[發明專利]一種筆跡鑒定的方法有效
| 申請號: | 201710367610.9 | 申請日: | 2017-05-23 |
| 公開(公告)號: | CN107122766B | 公開(公告)日: | 2019-09-06 |
| 發明(設計)人: | 劉青;曾永濤;彭亦軍 | 申請(專利權)人: | 北京瑞源智通科技有限公司 |
| 主分類號: | G06K9/00 | 分類號: | G06K9/00 |
| 代理公司: | 北京華旭智信知識產權代理事務所(普通合伙) 11583 | 代理人: | 趙文靜 |
| 地址: | 100176 北京市經濟技*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 筆跡 鑒定 方法 | ||
1.一種筆跡鑒定的方法,其特征在于,包括以下步驟:
1)在樣本片材上筆跡中選取待進行筆跡鑒定的區域;
2)在所選區域的筆跡中定義測量點與測量方向,其中測量方向垂直于筆畫的書寫方向;
3)將樣本片材固定在載物臺上;
4)利用攝像裝置來獲取所選區域中各測量點的三維視圖;
5)利用所述三維視圖來計算所述樣本片材上各個測量點的參數;
6)在檢材上選取與所述樣本片材的所選區域相對應的區域,并在該區域中定義與上述樣本片材相對應的測量點和測量方向;
7)重復上述步驟3)、4)、5),獲得所述檢材上各個測量點的參數;
8)根據如下公式,將所獲得的檢材與樣本片材的各參數進行計算比對,得到相關性系數ρX,Y,并基于該相關性系數來鑒定筆跡的真偽:
其中X是樣本片材各個測量點的參數值,Y是檢材各個測量點的參數值,μx是樣本片材各個測量點的參數值的平均值,μy是檢材各個測量點的參數值的平均值,σx是樣本片材各個測量點的參數值的標準差,σy是檢材各個測量點的參數值的標準差,E為數學期望;
其中步驟5)包括基于三維視圖進行平均化處理獲得測量點的二維視圖。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述測量點的個數為50-200個。
3.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述筆跡簽定的區域為整個筆跡的整體或部分。
4.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述參數為墨跡壓痕深度,墨跡壓痕深度為測量點的墨跡最高點與墨跡最低點之間的距離。
5.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述參數為紙張壓痕深度,紙張壓痕深度為測量點的紙張左右邊界最高點與墨跡最低點之間的距離。
6.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述參數為執筆角度,執筆角度為測量點的墨跡最低點到墨跡左邊界或右邊界的水平距離與墨跡左右邊界之間的水平距離的比值。
7.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述攝像裝置包括攝像頭和光學放大鏡,所述三維視圖是通過調節光學放大鏡,以改變攝像頭和光學放大鏡以及待檢測檢材或樣本片材的之間的距離得到各個焦平面圖像,并進一步融合而成。
8.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,將樣本片材或檢材固定在載物臺上包括利用真空吸附裝置或靜電吸附裝置來固定樣本片材或檢材。
9.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,當ρX,Y大于等于0.5時,判定筆跡為真,否則判定為假。
10.根據權利要求1所述的方法,還包括檢測另一個樣本片材,所述樣本片材與所述另一個樣本片材上的筆跡為同一人書寫,計算兩個樣本片材之間相關性系數,并且計算所述檢材與所述另一個樣本片材之間的相關性系數,進行比較,如果所述檢材與上述兩個樣本片材之間的相關性系數均大于兩個樣本片材之間的相關性系數,則判定所述檢材與所述樣本片材上的筆跡為同一人所寫,否則判定為假。
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