[發明專利]一種電子材料研磨清洗方法

在審

• 申請號: 201710353019.8
• 申請日: 2017-05-18
• 公開（公告）號: CN108499963A
• 公開（公告）日: 2018-09-07
• 發明（設計）人: 權高清
• 申請（專利權）人: 蘇州權素船舶電子有限公司
• 主分類號: B08B3/08
• 分類號: B08B3/08;B08B7/04;C09K3/14
• 代理公司: 北京華識知識產權代理有限公司 11530
• 代理人: 陳敏

本發明公開了一種電子材料研磨清洗方法，包括如下方法：a：將配比好的中和鹽和研磨顆粒進行混合攪拌制成研磨液；b：將非離子表面活性劑以及部分去離子水加入到清洗劑體系中進行攪拌混合；c：再加入pH調節劑進行酸堿度調節，并用去離子水進行稀釋制成清洗液；d：在40?60℃下，將電子材料首先置于研磨液中靜置5?25min，其后置于清洗液中清洗10?40min，并每隔1?3h就補充清洗液實施循環清洗。本發明在清洗之前靜置于研磨液中，能夠對吸附在材料表面的污漬進行研磨剝落，便于清洗，而且清洗效果顯著，無腐蝕性，綠色環保。

技術領域

本發明涉及電子材料清洗技術領域，尤其是涉及了一種電子材料研磨清洗方法。

背景技術

在電子材料的加工過程中，對電子材料表面潔凈度的要求也比較嚴格，表面的污染物將會嚴重影響電子材料的物理性質和電學性質。 電子材料在生產中每一道工序存在的潛在污染，都可能導致缺陷的產生和器件的失敗。如果清洗效果不好會直接影響器件的成品率、性能和可靠性。目前常用的傳統的清潔劑在清洗后會對材料具有一定的腐蝕作用，而且清洗效果不佳，難以滿足電子工業對清洗劑的高要求。

因此，為了解決上述存在的問題，本發明特提供了一種新的技術方案。

發明內容

本發明的目的是提供了一種電子材料研磨清洗方法。

本發明針對上述技術缺陷所采用的技術方案是：

一種電子材料研磨清洗方法，包括如下方法：

a：將配比好的中和鹽和研磨顆粒進行混合攪拌制成研磨液；

b：將非離子表面活性劑以及部分去離子水加入到清洗劑體系中進行攪拌混合；

c：再加入pH調節劑進行酸堿度調節，并用去離子水進行稀釋制成清洗液；

d：在40-60℃下，將電子材料首先置于研磨液中靜置5-25min，其后置于清洗液中清洗10-40min，并每隔1-3h就補充清洗液實施循環清洗。

進一步地，步驟a所述研磨顆粒為膠態二氧化硅、氧化鈰、氧化鋁和金剛石中的一種或一種以上的組合。

進一步地，步驟a所述中和鹽和研磨顆粒的比例為1:100-1000。

進一步地，所述研磨液中和清洗液中均添加有防腐劑。

本發明的有益效果是：本發明在清洗之前靜置于研磨液中，能夠對吸附在材料表面的污漬進行研磨剝落，便于清洗，而且清洗效果顯著，無腐蝕性，綠色環保。

具體實施方式

為了加深對本發明的理解，下面將結合實施例對本發明作進一步詳述，該實施例僅用于解釋本發明，并不構成對本發明的保護范圍的限定。

實施例1

一種電子材料研磨清洗方法，包括如下方法：

a：將1份中和鹽和100份二氧化硅進行混合攪拌制成研磨液，研磨液中添加有防腐劑；

b：將非離子表面活性劑以及部分去離子水加入到清洗劑體系中進行攪拌混合；

c：再加入pH調節劑進行酸堿度調節，并用去離子水進行稀釋制成清洗液；

d：在40℃下，將電子材料首先置于研磨液中靜置5min，其后置于清洗液中清洗10min，并每隔1h就補充清洗液實施循環清洗。

實施例2

一種電子材料研磨清洗方法，包括如下方法：

a：將1份中和鹽和500份氧化鈰進行混合攪拌制成研磨液，研磨液中添加有防腐劑；