[發明專利]顯示基板的制備方法、顯示基板母板在審
| 申請號: | 201710377934.0 | 申請日: | 2017-05-25 |
| 公開(公告)號: | CN107170910A | 公開(公告)日: | 2017-09-15 |
| 發明(設計)人: | 楊忠英;吳建鵬 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/56 | 分類號: | H01L51/56;H01L21/683;H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所11105 | 代理人: | 焦玉恒 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 制備 方法 母板 | ||
1.一種顯示基板的制備方法,包括:
提供襯底基板,包括彼此相對的第一主表面和第二主表面,所述襯底基板被劃分為有效區和位于所述有效區域周圍的虛設區;
在所述第二主表面和所述虛設區內的所述第一主表面至少之一上形成磁性層;以及
在所述第一主表面上沉積元件層。
2.根據權利要求1所述的制備方法,其中,在所述第一主表面上沉積元件層包括:
將形成所述磁性層的襯底基板放入蒸鍍設備,所述蒸鍍設備包括蒸發源和磁吸附層;
對所述第一主表面進行蒸鍍以沉積所述元件層;
其中,所述襯底基板位于所述蒸發源和所述磁吸附層之間,所述磁吸附層位于所述襯底基板的所述第二主表面的一側。
3.根據權利要求2所述的制備方法,還包括:
在進行蒸鍍之前,在所述襯底基板的第一主表面的一側安裝掩模板。
4.根據權利要求1所述的制備方法,其中,
所述元件層包括發光器件的陽極、陰極以及位于所述陽極和所述陰極之間的有機層至少之一。
5.根據權利要求1所述的制備方法,其中,
所述元件層至少形成在所述有效區。
6.根據權利要求2所述的制備方法,其中,
所述襯底基板包括間隔排列的多個所述有效區,相鄰的所述有效區之間設置有所述虛設區。
7.根據權利要求1所述的顯示基板,其中,
所述磁性層形成在所述虛設區內的所述第二主表面上。
8.根據權利要求1-7任一項所述的制備方法,還包括:
切除所述襯底基板的所述虛設區。
9.根據權利要求1-7任一項所述的制備方法,其中,所述磁性層至少部分形成在所述有效區內的所述第二主表面上,所述方法還包括:
使用腐蝕液對所述第二主表面上的所述磁性層進行處理以去除所述磁性層。
10.一種顯示基板母板,包括:
襯底基板,包括彼此相對的第一主表面和第二主表面,所述襯底基板被劃分為有效區和位于所述有效區域周圍的虛設區;
設置于所述第二主表面和所述虛設區內的所述第一主表面至少之一上的磁性層;以及
設置于所述第一主表面上的元件層。
11.根據權利要求10所述的顯示基板母板,其中
所述元件層至少形成在所述有效區內。
12.根據權利要求10或11所述的顯示基板,其中,
所述磁性層設置在所述虛設區內的所述第二主表面上。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





