[發(fā)明專利]砂巖圖像代表性區(qū)域面積大小確定方法及裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710366500.0
• 申請(qǐng)日: 2017-05-23
• 公開（公告）號(hào): CN108961332B
• 公開（公告）日: 2021-06-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鄒敏;夏東領(lǐng);龐雯;徐婷;周宇
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國石油化工股份有限公司;中國石油化工股份有限公司石油勘探開發(fā)研究院
• 主分類號(hào): G06T7/62
• 分類號(hào): G06T7/62
• 代理公司: 北京聿宏知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11372
• 代理人: 吳大建;張杰

本發(fā)明提供一種砂巖圖像代表性區(qū)域面積大小確定方法及裝置，包括：步驟101，對(duì)獲取的砂巖樣品的掃描圖像進(jìn)行二值化處理以獲得二值化圖像。步驟102，對(duì)二值化圖像進(jìn)行搜索以獲取代表性區(qū)域；步驟103，對(duì)各代表性區(qū)域分別計(jì)算區(qū)域面孔率，并根據(jù)各區(qū)域面孔率計(jì)算獲得面孔率組。步驟104，從第二預(yù)設(shè)閾值組中選擇未執(zhí)行過步驟102的第二預(yù)設(shè)子閾值，重復(fù)執(zhí)行步驟102和步驟103。步驟105，將面孔率組中各參數(shù)值均落入預(yù)設(shè)置信區(qū)間內(nèi)的面孔率組所對(duì)應(yīng)的第二預(yù)設(shè)子閾值作為砂巖圖像代表性區(qū)域面積大小。上述方法通過面孔率組中的各參數(shù)是否落入預(yù)設(shè)置信區(qū)間來確定代表性區(qū)域面積大小，克服了人為判斷確定砂巖圖像代表性區(qū)域面積大小隨意性方面的不足。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及石油勘探領(lǐng)域，尤其涉及一種砂巖圖像代表性區(qū)域面積大小確定方法及裝置。

背景技術(shù)

致密砂巖儲(chǔ)層孔喉結(jié)構(gòu)復(fù)雜，現(xiàn)有技術(shù)難以準(zhǔn)確確定代表性區(qū)域大小。同時(shí)，隨著微區(qū)分析技術(shù)的進(jìn)一步發(fā)展，這個(gè)問題的制約影響也越來越突出，確定代表性區(qū)域大小對(duì)于后期在此基礎(chǔ)上開展的其他微區(qū)孔喉結(jié)構(gòu)實(shí)驗(yàn)分析具有重要的參考價(jià)值。

目前，試圖確定致密砂巖掃描圖像代表性區(qū)域大小的方法，主要采用人為判斷法，即通過觀察整個(gè)圖像區(qū)域孔喉結(jié)構(gòu)特征，包括孔隙類型和主要的孔隙大小分布區(qū)間，進(jìn)而選取具有相似特征的孔隙發(fā)育區(qū)域作為代表性區(qū)域。

現(xiàn)有文獻(xiàn)在研究土壤顆粒掃描圖像時(shí)發(fā)現(xiàn)了代表性區(qū)域大小與面孔率之間存在一定的相關(guān)關(guān)系(唐朝生，施斌，王寶軍.基于SEM土體微觀結(jié)構(gòu)研究中的影響因素分析。巖土工程學(xué)報(bào)，2008，6(30):560～565)，認(rèn)為隨著覆蓋區(qū)域的增大，由土體非均質(zhì)性導(dǎo)致的誤差逐漸減小，面孔率趨于穩(wěn)定，從而使分析區(qū)域具有代表性。

現(xiàn)有方法存在的問題主要是：人為確定具有隨意性，無法定量確定代表性區(qū)域大小。而文獻(xiàn)中僅介紹了代表性區(qū)域大小受土壤非均質(zhì)性影響，缺少定量刻畫代表性區(qū)域大小的方法和步驟，缺少數(shù)學(xué)推導(dǎo)建立的代表性區(qū)域大小判別方式。并且由于研究對(duì)象、使用圖像來源、圖像處理方法、代表性區(qū)域確定指標(biāo)不一致等問題，使該方法難以定量確定致密砂巖掃描圖像代表性區(qū)域大小。

因此，僅僅依靠人為判斷，依靠文獻(xiàn)認(rèn)識(shí)，很難確定代表性區(qū)域的大小。而面孔率是致密砂巖圖像微觀孔隙結(jié)構(gòu)的直接量化反映，有必要探索一種利用面孔率確定致密砂巖圖像代表性區(qū)域大小的方法。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種砂巖圖像代表性區(qū)域面積大小確定方法及裝置，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中人為判斷確定砂巖圖像代表性區(qū)域面積大小隨意性方面的不足。

本發(fā)明一方面提供一種砂巖圖像代表性區(qū)域面積大小確定方法，包括：

步驟101，獲取砂巖樣品的掃描圖像，并對(duì)掃描圖像進(jìn)行二值化處理，以獲得與砂巖樣品的孔隙度一致的二值化圖像；

步驟102，對(duì)二值化圖像進(jìn)行搜索，以獲取具有第一預(yù)設(shè)閾值個(gè)數(shù)的代表性區(qū)域，代表性區(qū)域的面積大小等于第二預(yù)設(shè)子閾值，第二預(yù)設(shè)子閾值屬于第二預(yù)設(shè)閾值組，第二預(yù)設(shè)閾值組包括多個(gè)互不相等的第二預(yù)設(shè)子閾值；

步驟103，對(duì)各代表性區(qū)域分別計(jì)算相應(yīng)的區(qū)域面孔率，并根據(jù)各區(qū)域面孔率計(jì)算獲得與第二預(yù)設(shè)子閾值對(duì)應(yīng)的面孔率組，其中，面孔率組中的參數(shù)值包括最大面孔率、最小面孔率、第一累積面孔率和第二累積面孔率；

步驟104，從第二預(yù)設(shè)閾值組中選擇未執(zhí)行過步驟102的第二預(yù)設(shè)子閾值，重復(fù)執(zhí)行步驟102和步驟103，直到第二預(yù)設(shè)閾值組中的第二預(yù)設(shè)子閾值全部遍歷完后，轉(zhuǎn)步驟105執(zhí)行；

步驟105，將面孔率組中各參數(shù)值均落入預(yù)設(shè)置信區(qū)間內(nèi)的面孔率組所對(duì)應(yīng)的第二預(yù)設(shè)子閾值作為砂巖圖像代表性區(qū)域面積大小，或者將面孔率組中第一累積面孔率和第二累積面孔率同時(shí)落入預(yù)設(shè)置信區(qū)間內(nèi)、且最大面孔率和最小面孔率未同時(shí)落入預(yù)設(shè)置信區(qū)間內(nèi)時(shí)的面孔率組所對(duì)應(yīng)的第二預(yù)設(shè)子閾值作為砂巖圖像代表性區(qū)域面積大小。

進(jìn)一步的，步驟105具體包括：