的圖案，則能通過在半導(dǎo)體晶圓或液晶用原板與投影透鏡之間充滿超純水等液體，利用氟化氬(ArF)準(zhǔn)分子激光對光致抗蝕劑膜進(jìn)行曝光的液浸曝光技術(shù)、多重曝光等使用現(xiàn)有的準(zhǔn)分子激光的改進(jìn)技術(shù)來應(yīng)對。

但是，下一代的半導(dǎo)體器件、液晶顯示器要求形成進(jìn)一步微細(xì)化的圖案，使用如以往那樣的表膜構(gòu)件和曝光技術(shù)已難以形成更微細(xì)的圖案。

因此，近年來，作為用于形成更微細(xì)的圖案的方法，使用以13.5nm為主波長的EUV光的EUV曝光技術(shù)受到關(guān)注。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：特開昭58-219023號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)2：美國專利第4861402號(hào)

專利文獻(xiàn)3：特公昭63-27707號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的問題

此外，隨著半導(dǎo)體器件、液晶顯示器的微細(xì)化的發(fā)展，關(guān)系到成品率的表膜構(gòu)件會(huì)在將表膜構(gòu)件貼附于光掩模時(shí)由于其應(yīng)力而使光掩模變形(PID；Pellicle?InducedDistortion：表膜構(gòu)件引起的變形)，結(jié)果是形成的圖案的位置精度出現(xiàn)偏差，因此難以形成微細(xì)圖案成為大問題。

在通常的表膜構(gòu)件中，在表膜構(gòu)件框架的下端面在整周上設(shè)有粘合劑層，在將表膜構(gòu)件貼附于光掩模時(shí)，光掩模會(huì)從表膜構(gòu)件框架的整個(gè)一個(gè)端面受到應(yīng)力，產(chǎn)生由于該應(yīng)力導(dǎo)致光掩模變形的問題。如果由于從表膜構(gòu)件框架受到的應(yīng)力導(dǎo)致光掩模變形，則根據(jù)變形的程度而有時(shí)難以形成目標(biāo)微細(xì)圖案。