[發(fā)明專(zhuān)利]用于分批向內(nèi)裝載和向外卸載基底的真空處理設(shè)備及方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710359308.9 | 申請(qǐng)日: | 2017-05-19 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107447199B | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-07-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 克里斯托夫·霍伊斯勒;拉爾夫·西伯特 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 馮·阿登納資產(chǎn)股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C14/56 | 分類(lèi)號(hào): | C23C14/56;C23C14/50 |
| 代理公司: | 北京品源專(zhuān)利代理有限公司 11332 | 代理人: | 王小衡;王朝輝 |
| 地址: | 德國(guó)德*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 分批 向內(nèi) 裝載 向外 卸載 基底 真空 處理 設(shè)備 方法 | ||
根據(jù)不同的實(shí)施方式提供一種真空處理設(shè)備(100),其具有裝卸腔室裝置(102)、轉(zhuǎn)運(yùn)腔室裝置(112)和處理腔室裝置(122),其中,轉(zhuǎn)運(yùn)腔室裝置(112)具有轉(zhuǎn)運(yùn)腔室,該轉(zhuǎn)運(yùn)腔室具有用于在轉(zhuǎn)運(yùn)腔室中容納基底的長(zhǎng)度,且其中,裝卸腔室裝置(102)具有三個(gè)彼此鄰接的裝卸腔室(102a、102b、102c),所述裝卸腔室這樣地被設(shè)置,即其可分別單獨(dú)借助于閥裝置(104)分開(kāi),其中,裝卸腔室中的每個(gè)裝卸腔室具有比轉(zhuǎn)運(yùn)腔室更小的長(zhǎng)度。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及用于借助裝卸腔室裝置將基底分批向內(nèi)裝載到處理腔室裝置中的真空處理設(shè)備、方法和涉及用于借助裝卸腔室裝置分批地將基底從處理腔室裝置向外卸載的方法。
背景技術(shù)
通常,基底,諸如板形的基底,例如玻璃板或晶圓在真空處理設(shè)備被處理,例如在真空涂層裝置中被涂層。在此,板形的基底可在運(yùn)送系統(tǒng)的運(yùn)送輥被運(yùn)送通過(guò)真空處理設(shè)備。機(jī)械敏感的基底,例如晶圓可借助于基底載體在真空處理設(shè)備中被運(yùn)送(所謂的載體原則),其中,基底載體相應(yīng)地在運(yùn)送系統(tǒng)的運(yùn)送輥上被運(yùn)送通過(guò)真空處理設(shè)備。
發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)不同的實(shí)施方式,提出具有多個(gè)真空腔室的真空處理設(shè)備,其中,真空處理設(shè)備模塊化地被構(gòu)建,或其中,真空腔室這樣地被設(shè)置,使得真空處理設(shè)備具有模塊化結(jié)構(gòu)。根據(jù)不同的實(shí)施方式,真空處理設(shè)備的多個(gè)真空腔室分別可具有室殼體,其中,室殼體這樣地被設(shè)置,即室殼體的蓋開(kāi)口可被室蓋覆蓋。明顯地,真空處理設(shè)備的多個(gè)真空腔室可通過(guò)下述方式被打開(kāi),即相應(yīng)的室蓋被取下或掀開(kāi),以及通過(guò)下述方式被關(guān)閉,即相應(yīng)的室蓋被放置或蓋上。
根據(jù)不同的實(shí)施方式,多個(gè)室殼體可這樣地相互連接,使得其提供用于多個(gè)真空腔室的共用的腔室殼體,其中,在該情況下該共用的腔室殼體可借助于多個(gè)相應(yīng)被設(shè)置的室蓋被密封。例如,室殼體的多個(gè)區(qū)域可借助于豎直室壁(被稱(chēng)為隔板壁)被相互分開(kāi)。根據(jù)不同的實(shí)施方式,在用于處理基底或基底帶的室殼體中可提供一個(gè)或多個(gè)處理區(qū)域,和/或可提供用于對(duì)室殼體抽真空的一個(gè)或多個(gè)泵區(qū)域。
室殼體例如可這樣地被設(shè)置,使得其可被用作為用于不同的真空腔室的基腔(容器),例如室殼體可被用于裝卸腔室,其中,裝卸腔室例如可在預(yù)真空范圍和/或高真空范圍中(例如在接近處理真空的范圍中,例如在大約10-2mbar至大約10-7mbar的范圍中,例如在大約10-2mbar至大約10-5mbar的范圍中)運(yùn)行。此外,室殼體可被用于緩沖腔或轉(zhuǎn)運(yùn)腔室。在此,各真空腔室的功能或運(yùn)行方式由于通過(guò)室殼體而被使用的室蓋而被限定。例如,基腔可配合不同的處理室蓋,從而分別實(shí)施預(yù)定義的處理。由此可廣泛地地使用室殼體,室殼體可具有至少一個(gè)連接法蘭,用于連接預(yù)真空泵或預(yù)真空泵裝置。替選地,室殼體可借助于泵蓋被抽真空,或處理室蓋可具有連接法蘭,其用于連接預(yù)真空泵或預(yù)真空泵裝置。由此,在借助于室蓋密封的室殼體可產(chǎn)生或提供至少一個(gè)預(yù)真空(Vorvakuum)。當(dāng)在被密封的室殼體中應(yīng)產(chǎn)生高真空時(shí),可借助于合適的室蓋實(shí)現(xiàn),其中,室蓋例如可具有連接法蘭,其用于連接高真空泵或高真空泵裝置,或室殼體自身可具有連接法蘭,其用于連接高真空泵或高真空泵裝置,例如可在室殼體的側(cè)面室壁中提供連接法蘭。
根據(jù)不同的實(shí)施方式,裝卸腔室可分別具有僅一個(gè)室殼體,或借助于僅一個(gè)室殼體被提供。此外,用于處理室的室殼體可不同于裝卸腔室的室殼體。例如,用于處理室的室殼體可具有比用于裝卸腔室的室殼體更大的橫截面(垂直于運(yùn)送方向看)。此外,用于轉(zhuǎn)運(yùn)腔室的室殼體可不同于裝卸腔室和處理室的室殼體。例如,用于轉(zhuǎn)運(yùn)腔室的室殼體可在開(kāi)始時(shí)具有與裝卸腔室相同的橫截面積,且在結(jié)束時(shí)具有與處理室相同的橫截面積(即,更寬且更高),使得轉(zhuǎn)運(yùn)腔室可形成在裝卸腔室與處理室之間的過(guò)渡。
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C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





