[發明專利]用于分批向內裝載和向外卸載基底的真空處理設備及方法

有效

• 申請號: 201710359308.9
• 申請日: 2017-05-19
• 公開（公告）號: CN107447199B
• 公開（公告）日: 2020-07-10
• 發明（設計）人: 克里斯托夫·霍伊斯勒;拉爾夫·西伯特
• 申請（專利權）人: 馮·阿登納資產股份有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/50
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 王小衡;王朝輝

根據不同的實施方式提供一種真空處理設備(100)，其具有裝卸腔室裝置(102)、轉運腔室裝置(112)和處理腔室裝置(122)，其中，轉運腔室裝置(112)具有轉運腔室，該轉運腔室具有用于在轉運腔室中容納基底的長度，且其中，裝卸腔室裝置(102)具有三個彼此鄰接的裝卸腔室(102a、102b、102c)，所述裝卸腔室這樣地被設置，即其可分別單獨借助于閥裝置(104)分開，其中，裝卸腔室中的每個裝卸腔室具有比轉運腔室更小的長度。

技術領域

本發明涉及用于借助裝卸腔室裝置將基底分批向內裝載到處理腔室裝置中的真空處理設備、方法和涉及用于借助裝卸腔室裝置分批地將基底從處理腔室裝置向外卸載的方法。

背景技術

通常，基底，諸如板形的基底，例如玻璃板或晶圓在真空處理設備被處理，例如在真空涂層裝置中被涂層。在此，板形的基底可在運送系統的運送輥被運送通過真空處理設備。機械敏感的基底，例如晶圓可借助于基底載體在真空處理設備中被運送(所謂的載體原則)，其中，基底載體相應地在運送系統的運送輥上被運送通過真空處理設備。

發明內容

根據不同的實施方式，提出具有多個真空腔室的真空處理設備，其中，真空處理設備模塊化地被構建，或其中，真空腔室這樣地被設置，使得真空處理設備具有模塊化結構。根據不同的實施方式，真空處理設備的多個真空腔室分別可具有室殼體，其中，室殼體這樣地被設置，即室殼體的蓋開口可被室蓋覆蓋。明顯地，真空處理設備的多個真空腔室可通過下述方式被打開，即相應的室蓋被取下或掀開，以及通過下述方式被關閉，即相應的室蓋被放置或蓋上。

根據不同的實施方式，多個室殼體可這樣地相互連接，使得其提供用于多個真空腔室的共用的腔室殼體，其中，在該情況下該共用的腔室殼體可借助于多個相應被設置的室蓋被密封。例如，室殼體的多個區域可借助于豎直室壁(被稱為隔板壁)被相互分開。根據不同的實施方式，在用于處理基底或基底帶的室殼體中可提供一個或多個處理區域，和/或可提供用于對室殼體抽真空的一個或多個泵區域。

室殼體例如可這樣地被設置，使得其可被用作為用于不同的真空腔室的基腔(容器)，例如室殼體可被用于裝卸腔室，其中，裝卸腔室例如可在預真空范圍和/或高真空范圍中(例如在接近處理真空的范圍中，例如在大約10^-2mbar至大約10^-7mbar的范圍中，例如在大約10^-2mbar至大約10^-5mbar的范圍中)運行。此外，室殼體可被用于緩沖腔或轉運腔室。在此，各真空腔室的功能或運行方式由于通過室殼體而被使用的室蓋而被限定。例如，基腔可配合不同的處理室蓋，從而分別實施預定義的處理。由此可廣泛地地使用室殼體，室殼體可具有至少一個連接法蘭，用于連接預真空泵或預真空泵裝置。替選地，室殼體可借助于泵蓋被抽真空，或處理室蓋可具有連接法蘭，其用于連接預真空泵或預真空泵裝置。由此，在借助于室蓋密封的室殼體可產生或提供至少一個預真空(Vorvakuum)。當在被密封的室殼體中應產生高真空時，可借助于合適的室蓋實現，其中，室蓋例如可具有連接法蘭，其用于連接高真空泵或高真空泵裝置，或室殼體自身可具有連接法蘭，其用于連接高真空泵或高真空泵裝置，例如可在室殼體的側面室壁中提供連接法蘭。

根據不同的實施方式，裝卸腔室可分別具有僅一個室殼體，或借助于僅一個室殼體被提供。此外，用于處理室的室殼體可不同于裝卸腔室的室殼體。例如，用于處理室的室殼體可具有比用于裝卸腔室的室殼體更大的橫截面(垂直于運送方向看)。此外，用于轉運腔室的室殼體可不同于裝卸腔室和處理室的室殼體。例如，用于轉運腔室的室殼體可在開始時具有與裝卸腔室相同的橫截面積，且在結束時具有與處理室相同的橫截面積(即，更寬且更高)，使得轉運腔室可形成在裝卸腔室與處理室之間的過渡。