[發明專利]光罩卡夾清潔裝置及曝光機有效
| 申請號: | 201710364101.0 | 申請日: | 2017-05-22 |
| 公開(公告)號: | CN106950797B | 公開(公告)日: | 2020-06-05 |
| 發明(設計)人: | 羅善高 | 申請(專利權)人: | 深圳市華星光電技術有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/82 | 分類號: | G03F1/82;G03F7/20 |
| 代理公司: | 廣州三環專利商標代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝傳鑫;熊永強 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光罩卡夾 清潔 裝置 曝光 | ||
1.一種光罩卡夾清潔裝置,其特征在于,包括吸附部件(1),所述吸附部件(1)固定于光罩交換腔(21)的開口處,所述光罩交換腔(21)用于容納光罩卡夾(3);
所述吸附部件(1)的吸附面朝向所述光罩卡夾(3)的表面設置;
所述吸附部件(1)包括:
用于吸附所述光罩卡夾(3)上異物的真空吸附管(11);以及
用于為所述真空吸附管(11)提供真空吸附動力的真空氣體供應單元;
所述真空吸附管(11)面向所述光罩卡夾(3)的吸附面上分布有多個吸附單元(4);
所述真空吸附管(11)包括:
沿所述光罩卡夾(3)的高度方向從所述光罩卡夾(3)的上表面延伸至所述光罩卡夾(3)的下表面的側壁吸附管(12);以及
沿所述光罩卡夾(3)的寬度方向從所述光罩卡夾(3)的一側延伸至所述光罩卡夾(3)的另一側的頂面吸附管(13);
其中,所述側壁吸附管(12)的軸線以及所述頂面吸附管(13)的軸線均與所述光罩卡夾(3)的移動方向垂直。
2.根據權利要求1所述的光罩卡夾清潔裝置,其特征在于,所述側壁吸附管(12)與所述光罩卡夾(3)的側壁之間的距離小于或等于25mm;所述頂面吸附管(13)與所述光罩卡夾(3)的上表面之間的距離小于或等于25mm。
3.根據權利要求1或2所述的光罩卡夾清潔裝置,其特征在于,所述真空吸附管(11)上設置有用于與所述真空氣體供應單元相連通的真空接口(14),所述真空接口(14)上設置有控制開關。
4.根據權利要求3所述的光罩卡夾清潔裝置,其特征在于,還包括傳感器(5),所述傳感器(5)包括位于所述光罩卡夾(3)的下方的光罩感應傳感器(51)以及位于所述光罩交換腔(21)內側的限位傳感器(52);
所述控制開關與所述傳感器(51)電連接。
5.根據權利要求1所述的光罩卡夾清潔裝置,其特征在于,所述吸附單元(4)為吸附孔(41)或真空吸盤。
6.根據權利要求5所述的光罩卡夾清潔裝置,其特征在于,所述吸附孔(41)為圓孔、方孔或圓錐孔。
7.根據權利要求6所述的光罩卡夾清潔裝置,其特征在于,所述吸附孔(41)等間距分布。
8.一種曝光機,其特征在于,包括上述權利要求1-7中任意一項所述的光罩卡夾清潔裝置以及光罩交換移動槽(6),所述光罩卡夾(3)設置于所述光罩交換移動槽(6)中,所述光罩交換移動槽(6)滑動地設置在所述光罩交換腔(21)中。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





