[發(fā)明專利]一種電子材料研磨清洗方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710353019.8 | 申請(qǐng)日： | 2017-05-18 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN108499963A | 公開（公告）日： | 2018-09-07 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 權(quán)高清 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 蘇州權(quán)素船舶電子有限公司 |
| 主分類號(hào)： | B08B3/08 | 分類號(hào)： | B08B3/08;B08B7/04;C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京華識(shí)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11530 | 代理人： | 陳敏 |
| 地址： | 215400 江蘇省蘇州*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 清洗 電子材料 研磨 清洗液 研磨液 去離子水 清洗劑 非離子表面活性劑 酸堿度調(diào)節(jié) 綠色環(huán)保 清洗效果 循環(huán)清洗 研磨顆粒 污漬 中和鹽 配比 吸附 稀釋 剝落 并用 補(bǔ)充 | ||
1.一種電子材料研磨清洗方法，其特征在于：包括如下方法：
a：將配比好的中和鹽和研磨顆粒進(jìn)行混合攪拌制成研磨液；
b：將非離子表面活性劑以及部分去離子水加入到清洗劑體系中進(jìn)行攪拌混合；
c：再加入pH調(diào)節(jié)劑進(jìn)行酸堿度調(diào)節(jié)，并用去離子水進(jìn)行稀釋制成清洗液；
d：在40-60℃下，將電子材料首先置于研磨液中靜置5-25min，其后置于清洗液中清洗10-40min，并每隔1-3h就補(bǔ)充清洗液實(shí)施循環(huán)清洗。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電子材料研磨清洗方法，其特征在于：步驟a所述研磨顆粒為膠態(tài)二氧化硅、氧化鈰、氧化鋁和金剛石中的一種或一種以上的組合。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電子材料研磨清洗方法，其特征在于：步驟a所述中和鹽和研磨顆粒的比例為1:100-1000。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電子材料研磨清洗方法，其特征在于：所述研磨液中和清洗液中均添加有防腐劑。
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