[發(fā)明專利]用于分批向內(nèi)裝載和向外卸載基底的真空處理設(shè)備及方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710359308.9 | 申請日: | 2017-05-19 |
| 公開(公告)號: | CN107447199B | 公開(公告)日: | 2020-07-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 克里斯托夫·霍伊斯勒;拉爾夫·西伯特 | 申請(專利權(quán))人: | 馮·阿登納資產(chǎn)股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/56 | 分類號: | C23C14/56;C23C14/50 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 王小衡;王朝輝 |
| 地址: | 德國德*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 分批 向內(nèi) 裝載 向外 卸載 基底 真空 處理 設(shè)備 方法 | ||
1.一種真空處理設(shè)備(100),其具有:
裝卸腔室裝置(102),該裝卸腔室裝置用于將基底(520)向內(nèi)裝載到處理腔室裝置(122)中,或用于將基底(520)從處理腔室裝置(122)向外卸載;以及
在裝卸腔室裝置(102)與處理腔室裝置(122)之間的轉(zhuǎn)運(yùn)腔室裝置(112),所述轉(zhuǎn)運(yùn)腔室裝置用于在處理腔室裝置(122)中提供由分批借助于裝卸腔室裝置(102)向內(nèi)裝載的基底(520)構(gòu)成的連續(xù)序列的基底(520),或用于將連續(xù)序列的基底(520)分開,從而借助于裝卸腔室裝置(102)將基底(520)分批向外卸載;
其中,轉(zhuǎn)運(yùn)腔室裝置(112)具有轉(zhuǎn)運(yùn)腔室,該轉(zhuǎn)運(yùn)腔室具有用于在轉(zhuǎn)運(yùn)腔室中容納基底(520)的轉(zhuǎn)運(yùn)腔室長度(LT),以及
其中,裝卸腔室裝置(102)具有三個彼此鄰接的裝卸腔室(102a、102b、102c),所述裝卸腔室被設(shè)置成,使其可分別單獨(dú)借助于閥裝置(104)分開,其中,裝卸腔室中的每個具有裝卸腔室長度(LS),其中,裝卸腔室長度(LS)小于轉(zhuǎn)運(yùn)腔室長度(LT)50%;以及
閥裝置(104),該閥裝置這樣地被設(shè)置,即在第一時間間隔中三個裝卸腔室中的第一裝卸腔室(102a)和第二裝卸腔室(102b)連接成第一共用的裝卸腔室(102a、102b),在第二時間間隔中三個裝卸腔室中的第一裝卸腔室(102a)、第二裝卸腔室(102b)和第三裝卸腔室(102c)連接成第二共用的裝卸腔室(102a、102b、102c),且在第三時間間隔中三個裝卸腔室中的第二裝卸腔室(102b)和第三裝卸腔室(102c)連接成第三共用的裝卸腔室(102b、102c)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空處理設(shè)備,其此外具有運(yùn)送系統(tǒng),該運(yùn)送系統(tǒng)具有多個借助于驅(qū)動裝置被驅(qū)動的運(yùn)送輥,用于將真空處理設(shè)備(100)內(nèi)的基底(520)運(yùn)送通過裝卸腔室裝置(102)、轉(zhuǎn)運(yùn)腔室裝置(112)以及處理腔室裝置(122)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空處理設(shè)備,其中,驅(qū)動裝置這樣地被設(shè)置,即連續(xù)序列的基底(520)在處理腔室裝置(122)中均勻直線地被移動,且基底(520)在轉(zhuǎn)運(yùn)腔室裝置(112)中被加速移動。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空處理設(shè)備,其中,驅(qū)動裝置這樣地被設(shè)置,即在第一時間間隔中基底(520)被保持在第一共用的裝卸腔室(102a、102b)中,在第二時間間隔中基底(520)從第一共用的裝卸腔室(102a、102b)被運(yùn)送到第三共用的裝卸腔室(102b、102c)中,且在第三時間間隔中基底(520)被保持在第三共用的裝卸腔室(102b、102c)中。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空處理設(shè)備,其此外具有真空泵裝置,該真空泵裝置用于至少對裝卸腔室裝置(102)抽真空,其中,真空泵裝置這樣地被設(shè)置,即在第二時間間隔中第二共用的裝卸腔室(102a、102b、102c)被抽真空,而基底(520)從第一共用的裝卸腔室(102a、102b)被運(yùn)送到第三共用的裝卸腔室(102b、102c)中。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的真空處理設(shè)備,其此外具有用于對裝卸腔室裝置(102)進(jìn)行通風(fēng)的通風(fēng)裝置,其中,真空泵裝置和通風(fēng)裝置這樣地被設(shè)置,即在第三時間間隔中,第三共用的裝卸腔室(102b、102c)被抽真空或被抽成真空,而第一裝卸腔室(102a)通風(fēng)或被通風(fēng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空處理設(shè)備,其此外具有用于至少對裝卸腔室裝置(102)抽真空的真空泵裝置以及用于對裝卸腔室裝置(102)通風(fēng)的通風(fēng)裝置,其中,真空泵裝置和通風(fēng)裝置這樣地被設(shè)置,即為了向外卸載基底(520),第三共用的裝卸腔室(102b、102c)通風(fēng)或被通風(fēng),而第一裝卸腔室(102a)被抽真空或被抽成真空。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





