[發(fā)明專利]光罩卡夾清潔裝置及曝光機(jī)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710364101.0 | 申請日: | 2017-05-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106950797B | 公開(公告)日: | 2020-06-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 羅善高 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F1/82 | 分類號(hào): | G03F1/82;G03F7/20 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝傳鑫;熊永強(qiáng) |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光罩卡夾 清潔 裝置 曝光 | ||
本發(fā)明涉及一種光罩卡夾清潔裝置及曝光機(jī),涉及液晶顯示器技術(shù)領(lǐng)域,用于解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的清潔效率低以及清潔程度不夠徹底的技術(shù)問題。本發(fā)明的光罩卡夾清潔裝置,包括吸附部件,該吸附部件固定于曝光機(jī)上用于容納光罩卡夾的光罩交換腔處,當(dāng)執(zhí)行上機(jī)或下機(jī)動(dòng)作時(shí),吸附部件能夠迅速地將光罩卡夾上的異物吸走,因此通過該吸附部件可提高清潔的效率;此外,對(duì)于光罩卡夾從光罩交換腔的開口處運(yùn)動(dòng)到完全進(jìn)入光罩交換腔中的這一過程而言,隨著光罩卡夾的運(yùn)動(dòng),吸附部件進(jìn)行掃描式吸附,因此能夠?qū)庹挚▕A進(jìn)行徹底的清潔,使產(chǎn)品的品質(zhì)得到了保障。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及液晶顯示器技術(shù)領(lǐng)域,特別地涉及一種光罩卡夾清潔裝置及曝光機(jī)。
背景技術(shù)
目前,在薄膜晶體管液晶顯示屏(TFT-LCD)行業(yè)的曝光(Photo)制程中,需要使用曝光機(jī),通過光罩進(jìn)行電路圖形定義,在此過程中,當(dāng)需要進(jìn)行制程切換時(shí),需要對(duì)曝光機(jī)的光罩進(jìn)行上下機(jī)動(dòng)作(約1天/次),即:將暫不使用的光罩從機(jī)臺(tái)加載(Load)出來并裝入光罩專用盒子內(nèi)封存,然后將需要使用的光罩從光罩盒子中取出,放置在光罩卡夾中,然后加載進(jìn)入機(jī)臺(tái)內(nèi)。
由于光罩進(jìn)行上下機(jī)操作時(shí),光罩是放置在光罩卡夾中進(jìn)入機(jī)臺(tái),而卡夾上不可避免的會(huì)攜帶一些異物(Partcile),這些異物會(huì)隨著光罩卡夾進(jìn)入機(jī)臺(tái)內(nèi)部,這些異物經(jīng)過長期的積累將會(huì)對(duì)產(chǎn)品品質(zhì)帶來影響。
現(xiàn)有的清潔手段主要是在光罩放置入光罩卡夾內(nèi)、進(jìn)入機(jī)臺(tái)前,操作人員手動(dòng)使用酒精無塵布對(duì)光罩卡夾表面的異物進(jìn)行清潔,但是手動(dòng)清潔效率低下,大約需要30分鐘才能完成清潔工作;而且由于清潔工作是在曝光機(jī)外進(jìn)行,因此忽視了光罩卡夾進(jìn)入曝光機(jī)的這一過程的清潔,即清潔的不夠徹底。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種光罩卡夾清潔裝置及曝光機(jī),用于解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的清潔效率低以及清潔程度不夠徹底的技術(shù)問題。
本發(fā)明提供一種光罩卡夾清潔裝置,包括吸附部件,所述吸附部件固定于光罩交換腔的開口處,所述光罩交換腔用于容納光罩卡夾;
所述吸附部件的吸附面朝向所述光罩卡夾的表面設(shè)置。
在一個(gè)實(shí)施方式中,所述吸附部件包括:
用于吸附所述光罩卡夾上異物的真空吸附管;以及
用于為所述真空吸附管提供真空吸附動(dòng)力的真空氣體供應(yīng)單元;
所述真空吸附管面向所述光罩卡夾的吸附面上分布有多個(gè)吸附單元。
在一個(gè)實(shí)施方式中,所述真空吸附管包括:
沿所述光罩卡夾的高度方向上從所述光罩卡夾的上表面延伸至所述光罩卡夾的下表面的側(cè)壁吸附管;以及
沿所述光罩卡夾的寬度方向從所述光罩卡夾的一側(cè)延伸至所述光罩卡夾的另一側(cè)的頂面吸附管;
其中,所述側(cè)壁吸附管的軸線以及所述頂面吸附管的軸線均與所述光罩卡夾的移動(dòng)方向垂直。
在一個(gè)實(shí)施方式中,所述側(cè)壁吸附管與所述光罩卡夾的側(cè)壁之間的距離小于或等于25mm;所述頂面吸附管與所述光罩卡夾的上表面之間的距離小于或等于25mm。
在一個(gè)實(shí)施方式中,所述真空吸附管上設(shè)置有用于與所述真空氣體供應(yīng)單元相連通的真空接口,所述真空接口上設(shè)置有控制開關(guān)。
在一個(gè)實(shí)施方式中,還包括傳感器,所述傳感器包括位于所述光罩卡夾的下方的光罩感應(yīng)傳感器以及位于所述光罩交換腔內(nèi)側(cè)的限位傳感器;
所述控制開關(guān)與所述傳感器電連接。
在一個(gè)實(shí)施方式中,所述吸附單元為吸附孔或真空吸盤。
在一個(gè)實(shí)施方式中,所述吸附孔為圓孔、方孔或圓錐孔。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計(jì)工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備





